JP6393335B2 - 光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板および有機ｅｌ表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学積層体の製造方法、光学積層体、偏光板および有機ＥＬ表示装置に関する。

位相差板は、非常に多くの用途を有しており、既に反射型液晶ディスプレイ（Liquid Crystal Display：ＬＣＤ）、半透過型ＬＣＤ、輝度向上膜、有機エレクトロルミネッセンス（Electroluminescence：ＥＬ）表示装置、タッチパネル等に使用されている。例えば、有機ＥＬ表示装置は、屈折率の異なる層を積層する構造や、金属電極を用いる構造を有するため、外光が各層の界面で反射し、コントラスト低下や映り込みの問題などを生じることがある。そこで、従来から、外光反射による悪影響を抑制するために、位相差板と偏光膜とから構成される偏光板が有機ＥＬ表示装置やＬＣＤ表示装置などに使用されている。

例えば、特許文献１には、透明支持体と、所定の構造式で表されるディスコティック液晶性化合物を含有する組成物から形成される第１光学異方性層（Ｈ）および棒状液晶性化合物を含有する組成物から形成される第２光学異方性層（Ｑ）を有する積層光学異方性層と、を備える位相差板が記載されている（［請求項１］）。

また、特許文献２には、有機ＥＬ表示装置の一態様として、少なくとも偏光子層と、１層以上からなる透明支持体層と、ディスコティック液晶性化合物を含む層からなるλ／２板と、ディスコティック液晶性化合物を含む層からなるλ／４板と、有機ＥＬパネルとをこの順に備える有機ＥＬ表示装置が記載されている（［請求項７］）。

国際公開第２０１４／０７３６１６号 国際公開第２０１３／１３７４６４号

本発明者らは、特許文献１に記載された積層光学異方性層や、特許文献２に記載されたλ／２板とλ／４板との積層体などの従来公知の光学積層体について検討したところ、光学異方性層が互いに直接接する態様においては、光学異方性層を形成する組成物（塗布液）の組成によっては、作製される光学積層体の表面に１０個／１００ｃｍ²程度の頻度で窪み（点欠陥）が生じる場合や、光学積層体を構成する光学異方性層に膜厚ムラが生じたりする場合があることを明らかとした。

そこで、本発明は、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体およびその製造方法ならびに光学積層体を用いた偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することを課題とする。

本発明者らは、上記課題を達成すべく鋭意検討した結果、光学異方性層または光学異方性層を形成する組成物に含まれるフッ素化合物について着目したところ、このフッ素化合物を含有する所定の溶液の表面張力が、互いに直接接する光学異方性層同士で特定の関係を満たすことにより、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体となることを見出し、本発明を完成させた。
すなわち、以下の構成により上記課題を達成することができることを見出した。

［１］ 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有し、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接して設けられる光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、
光学異方性層Ａを形成する組成物ａと、光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂとが、いずれもフッ素化合物を含有し、
組成物ａを用いて光学異方性層Ａを形成した後に、組成物ｂを用いて光学異方性層Ｂを形成する際に、組成物ａおよび組成物ｂが、下記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順で形成する、光学積層体の製造方法。
Ｅ_ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（１）
Ｅ_ａ−Ｅ_ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（２）
ここで、Ｅ_ａは、組成物ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ａの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
同様に、Ｅ_ｂは、組成物ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ｂの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
［２］ 組成物ａおよび組成物ｂのいずれか一方または両方が、液晶性化合物を含有する組成物である、［１］に記載の光学積層体の製造方法。

［３］ 透明支持体と、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとをこの順に有する光学積層体であって、
光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接しており、
光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂがいずれもフッ素化合物を含有し、
下記式（３）および（４）をいずれも満たす、光学積層体。
Ｅ_Ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（３）
Ｅ_Ａ−Ｅ_Ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（４）
ここで、Ｅ_Ａは、光学異方性層Ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、光学異方性層ＡのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
同様に、Ｅ_Ｂは、光学異方性層Ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、光学異方性層ＢのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
［４］ ［３］に記載の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板。
［５］ ［３］に記載の光学積層体、または、［４］に記載の偏光板を有する、有機ＥＬ表示装置。

本発明によれば、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体およびその製造方法ならびに光学積層体を用いた偏光板および有機ＥＬ表示装置を提供することができる。

図１は、本発明の光学積層体の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 図２（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。 図３（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。
なお、本明細書において、「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。
次に、本明細書で用いられる用語について説明する。

Ｒｅ（λ）、および、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および、厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＫＯＢＲＡ ＷＲ（いずれも王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルタをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）の測定方法の詳細は、特開２０１３−０４１２１３号公報の段落００１０〜００１２に記載され、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

なお、本明細書では、測定波長について特に付記がない場合は、測定波長は５５０ｎｍである。
また、本明細書において、角度（例えば「９０°」等の角度）、およびその関係（例えば「直交」、「平行」、「同一方向」、及び「４５°で交差」等）については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含むものとする。この時、許容される誤差としては、例えば、厳密な角度±１０°未満の範囲内であることなどを意味し、具体的に厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。

［光学積層体の製造方法］
本発明の光学積層体の製造方法（以下、「本発明の製造方法」とも略す。）は、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有し、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接して設けられる光学積層体を作製するための製造方法である。
本発明の製造方法においては、光学異方性層Ａを形成する組成物ａ、および、光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂは、いずれも後述するフッ素化合物を含有しており、また、いずれか一方または両方が後述する液晶性化合物を含有しているのが好ましい。
また、本発明の製造方法においては、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂの形成は、組成物ａを用いて光学異方性層Ａを形成した後に、組成物ｂを用いて光学異方性層Ｂを形成して行うが、その際に、組成物ａおよび組成物ｂが、下記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを形成することを特徴とする。
Ｅ_ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（１）
Ｅ_ａ−Ｅ_ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（２）
式中、Ｅ_ａは、組成物ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ａの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
同様に、Ｅ_ｂは、組成物ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ｂの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。

ここで、上述した表面張力は、垂直板法（Ｗｉｌｈｅｌｍｙ法）により測定した値をいい、液温度２５℃±０．５℃の条件下で、表面張力装置（例えば、協和界面科学社製の全自動表面張力計ＣＢＶＰ−Ｚなど）を用いて測定した値をいう。

本発明の製造方法においては、上述した構成を有することにより、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体を作製することができる。
このように光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、光学積層体の点欠陥がなくなる理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
まず、点欠陥および膜厚ムラが生じる原因に関して、従来の公知の光学積層体の製造方法では一般的に先に形成される第１光学異方性層（例えば、λ／２板など）を形成した後にラビング処理を施すが、このラビング処理の際に第１光学異方性層の表層付近に存在するフッ素化合物（例えば、配向制御剤）の凝集が起こり、この凝集物が後に形成される第２光学異方性層（例えば、λ／４板など）を形成する塗布液に移行して表面に浮上することにより、第２光学異方性層形成する塗布液表面に表面張力差が生じてしまうことが原因であると考えられる。
これに対し、上述した通り、本発明の製造方法では、先に形成される光学異方性層Ａの組成物ａと、後に形成される光学異方性層Ｂの組成物ｂとが、上記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で光学異方性層ＡおよびＢを形成することにより、上述したフッ素化合物の凝集物が光学異方性層Ｂを形成する塗布液の表面に浮上することを抑制し、その結果、点欠陥および膜厚ムラが抑制できたと考えられる。
以下に、本発明の製造方法で用いる組成物や各処理工程について詳述する。

〔光学異方性層Ａを形成する組成物ａ〕
光学異方性層Ａを形成する組成物ａは、少なくともフッ素化合物を含有しており、液晶性化合物を含有しているのが好ましく、更に、重合開始剤および溶媒などを含有しているのがより好ましい。

＜フッ素化合物＞
組成物ａに含有するフッ素化合物は、フッ素元素を含有する化合物であれば特に限定されず、例えば、液晶組成物に配合する従来公知の配向制御剤や界面活性剤から適宜選択して用いることができる。
ここで、配向制御剤として用いられているフッ素化合物としては、例えば、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［００８６］〜［０１０１］段落に記載の化合物（配向膜界面側垂直配向剤）や、同文献の［０１０２］〜［０１１３］段落に記載の化合物に記載の化合物（空気界面側垂直配向剤）などが挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。
また、界面活性剤として用いられているフッ素化合物としては、例えば、特開２００１−３３０７２５号公報の［００２８］〜［００５６］段落に記載の化合物や、特開２００５−０６２６７３号公報の［００６９］〜［０１２６］段落に記載の化合物などが挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

また、本発明においては、フッ素化合物の他の例として、特開２００８−２５７２０５号公報の請求項１４で規定されているポリマー（すなわち、下記一般式（Ａ）で表される構成単位と下記一般式（Ｂ）で表される構成単位とを含むポリマー）や、同公報の請求項１５で規定されているチルト角制御剤（すなわち、下記一般式（Ａ）で表される構成単位およびフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を含むポリマー）を用いることができ、その具体例としては、同公報の［００２３］〜［００６３］段落に記載のポリマーが挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。


ここで、一般式（Ａ）中、Ｍｐはポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌは単結合又は２価の連結基を表し、Ｘは置換もしくは無置換の芳香族縮合環官能基を表し；一般式（Ｂ）中、Ｍｐ’はポリマーの主鎖の一部を構成する３価の基を表し、Ｌ’は単結合又は２価の連結基を表し、Ｒｆは少なくとも一つのフッ素原子を含有する置換基を表す。

本発明においては、フッ素化合物が、フルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を少なくとも含むポリマーであるのが好ましい。
ここで、このようなポリマーの重量平均分子量が、１，０００，０００以下であるのが好ましく、５００，０００以下であるのがより好ましく、１０，０００〜１００，０００であるのが更に好ましい。
ここで、重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定したポリスチレン（ＰＳ）換算値をいい、例えば、ＴＳＫｇｅｌ ＧＭＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ４０００ＨｘＬ、ＴＳＫｇｅｌ Ｇ２０００ＨｘＬ（いずれも東ソー（株）製の商品名）のカラムを使用し、溶離液としてＴＨＦ（テトラヒドロフラン）を使用したＧＰＣ分析装置により求めることができる。

また、本発明においては、組成物ａ中におけるフッ素化合物の含有量（フッ素化合物を２種以上併用する場合は合計の含有量）は、上記式（１）を満たすことが容易となり、光学異方性層の膜厚ムラがより抑制される理由から、組成物ａの全固形分に対して、０．０１〜５質量％であるのが好ましく、０．０５〜１質量％であるのがより好ましく、０．１質量％以上０．５質量％未満であるのが更に好ましい。

＜液晶性化合物＞
一般的に、液晶性化合物はその形状から、棒状タイプと円盤状タイプに分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプがある。高分子とは一般に重合度が１００以上のものを指す（高分子物理・相転移ダイナミクス，土井 正男 著，２頁，岩波書店，１９９２）。本発明では、いずれの液晶性化合物を用いることもできるが、棒状液晶性化合物（以下、「ＣＬＣ」または「ＣＬＣ化合物」とも略す。）またはディスコティック液晶性化合物（円盤状液晶性化合物）（以下、「ＤＬＣ」または「ＤＬＣ化合物」とも略す。）を用いるのが好ましい。２種以上の棒状液晶性化合物、２種以上の円盤状液晶性化合物、または棒状液晶性化合物と円盤状液晶性化合物との混合物を用いてもよい。上述の液晶性化合物の固定化のために、重合性基を有する棒状液晶性化合物または円盤状液晶性化合物を用いて形成することがより好ましく、液晶性化合物が１分子中に重合性基を２以上有することがさらに好ましい。液晶性化合物が二種類以上の混合物の場合には、少なくとも１種類の液晶性化合物が１分子中に２以上の重合性基を有していることが好ましい。
棒状液晶性化合物としては、例えば、特表平１１−５１３０１９号公報の請求項１や特開２００５−２８９９８０号公報の段落［００２６］〜［００９８］に記載のものを好ましく用いることができ、ディスコティック液晶性化合物としては、例えば、特開２００７−１０８７３２号公報の段落［００２０］〜［００６７］や特開２０１０−２４４０３８号公報の段落［００１３］〜［０１０８］に記載のものを好ましく用いることができるが、これらに限定されない。

液晶性化合物の分子は、垂直配向、水平配向、ハイブリッド配向および傾斜配向のいずれかの配向状態に固定化されていることが好ましい。

ここで、ハイブリッド配向とは、円盤状液晶性化合物の分子の円盤面または棒状液晶性化合物の分子の分子対称軸と層平面との角度が、光学異方性層の深さ方向でかつ配向膜の表面からの距離の増加と共に増加または減少している配向である。
上記角度は、距離の増加と共に増加することが好ましい。
また、上記角度の変化としては、連続的増加、連続的減少、間欠的増加、間欠的減少、連続的増加と連続的減少を含む変化、あるいは、増加及び減少を含む間欠的変化が可能である。間欠的変化は、厚さ方向の途中で傾斜角が変化しない領域を含んでいる。
更に、上記角度は、角度が変化しない領域を含んでいても、全体として増加または減少していればよいが、連続的に変化することが好ましい。もちろん均一に一様に傾斜した配向でもよい。
このようなハイブリッド配向状態に液晶性化合物が固定化された態様としては、例えば、捩れ配向モード液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる態様が挙げられ、具体的には、特開２０１２−３１８３号公報の段落［０１２３］〜［０１２６］に記載のものを好ましく用いることができるが、本発明はこれらに限定されない。

一方、光学異方性層をλ／４板として機能させるために、液晶性化合物の配向状態を制御することがある。
ここで、λ／４板（λ／４機能を有する板）とは、ある特定の波長の直線偏光を円偏光に（または円偏光を直線偏光に）変換する機能を有する板である。より具体的には、所定の波長λｎｍにおける面内レターデーション値がλ／４（または、この奇数倍）を示す板である。

λ／４板を構成する材料は上記特性を示せば特に制限されず、上述した液晶性化合物を含む態様（例えば、ホモジニアス配向した液晶性化合物を含む光学異方性層）や、ポリマーフィルムなどが挙げられる。なかでも、上記特性の制御がしやすい点で、液晶性化合物を含むことが好ましい。より具体的には、λ／４板は、重合性基を有する液晶性化合物（棒状液晶性化合物またはディスコティック液晶性化合物）が重合等によって固定されて形成された層であることが好ましい。なお、固定されて形成された層となった後は、もはや液晶性を示す必要はない。
このとき、棒状液晶性化合物を用いる場合には、棒状液晶性化合物を水平配向した状態で固定化するのが好ましく、ディスコティック液晶性化合物を用いる場合には、ディスコティック液晶性化合物を垂直配向した状態で固定化するのが好ましい。なお、本発明において、「棒状液晶性化合物が水平配向」とは、棒状液晶性化合物のダイレクタと層面が平行であることを言い、「ディスコティック液晶性化合物が垂直配向」とは、ディスコティック液晶性化合物の円盤面と層面が垂直であることを言う。厳密に水平、垂直であることを要求するものではなく、それぞれ正確な角度から±２０°の範囲であることを意味するものとする。±５°以内であることが好ましく、±３°以内であることがより好ましく、±２°以内であることがさらに好ましく、±１°以内であることが最も好ましい。

＜重合開始剤＞
液晶組成物は、上述した液晶性化合物の配向状態を維持して固定する観点から、重合開始剤を用いて液晶性化合物を重合させることが好ましい。
使用される重合開始剤は、重合反応の形式に応じて、熱重合開始剤、光重合開始剤が挙げられる。例えば、光重合開始剤としては、α−カルボニル化合物、アシロインエーテル、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物、多核キノン化合物、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ、アクリジンおよびフェナジン化合物およびオキサジアゾール化合物が含まれる。
重合開始剤の使用量は、組成物ａの全固形分に対して、０．０１質量％〜２０質量％であることが好ましく、０．５質量％〜５質量％であることが更に好ましい。

＜溶媒＞
組成物ａは、溶媒が含まれていてもよく、有機溶媒が好ましく用いられる。
有機溶媒としては、具体的には、アミド（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなど）、スルホキシド（例えば、ジメチルスルホキシドなど）、ヘテロ環化合物（例えば、ピリジンなど）、炭化水素（例えば、ベンゼン、ヘキサンなど）、アルキルハライド（例えば、クロロホルム、ジクロロメタンなど）、エステル（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなど）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトンなど）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタンなど）が挙げられ、これらを１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
これらのうち、アルキルハライドおよびケトンが好ましい。

＜他の添加剤＞
本発明においては、上述したフッ素化合物や任意の液晶性化合物などと共に、可塑剤等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。

〔光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂ〕
光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂは、少なくともフッ素化合物を含有しており、液晶性化合物を含有しているのが好ましく、更に、重合開始剤および溶媒などを含有しているのがより好ましい。
ここで、組成物ｂに含まれるフッ素化合物や任意の液晶性化合物、重合開始剤、溶媒などについては、上述した組成物ａにおいて説明したものと同様のものを用いることができる。

＜フッ素化合物＞
組成物ｂに含有するフッ素化合物は、上述したように、組成物ａに含有するフッ素化合物と同様のものを用いることができるが、組成物ｂ中におけるフッ素化合物の含有量（フッ素化合物を２種以上併用する場合は合計の含有量）は、上記式（２）を満たすことが容易となり、点欠陥の発生をより確実に抑制できる理由から、組成物ｂの全固形分に対して、０．１〜１０質量％であるのが好ましく、０．３〜５質量％であるのがより好ましく、０．５〜３質量％であるのが更に好ましい。
また、同様の理由から、組成物ｂに含有するフッ素化合物は、好適例であるフルオロ脂肪族基含有モノマーより誘導される構成単位を少なくとも含むポリマーのうちでも、この構成単位を５０質量％以上含有する単独重合体または共重合体を用いるのが好ましい。

〔組成物ａと組成物ｂとの関係〕
本発明の製造方法は、上述したように、組成物ａおよび組成物ｂが、下記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順で形成することを特徴とする。
Ｅ_ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（１）
Ｅ_ａ−Ｅ_ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（２）

上記式（１）および（２）中、Ｅ_ａは、組成物ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ａの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
ここで、「・・・混合溶媒に、組成物ａの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液」とは、例えば、Ｘ＝１０ｇとした時に、組成物ａの固形分１０ｇ中に、フッ素化合物１ｇおよび液晶性化合物９ｇが含まれている場合には、上記混合溶媒９ｇにフッ素化合物１ｇを溶解させた１０ｇの溶液をいう。
同様に、上記式（２）中、Ｅ_ｂは、組成物ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、組成物ｂの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
ここで、「・・・混合溶媒に、組成物ｂの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液」とは、例えば、Ｘ＝１０ｇとした時に、組成物ｂの固形分１０ｇ中に、フッ素化合物１ｇおよび液晶性化合物９ｇが含まれている場合には、上記混合溶媒９ｇにフッ素化合物１ｇを溶解させた１０ｇの溶液をいう。

本発明においては、光学異方性層の膜厚ムラがより抑制され、点欠陥の発生をより確実に抑制できる理由から、組成物ａおよび組成物ｂが、下記式（１ａ）および上記式（２）をいずれも満たす条件で光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順で形成することが好ましい。
Ｅ_ａ≦２４．７［ｍＮ／ｍ］ ・・・（１ａ）

〔処理工程〕
本発明の製造方法は、上述した組成物ａおよび組成物ｂを用い、上記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂをこの順で形成方法であれば、塗布方法や配向処理などの各処理工程は特に限定されない。
このような処理工程としては、例えば、下記工程（１）〜（６）に示す工程が挙げられる。なお、下記工程（１）〜（６）における塗布、加熱処理、硬化処理、ラビングなどの条件については、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［０１２９］〜［０１３６］段落に記載された位相差板の製造方法における各工程を適宜採用することができる。
工程（１）：透明支持体上に配向膜を設ける。
工程（２）：配向膜上に、フッ素化合物および液晶性化合物Ａ（例えば、ディスコティック液晶性化合物）を含有する塗布液ａを塗布して、必要により加熱処理を行い、液晶性化合物Ａを配向させる工程
工程（３）：液晶性化合物Ａに対して、硬化処理を施し、光学異方性層Ａを形成する工程
工程（４）：光学異方性層Ａ上をラビングする。
工程（５）：ラビングした光学異方性層Ａ上に、フッ素化合物および液晶性化合物Ｂ（例えば、棒状液晶性化合物）を含有する組成物ｂを塗布して、必要に応じて加熱処理を行い、液晶性化合物Ｂを配向させる工程
工程（６）：液晶性化合物Ｂに対して、硬化処理を施し、光学異方性層Ｂを形成する工程

［光学積層体］
本発明の光学積層体は、透明支持体と、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとをこの順に有する光学積層体であって、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが直接接して設けられる光学積層体である。
本発明の光学積層体においては、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂがいずれもフッ素化合物を含有し、また、いずれか一方または両方が後述する液晶性化合物を含有しているのが好ましい。
また、本発明の光学積層体においては、下記式（３）および（４）をいずれも満たすことを特徴とする。
Ｅ_Ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（３）
Ｅ_Ａ−Ｅ_Ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（４）
式中、Ｅ_Ａは、光学異方性層Ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、光学異方性層ＡのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
同様に、Ｅ_Ｂは、光学異方性層Ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、光学異方性層ＢのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。

ここで、表面張力の測定方法は、上述した本発明の製造方法において説明した測定方法と同様である。
また、Ｅ_Ａの説明における「・・・混合溶媒に、光学異方性層ＡのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液」とは、例えば、Ｙ＝１０ｇとした時に、光学異方性層Ａの１０ｇ中に、フッ素化合物１ｇおよび固定ないし重合後の液晶性化合物９ｇが含まれている場合には、上記混合溶媒９ｇにフッ素化合物１ｇを溶解させた１０ｇの溶液をいう。
同様に、Ｅ_Ｂの説明における「・・・混合溶媒に、光学異方性層ＢのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液」とは、例えば、Ｙ＝１０ｇとした時に、光学異方性層Ｂの１０ｇ中に、フッ素化合物１ｇおよび固定ないし重合後の液晶性化合物９ｇが含まれている場合には、上記混合溶媒９ｇにフッ素化合物１ｇを溶解させた１０ｇの溶液をいう。

本発明の光学積層体においては、上述した構成を有することにより、光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、点欠陥のない光学積層体となる。
このように光学異方性層の膜厚ムラが抑制され、光学積層体の点欠陥がなくなる理由は、詳細には明らかではないが、およそ以下のとおりと推測される。
すなわち、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂが、上記式（３）および（４）をいずれも満たすことにより、上述した本発明の製造方法と同様、光学異方性層Ａ中のフッ素化合物の凝集物が光学異方性層Ｂを形成する塗布液の表面に浮上することを抑制し、その結果、点欠陥および膜厚ムラが抑制できたと考えられる。

図１は、本発明の光学積層体の実施態様の一例を模式的に示す断面図である。
図１に示す光学積層体１０は、透明支持体１２と、光学異方性層（Ａ）１４と、光学異方性層（Ｂ）１６とをこの順に有する。
以下に、本発明の光学積層体を構成する各層について詳述する。

〔透明支持体〕
本発明の光学積層体が有する透明支持体は、光学異方性層Ａおよび光学異方性層Ｂを支持する基材である。
ここで、透明支持体を形成する材料や添加剤、透明支持体の厚みなどについては、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［００２０］〜［００２３］段落に記載された材料などが挙げられ、その内容は本明細書に参照として取り込まれる。

〔光学異方性層Ａ〕
本発明の光学積層体が有する光学異方性層Ａは、少なくともフッ素化合物を含有する光学異方性層であれば特に限定されず、液晶性化合物を含有する組成物から形成される光学異方性層であるのが好ましく、上述した本発明の製造方法で記載した組成物ａで形成される光学異方性層であるのがより好ましい。
本発明の光学積層体は、光学異方性層Ａおよび後述する光学異方性層Ｂを有しているため、上述したように、例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板として機能させるのが好ましい。なお、広帯域λ／４板中において、λ／４板の面内遅相軸とλ／２板の面内遅相軸とのなす角度は６０°であることが好ましい。
また、λ／４板の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用でき、例えば、特開２００４−２３８４３１号公報の［００９７］段落に記載された広帯域λ／４板の製造方法や、特許文献１（国際公開第２０１４／０７３６１６号）の［０１２９］〜［０１３６］段落に記載された位相差板の製造方法などが挙げられる。

〔光学異方性層Ｂ〕
本発明の光学積層体が有する光学異方性層Ｂは、少なくともフッ素化合物を含有する光学異方性層であれば特に限定されず、液晶性化合物を含有する組成物から形成される光学異方性層であるのが好ましく、上述した本発明の製造方法で記載した組成物ｂで形成される光学異方性層であるのがより好ましい。

〔配向膜〕
本発明の光学積層体は、上述した透明支持体と光学異方性層Ａとの間に、配向膜を形成してもよい。

配向膜は、一般的にはポリマーを主成分とする。配向膜用ポリマー材料としては、多数の文献に記載があり、多数の市販品を入手することができる。本発明において利用されるポリマー材料は、ポリビニルアルコール又はポリイミド、及びその誘導体が好ましい。特に変性又は未変性のポリビニルアルコールが好ましい。本発明に使用可能な配向膜については、ＷＯ０１／８８５７４Ａ１号公報の４３頁２４行〜４９頁８行、特許第３９０７７３５号公報の段落［００７１］〜［００９５］に記載の変性ポリビニルアルコールを参照することができる。
配向膜の厚さは、酸素透過度の観点からは薄い方が好ましいが、光学異方性層形成のための配向能の付与、および、支持体の表面凹凸を緩和して均一な膜厚の光学異方性層を形成するという観点からはある程度の厚みが必要となる。具体的には、配向膜の厚さは、０．０１〜１０μｍであることが好ましく、０．０１〜１μｍであることがより好ましく、０．０１〜０．５μｍであることがさらに好ましい。

また、本発明では光配向膜を利用することも好ましい。光配向膜としては特に限定はされないが、ＷＯ２００５／０９６０４１号公報の段落［００２４］〜［００４３］に記載のものやＲｏｌｉｃ ｅｃｈｎｏｌｏｇｉｅｓ社製の商品名ＬＰＰ−ＪＰ２６５ＣＰなどを用いることができる。

［偏光板］
本発明の偏光板は、上述した本発明の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板である。
上記構成を有する本発明の偏光板は、上述した本発明の光学積層体がλ／４板として機能する態様（例えば、λ／４板とλ／２板とを積層してなる広帯域λ／４板）では円偏光板として機能する。
このような態様においては、本発明の偏光板（円偏光板）は、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル（Plasma Display Panel：ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（Electroluminescence Display：ＥＬＤ）や陰極管表示装置（Cathode Ray Tube：ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。
例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に本発明の円偏光板を用いた態様が挙げられる。この場合、外光は偏光膜によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが金属電極にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光膜に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。

図２（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の偏光板の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
図２（Ａ）に示す偏光板１００は、光学積層体１０と、偏光膜２０とを有する。
また、図２（Ｂ）に示すように、偏光板１１０は、光学積層体１０および偏光膜２０とともに、保護膜２２とを有していてもよい。
更に、図２（Ｃ）に示すように、偏光板１２０は、位相差板１０と、偏光膜２０と、保護膜２２と、機能層２４とを有する。機能層２４としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
以下に、本発明の位相差板を構成する各層のうち、上述した本発明の光学積層体以外について詳述する。

〔偏光膜〕
本発明の偏光板が有する偏光膜（偏光子層）は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光膜の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、およびポリエン系偏光膜のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
なお、偏光膜は、その両面に保護フィルムが貼合された偏光板として用いられることが一般的である。

〔保護膜〕
本発明の偏光板が有していてもよい保護膜は、特に限定されず、通常用いるポリマーフィルムを用いることができる。
ポリマーフィルムを構成するポリマーとしては、具体的には、例えば、セルロース系ポリマー；ポリメチルメタクリレート、ラクトン環含有重合体等のアクリル酸エステル重合体を有するアクリル系ポリマー；熱可塑性ノルボルネン系ポリマー；ポリカーボネート系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー；ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマー；ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレン共重合体等のポリオレフィン系ポリマー；、塩化ビニル系ポリマー；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー；イミド系ポリマー；スルホン系ポリマー；ポリエーテルスルホン系ポリマー；ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー；ポリフェニレンスルフィド系ポリマー；塩化ビニリデン系ポリマー；ビニルアルコール系ポリマー；ビニルブチラール系ポリマー；アリレート系ポリマー；ポリオキシメチレン系ポリマー；エポキシ系ポリマー；またはこれらのポリマーを混合したポリマーが挙げられる。

〔機能層〕
本発明の偏光板が有していてもよい機能層としては、上述した通り、例えば、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
例えば、反射防止層は、最も単純な構成では、フィルムの最表面に低屈折率層のみを塗設した構成である。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。

［有機ＥＬ表示装置］
本発明の有機ＥＬ表示装置は、上述した本発明の光学積層体または本発明の偏光板を有する有機ＥＬ表示装置である。

図３（Ａ）〜（Ｃ）は、それぞれ、本発明の有機ＥＬ表示装置の実施形態の一例を示す模式的な断面図である。
図３（Ａ）に示す有機ＥＬ表示装置は、少なくとも、有機ＥＬパネル２６と、光学積層体１０と、偏光膜２０とを有する。
また、図３（Ｂ）に示すように、有機ＥＬ表示装置２１０は、偏光膜２０上にさらに保護膜２２を有していてもよく、図３（Ｃ）に示すように、有機ＥＬ表示装置２２０は、偏光膜２０上に保護膜２２および機能層２４を有していてもよい。

有機ＥＬパネルは、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。

陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。

以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。

〔実施例１〕
＜透明支持体Ａの作製＞
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
──────────────────────────────────
セルロースアシレート溶液Ａの組成
──────────────────────────────────
置換度２．８６のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール １１質量部
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別のミキシングタンクに、下記の組成物を投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、添加剤溶液Ｂを調製した。
──────────────────────────────────
添加剤溶液Ｂの組成
──────────────────────────────────
下記化合物Ｂ１（Ｒｅ低下剤） ４０質量部
下記化合物Ｂ２（波長分散制御剤） ４質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ８０質量部
メタノール（第２溶媒） ２０質量部
──────────────────────────────────

セルロースアシレート溶液Ａを４７７質量部に、添加剤溶液Ｂの４０質量部を添加し、充分に攪拌して、ドープを調製した。ドープを流延口から０℃に冷却したドラム上に流延した。溶媒含有率７０質量％の場外で剥ぎ取り、フィルムの巾方向の両端をピンテンター（特開平４−１００９号の図３に記載のピンテンター）で固定し、溶媒含有率が３〜５質量％の状態で、横方向（機械方向に垂直な方向）の延伸率が３％となる間隔を保ちつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚み６０μｍのセルロースアセテート保護フィルム（透明支持体Ａ）を作製した。
透明支持体Ａは紫外線吸収剤を含有しておらず、Ｒｅ（５５０）は０ｎｍであり、Ｒｔｈ（５５０）は１２．３ｎｍであった。

＜アルカリ鹸化処理＞
セルロースアセテート透明支持体Ａを、温度６０℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱し、（株）ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理したセルロースアセテート透明支持体Ａを作製した。

──────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
──────────────────────────────────
水酸化カリウム ４．７質量部
水 １５．８質量部
イソプロパノール ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ₁₄Ｈ₂₉Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₂₀Ｈ １．０質量部
プロピレングリコール １４．８質量部
──────────────────────────────────

＜配向膜の形成＞
上記作製した透明支持体Ａの鹸化処理を施した面に、下記の組成の配向膜形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
──────────────────────────────────
配向膜形成用塗布液の組成
──────────────────────────────────
配向膜用ポリマー材料 ４．０質量部
（ＰＶＡ１０３、クラレ（株）製ポリビニルアルコール）
メタノール ３６質量部
水 ６０質量部
──────────────────────────────────

＜光学異方性層Ａの形成＞
上記作製した配向膜表面に、透明支持体Ａの長手方向に対し右手１５°の方向に連続的にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記の光学異方性層用塗布液（組成物ａ）を、ギーサー塗布機を用いて塗布した。次いで、膜面温度１２８℃で４０秒間加熱熟成した後、９０℃まで冷却し空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射量３００ｍＪ／ｃｍ²となるよう照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ａを形成した。形成された光学異方性層Ａは、ラビング方向に対し遅相軸方向が直交にディスコティック液晶が垂直配向していた。光学異方性層Ａの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのレターデーション値は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ａの厚みは１．８μｍであった。
Ｒｅ４５０Ａ：２６２ｎｍ
Ｒｅ５５０Ａ：２４０ｎｍ
Ｒｅ６５０Ａ：２３０ｎｍ
Ｒｅ４５０Ａ／Ｒｅ６５０Ａ：１．１４

──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液（組成物ａ）の組成
──────────────────────────────────
下記ディスコティック液晶Ｅ−１ ８０質量部
下記ディスコティック液晶Ｅ−２ ２０質量部
下記配向膜界面配向剤１ ０．５５質量部
下記配向膜界面配向剤２ ０．０５質量部
下記フッ素化合物ＦＰ−１ ０．２１質量部
下記変性トリメチロールプロパントリアクリレート ５質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
下記層間配向剤 １．２質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
──────────────────────────────────

＜光学異方性層Ｂの形成＞
上記光学異方性層Ａの表面を、透明支持体Ａの長手方向に対し左手１５°の方向に連続的にラビング処理を施した。ラビング処理面上に下記の光学異方性層用塗布液（組成物ｂ）を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度４０℃で８０秒間加熱熟成し、空気下にて２０ｍＷ／ｃｍ²の空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより光学異方性層Ｂを形成し、光学積層体を作製した。形成された光学異方性層Ｂは、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行に棒状液晶が水平配向していた。光学異方性層Ｂの波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍおよび６５０ｎｍのレターデーション値は、以下の通りであった。なお、光学異方性層Ｂの厚みは１．０μｍであった。
Ｒｅ４５０Ｂ：１４１ｎｍ
Ｒｅ５５０Ｂ：１２５ｎｍ
Ｒｅ６５０Ｂ：１２０ｎｍ
Ｒｅ４５０Ｂ／Ｒｅ６５０Ｂ：１．１８

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光学異方性層用塗布液（組成物ｂ）の組成
──────────────────────────────────
下記棒状液晶性化合物１ ７０質量部
下記棒状液晶性化合物２ ３０質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
下記フッ素化合物ＦＰ−１ １．０質量部
下記フッ素化合物ＦＰ−２ ０．５質量部
メチルエチルケトン ４００質量部
──────────────────────────────────

〔実施例２〜４〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−１に代えて下記フッ素化合物ＦＰ−３を用い、組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−２の添加量を下記表１に示す添加量に変更した以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例５〜６〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−１に代えて上記フッ素化合物ＦＰ−２を用い、組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−１および上記フッ素化合物ＦＰ−２に代えて下記フッ素化合物ＦＰ−４を下記表１に示す添加量で配合した以外は、実施例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔実施例７〕
以下に示す組成物ａを用いて光学異方性層Ａを形成した以外は、実施例２と同様の方法で光学積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液（組成物ａ）の組成
──────────────────────────────────
上記棒状液晶性化合物１ ７０質量部
上記棒状液晶性化合物２ ３０質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
上記フッ素化合物ＦＰ−３ ０．２１質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
──────────────────────────────────

〔実施例８〕
以下に示す組成物ａを用いて光学異方性層Ａを形成した以外は、実施例５と同様の方法で光学積層体を作製した。
──────────────────────────────────
光学異方性層用塗布液（組成物ａ）の組成
──────────────────────────────────
上記棒状液晶性化合物１ ７０質量部
上記棒状液晶性化合物２ ３０質量部
光重合開始剤 ３．０質量部
（イルガキュア９０７、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
増感剤（カヤキュア−ＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １．０質量部
上記フッ素化合物ＦＰ−２ ０．２１質量部
メチルエチルケトン ２００質量部
──────────────────────────────────

〔比較例１〕
組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−２を配合しなかった以外は、実施例２と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例２〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−３を配合しなかった以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例３〕
組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−１を配合しなかった以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例４〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−３に代えて下記フッ素化合物ＦＰ−５を用いた以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例５〕
組成物ｂにおいて、更に上記フッ素化合物ＦＰ−２を下記表１に示す添加量で配合した以外は、比較例１と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例６〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−３に代えて上記フッ素化合物ＦＰ−２を用い、組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−２を下記表１に示す添加量で配合した以外は、比較例５と同様の方法で光学積層体を作製した。

〔比較例７〕
組成物ａにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−３に代えて上記フッ素化合物ＦＰ−１を用い、組成物ｂにおいて、上記フッ素化合物ＦＰ−２を下記表１に示す添加量で配合した以外は、比較例５と同様の方法で光学積層体を作製した。

＜表面張力エネルギー＞
実施例および比較例で使用した組成物ａおよび組成物ｂについて、上記式（１）および（２）で規定する表面張力Ｅ_ａおよびＥ_ｂを上述した方法で測定し、これらの値とこれらの値の差を下記表１に示す。
なお、実施例および比較例で作製した光学積層体から、上記式（３）および（４）で規定する表面張力Ｅ_ＡおよびＥ_Ｂを上述した方法で測定したところ、これらの値は、それぞれ表面張力Ｅ_ａおよびＥ_ｂと同じであることが確認できた。

＜膜厚ムラ＞
（１）未実装形態
作製した光学積層体をシャーカステン上に載せ、膜厚ムラを目視にて確認した。
（２）実装形態
片面だけがトリアセチルセルロース（厚さ２５μｍ）で保護された厚さ２０μｍの偏光子を有す偏光板を用いて、この偏光板の保護されていない面（延伸したポリビニルアルコールよりなる偏光膜）と上記作製した光学積層体の透明支持体側を光学的に等方性の接着剤によって貼り合わせ、円偏光板を作製した。
次いで、有機ＥＬパネル搭載のＧＡＬＡＸＹ Ｓ４（ＳＡＭＳＵＮＧ社製）を分解し、円偏光板を剥離して、上記円偏光板を空気が入らないようにして貼合し、表示装置を作製した。作製した有機ＥＬ表示装置について、照度２００ルクスの明室内にて、膜厚ムラを目視にて確認した。
（３）評価基準
以下の基準に従って膜厚ムラを評価した。結果を下記表１に示す。
Ａ：シャーカステン上および実装形態のいずれでもムラが視認されない。
Ｂ：シャーカステン上でわずかにムラが視認されるが、実装形態ではムラが視認されない。
Ｃ：シャーカステン上および実装形態のいずれでもムラが視認される。

＜点欠陥＞
作製した光学積層体をクロスニコルに配置した２枚の偏光板の間に置き、シャーカステン上において一部領域（１０ｃｍ×１０ｃｍ）を目視により確認し、点欠陥の数を調べた。結果を下記表１に示す。

表１に示す結果から、組成物ａおよび組成物ｂが上記式（２）を満たしていない比較例１、３および５〜７の光学積層体は、膜厚ムラは抑制されていたが、いずれも点欠陥を有していることが分かった。
また、組成物ａおよび組成物ｂが上記式（１）を満たしていない比較例２および４の光学積層体は、点欠陥の発生は減少することが分かったが、膜厚ムラが抑制できないことが分かった。
これに対し、組成物ａおよび組成物ｂが上記式（１）および（２）を満たす実施例１〜８の光学積層体は、膜厚ムラが抑制され、点欠陥がないことが分かった。中でも、組成物ａが上記式（１ａ）を満たす場合、すなわち、表面張力Ｅ_ａが２４．７ｍＮ／ｍ以下である場合、光学異方性層の膜厚ムラがより抑制されることが分かった（実施例２〜８）。

１０ 光学積層体
１２ 透明支持体
１４ 光学異方性層Ａ
１６ 光学異方性層Ｂ
２０ 偏光膜
２２ 保護膜
２４ 機能膜
２６ 表示ＥＬパネル
１００，１１０，１２０ 偏光板
２００，２１０，２２０ 有機ＥＬ表示装置

Claims (5)

1. 光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとを有し、前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂが直接接して設けられる光学積層体を作製する光学積層体の製造方法であって、
   前記光学異方性層Ａを形成する組成物ａと、前記光学異方性層Ｂを形成する組成物ｂとが、いずれもフッ素化合物を含有し、
   前記組成物ａを用いて前記光学異方性層Ａを形成した後に、前記組成物ｂを用いて前記光学異方性層Ｂを形成する際に、前記組成物ａおよび前記組成物ｂが、下記式（１）および（２）をいずれも満たす条件で、前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂをこの順で形成する、光学積層体の製造方法。
   ２３．４≦Ｅ_ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（１）
   Ｅ_ａ−Ｅ_ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（２）
   ここで、Ｅ_ａは、前記組成物ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、前記組成物ａの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
   同様に、Ｅ_ｂは、前記組成物ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、前記組成物ｂの固形分Ｘｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＸｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
2. 前記組成物ａおよび前記組成物ｂのいずれか一方または両方が、液晶性化合物を含有する組成物である、請求項１に記載の光学積層体の製造方法。
3. 透明支持体と、光学異方性層Ａと光学異方性層Ｂとをこの順に有する光学積層体であって、
   前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂが直接接しており、
   前記光学異方性層Ａおよび前記光学異方性層Ｂがいずれもフッ素化合物を含有し、
   下記式（３）および（４）をいずれも満たす、光学積層体。
   ２３．４≦Ｅ_Ａ≦２５．２［ｍＮ／ｍ］ ・・・（３）
   Ｅ_Ａ−Ｅ_Ｂ≧１．３［ｍＮ／ｍ］ ・・・（４）
   ここで、Ｅ_Ａは、前記光学異方性層Ａに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、前記光学異方性層ＡのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいい、
   同様に、Ｅ_Ｂは、前記光学異方性層Ｂに含まれるフッ素化合物を、メチルエチルケトンとシクロヘキサノンとの質量比が１：４となる混合溶媒に、前記光学異方性層ＢのＹｇ中に含まれる量と同量となるように溶解させ、総量をＹｇとした溶液を温度２５℃、相対湿度６０％の環境下にて測定した表面張力をいう。
4. 請求項３に記載の光学積層体と、偏光膜とを有する偏光板。
5. 請求項３に記載の光学積層体、または、請求項４に記載の偏光板を有する、有機ＥＬ表示装置。