JP2010224556A - 位相差板の製造方法、位相差板、位相差板付偏光板、液晶パネル、および液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】積層体を延伸して逆分散性を有する位相差板を製造するにあたり、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が大きくなるような場合や積層体の厚みが大きくなるような場合であっても、適切な延伸温度の設定が可能となり、十分な位相差が発現できるとともに位相差ムラを低減した位相差板を得ることが可能となる方法を提供する。
【解決手段】本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；該樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）が該樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高く；該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う。
【選択図】なし
【解決手段】本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；該樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）が該樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高く；該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う。
【選択図】なし
Description
本発明は、位相差板の製造方法に関する。本発明は、また、当該製造方法により得られる位相差板、該位相差板を含む位相差板付偏光板、該位相差板を含む液晶パネル、該液晶パネルを含む液晶表示装置に関する。
液晶表示装置等では、液晶セルにより生じる位相差に起因して表示画面が着色するという問題がある。この問題を解消するため、位相差板が用いられている。位相差板は、偏光板と貼り合わせて用いられることが一般的である。
液晶表示装置等に用いられる位相差板としては、可視光領域の全ての入射光に対して、その機能が充分に発揮されるものが望まれている。特に、波長が大きくなるに従って面内方向の位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を有するものが望まれている。逆分散性を有する位相差板として、波長分散性の異なる位相差板を遅相軸が直交するように積層した積層位相差板が知られている（例えば、特許文献１参照）。
上記の積層位相差板においては、積層する位相差板を粘着剤で貼り合わせている。このため、粘着剤層の存在に起因して光学特性が低下するおそれがある。また、粘着剤で貼り合わせる際に、積層する位相差板の軸ずれが起こり、逆分散性を有する位相差板が得られないおそれがある。
上記のような積層位相差板の軸ずれを防止するため、正の配向複屈折性を有する樹脂の融液と負の配向複屈折性を有する樹脂の融液を共押出しして積層体を形成し、この積層体を同一方向に延伸することで、逆分散性を有する積層位相差板を製造する方法が知られている（例えば、特許文献２参照）。
上記のような共押出しと延伸により積層位相差板を製造する場合、各層同時に一軸方向に延伸して位相差を発現させる。通常、位相差を発現させるために、延伸は各層に含まれる樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）付近で行われる。各層の樹脂のＴｇが離れている場合、延伸温度をＴｇの高いほうに合わせると位相差が発現し難く、延伸温度をＴｇの低いほうに合わせると位相差ムラが生じる。このような場合、適切な延伸温度の設定が困難となり、各層に含まれる樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）の差が小さくなるように使用する樹脂の組合せを限定しなければならないという問題がある。
また、所望の位相差を発現させるために積層体の厚みが大きくなる場合、均一に延伸するためには延伸温度を高くする必要がある。このような場合にも位相差が発現しなかったり位相差ムラが生じたりするという問題がある。
本発明の課題は、積層体を延伸して逆分散性を有する位相差板を製造するにあたり、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が大きくなるような場合や積層体の厚みが大きくなるような場合であっても、適切な延伸温度の設定が可能となり、十分な位相差が発現できるとともに位相差ムラを低減した位相差板を得ることが可能となる方法を提供することにある。また、このような方法で得られる位相差板、そのような位相差板を含む位相差板付偏光板や液晶パネル、そのような液晶パネルを含む液晶表示装置を提供することにある。
本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う。
好ましい実施形態においては、上記樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）が上記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高い。
好ましい実施形態においては、上記積層体の延伸温度が上記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも低い。
好ましい実施形態においては、上記正の配向複屈折を有する樹脂がノルボルネン系樹脂である。
好ましい実施形態においては、上記負の配向複屈折を有する樹脂がスチレン−無水マレイン酸共重合体である。
本発明の別の局面によれば、位相差板が提供される。本発明の位相差板は、本発明の製造方法により得られる。
本発明の別の局面によれば、位相差板付偏光板が提供される。本発明の位相差板付偏光板は、本発明の位相差板と偏光板とを含む。
本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。本発明の液晶パネルは、本発明の位相差板を含む。
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。本発明の液晶表示装置は、本発明の液晶パネルを含む。
好ましい実施形態においては、上記樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）が上記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高い。
好ましい実施形態においては、上記積層体の延伸温度が上記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも低い。
好ましい実施形態においては、上記正の配向複屈折を有する樹脂がノルボルネン系樹脂である。
好ましい実施形態においては、上記負の配向複屈折を有する樹脂がスチレン−無水マレイン酸共重合体である。
本発明の別の局面によれば、位相差板が提供される。本発明の位相差板は、本発明の製造方法により得られる。
本発明の別の局面によれば、位相差板付偏光板が提供される。本発明の位相差板付偏光板は、本発明の位相差板と偏光板とを含む。
本発明の別の局面によれば、液晶パネルが提供される。本発明の液晶パネルは、本発明の位相差板を含む。
本発明の別の局面によれば、液晶表示装置が提供される。本発明の液晶表示装置は、本発明の液晶パネルを含む。
本発明によれば、積層体を延伸して逆分散性を有する位相差板を製造するにあたり、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が大きくなるような場合や積層体の厚みが大きくなるような場合であっても、適切な延伸温度の設定が可能となり、十分な位相差が発現できるとともに位相差ムラを低減した位相差板を得ることが可能となる。また、このような方法で得られる位相差板を用いた位相差板付偏光板、液晶パネル、液晶表示装置は、優れた光学特性を発現することが可能となる。
このような効果は、正または負の配向複屈折性を有する樹脂の一方の樹脂を含む光学基材上に他方の樹脂を含む溶液を塗工して積層体を準備し、その積層体を特定の条件下で延伸することによって逆分散性を有する位相差板を製造することにより発現することが可能となる。
（用語および記号の定義）
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
本明細書における用語および記号の定義は下記の通りである：
（１）「ｎｘ」は面内の屈折率が最大になる方向（すなわち、遅相軸方向）の屈折率であり、「ｎｙ」は面内で遅相軸に垂直な方向（すなわち、進相軸方向）の屈折率であり、「ｎｚ」は厚み方向の屈折率である。また、例えば「ｎｘ＝ｎｙ」は、ｎｘとｎｙが厳密に等しい場合のみならず、ｎｘとｎｙが実質的に等しい場合も包含する。本明細書において「実質的に等しい」とは、光学フィルム（位相差板等）の全体的な光学特性に実用上の影響を与えない範囲でｎｘとｎｙが異なる場合も包含する趣旨である。
（２）「面内位相差Ｒｅ（λ）」は、２３℃における波長λｎｍの光で測定したフィルム（層）面内の位相差値をいう。Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおけるフィルム（層）の遅相軸方向、進相軸方向の屈折率をそれぞれ、ｎｘ、ｎｙとし、ｄ（ｎｍ）をフィルム（層）の厚みとしたとき、式：Ｒｅ（λ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄによって求められる。例えば、Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（５９０）、Ｒｅ（７５０）はそれぞれ波長４８０ｎｍ、５９０ｎｍ、７５０ｎｍにおける面内位相差を表す。
〔位相差板の製造方法〕
本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う。以下、本発明の製造方法について詳述する。
本発明の位相差板の製造方法は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う。以下、本発明の製造方法について詳述する。
（正の配向複屈折性を有する樹脂）
本発明において、正の配向複屈折性を有する樹脂とは、その樹脂から形成した層を延伸したとき、延伸方向の屈折率が最大になるような樹脂をいう。正の配向複屈折性を有する樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンオキサイド、ポリフェニレンエーテルなどが挙げられる。フィルムの耐熱性や機械的強度を向上させるために、アルケン単位と置換あるいは非置換マレイミド単位、ビニル系単位などを含むものも挙げることができ、具体的には、オレフィン・マレイミド共重合体などが挙げられる。本発明において用いる正の配向複屈折性を有する樹脂としては、特に、ノルボルネン系樹脂が好ましい。
本発明において、正の配向複屈折性を有する樹脂とは、その樹脂から形成した層を延伸したとき、延伸方向の屈折率が最大になるような樹脂をいう。正の配向複屈折性を有する樹脂としては、ノルボルネン系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンオキサイド、ポリフェニレンエーテルなどが挙げられる。フィルムの耐熱性や機械的強度を向上させるために、アルケン単位と置換あるいは非置換マレイミド単位、ビニル系単位などを含むものも挙げることができ、具体的には、オレフィン・マレイミド共重合体などが挙げられる。本発明において用いる正の配向複屈折性を有する樹脂としては、特に、ノルボルネン系樹脂が好ましい。
（負の配向複屈折性を有する樹脂）
本発明において、負の配向複屈折性を有する樹脂とは、その樹脂から形成した層を延伸したとき、延伸方向と直交する方向の屈折率が最大になるような樹脂をいう。負の配向複屈折性を有する樹脂としては、ポリスチレン、アクリル酸系ホモポリマー、メタクリル酸系ホモポリマー、アクリル酸エステル系ホモポリマー、メタクリル酸エステル系ホモポリマー等の単独モノマー系樹脂や、機械的特性などを改善するために当該単独モノマーと他のモノマーとの共重合体などが挙げられる。具体的には、スチレン・無水マレイン酸共重合体、スチレン・マレイミド共重合体、オレフィン系単位とアクリル系単位とを含む共重合体や、ニトリル系単位とスチレン系単位とを含む共重合体が挙げられる。スチレン系単位を構成するスチレン系化合物としては、スチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、またはクロロスチレン、α−メチルスチレン等の非置換または置換スチレン系化合物が挙げられる。ニトリル系単位を構成するニトリル系化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルのようなα−置換不飽和ニトリル、ならびにフマロニトリルのようなα，β−二置換オレフィン性不飽和結合を有するものが挙げられる。本発明において用いる負の配向複屈折性を有する樹脂としては、特に、スチレン・無水マレイン酸共重合体が好ましい。
本発明において、負の配向複屈折性を有する樹脂とは、その樹脂から形成した層を延伸したとき、延伸方向と直交する方向の屈折率が最大になるような樹脂をいう。負の配向複屈折性を有する樹脂としては、ポリスチレン、アクリル酸系ホモポリマー、メタクリル酸系ホモポリマー、アクリル酸エステル系ホモポリマー、メタクリル酸エステル系ホモポリマー等の単独モノマー系樹脂や、機械的特性などを改善するために当該単独モノマーと他のモノマーとの共重合体などが挙げられる。具体的には、スチレン・無水マレイン酸共重合体、スチレン・マレイミド共重合体、オレフィン系単位とアクリル系単位とを含む共重合体や、ニトリル系単位とスチレン系単位とを含む共重合体が挙げられる。スチレン系単位を構成するスチレン系化合物としては、スチレン、ビニルトルエン、メトキシスチレン、またはクロロスチレン、α−メチルスチレン等の非置換または置換スチレン系化合物が挙げられる。ニトリル系単位を構成するニトリル系化合物としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリルのようなα−置換不飽和ニトリル、ならびにフマロニトリルのようなα，β−二置換オレフィン性不飽和結合を有するものが挙げられる。本発明において用いる負の配向複屈折性を有する樹脂としては、特に、スチレン・無水マレイン酸共重合体が好ましい。
（光学基材）
本発明において、光学基材は樹脂Ａを含む。樹脂Ａとしては、上記正の配向複屈折性を有する樹脂または負の配向複屈折性を有する樹脂である。光学基材を製造する方法は特に限定されない。例えば、樹脂Ａを、任意の適切な成形方法を用いて、未延伸のフィルム状やシート状として形成することができる。上記成形方法としては、押出成形、カレンダー成形、溶媒キャスティング法、フィルム流延法などが挙げられる。
本発明において、光学基材は樹脂Ａを含む。樹脂Ａとしては、上記正の配向複屈折性を有する樹脂または負の配向複屈折性を有する樹脂である。光学基材を製造する方法は特に限定されない。例えば、樹脂Ａを、任意の適切な成形方法を用いて、未延伸のフィルム状やシート状として形成することができる。上記成形方法としては、押出成形、カレンダー成形、溶媒キャスティング法、フィルム流延法などが挙げられる。
（積層体）
本発明において、積層体（延伸前の積層体）は、光学基材層と塗工層とを含み、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して得られる。樹脂Ｂとしては、上記正の配向複屈折性を有する樹脂または負の配向複屈折性を有する樹脂である。樹脂Ａが正の配向複屈折性を有する樹脂の場合は、樹脂Ｂは負の配向複屈折性を有する樹脂であり、樹脂Ａが負の配向複屈折性を有する樹脂の場合は、樹脂Ｂは正の配向複屈折性を有する樹脂である。
本発明において、積層体（延伸前の積層体）は、光学基材層と塗工層とを含み、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して得られる。樹脂Ｂとしては、上記正の配向複屈折性を有する樹脂または負の配向複屈折性を有する樹脂である。樹脂Ａが正の配向複屈折性を有する樹脂の場合は、樹脂Ｂは負の配向複屈折性を有する樹脂であり、樹脂Ａが負の配向複屈折性を有する樹脂の場合は、樹脂Ｂは正の配向複屈折性を有する樹脂である。
上記溶媒としては、特に限定されず、任意の適切な溶媒を用いることができる。例えば、樹脂Ｂを溶解できればよく、樹脂Ｂの種類に応じて適宜決定できる。具体例としては、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、オルソジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等のケトン系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；t−ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、２−メチル−２，４−ペンタンジオールのようなアルコール系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミドのようなアミド系溶媒；アセトニトリル、ブチロニトリルのようなニトリル系溶媒；ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフランのようなエーテル系溶媒；二硫化炭素；エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ等のセルソルブ系溶媒；などが挙げられる。これらの溶媒は、一種類のみで用いても良いし、二種類以上を併用してもよい。
上記塗工層は、上記樹脂Ｂと上記溶媒とを含む溶液を上記光学基材上に塗工して得られる。上記溶液（塗工溶液）は、上記樹脂Ｂと上記溶媒とを含むが、本発明の効果を損なわない範囲で、その他の任意の適切な成分を含んでいても良い。その他の成分としては、例えば、安定剤、金属類、相溶化剤等の種々の添加剤が挙げられる。
上記溶液の濃度は、特に限定されず、本発明の効果を損なわない範囲で、任意の適切な濃度に調整することができる。例えば、塗工が容易な粘度となることから、溶媒１００重量部に対して、樹脂Ｂが、好ましくは０．５〜５０重量部、より好ましくは１〜４０重量部、さらに好ましくは２〜３５重量部である。溶媒１００重量部に対して樹脂Ｂが０．５重量部以上であると、塗工に適した粘度が得られるので好ましい。また、溶媒１００重量部に対して樹脂Ｂが５０重量部以下であると、滑らかな塗工面を形成できる粘度が得られるので好ましい。
塗工方法としては、特に限定されず、任意の適切な塗工方法を採用することができる。例えば、スピンコート法、ロールコート法、フローコート法、ダイコート法、ブレードコート法、プリント法、ディップコート法、流延成膜法、バーコート法、グラビア印刷法等が挙げられる。
上記積層体は、樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して得られる積層構造、すなわち、光学基材層と塗工層との積層構造を含む。上記積層体は、光学基材層と塗工層との２層を含んでいれば良く、１層または２層以上の他の光学層をさらに含んでいても良い。すなわち、積層体の積層の数は、２層以上であれば特に限定されない。
積層体の厚みは、特に限定されず、所望の位相差に応じて調整される。また、光学基材層および塗工層の厚みも特に限定されず、所望の位相差および逆分散性に応じて調整される。適切な延伸温度を設定して確実に位相差を発現させるためには、塗工層の厚みは、光学基材層の厚みよりも同等以下にすることが好ましい。
（積層体の残存溶媒量調整）
本発明の位相差板の製造方法は、上記積層体を延伸する工程を含む。本発明においては、積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を２〜１０重量％に調整してから延伸を行う。積層体中の残存溶媒量をこの範囲になるように調整してから延伸を行うと、積層体（延伸前の積層体）中に残存溶媒がほとんど含まれない場合と比べ、所望の位相差を発現させた上で延伸温度を下げることが可能となる。これは、延伸する時の積層体中に残存溶媒が存在することにより、溶媒が可塑剤として働き、全体の延伸温度を下げているものと推測される。
本発明の位相差板の製造方法は、上記積層体を延伸する工程を含む。本発明においては、積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を２〜１０重量％に調整してから延伸を行う。積層体中の残存溶媒量をこの範囲になるように調整してから延伸を行うと、積層体（延伸前の積層体）中に残存溶媒がほとんど含まれない場合と比べ、所望の位相差を発現させた上で延伸温度を下げることが可能となる。これは、延伸する時の積層体中に残存溶媒が存在することにより、溶媒が可塑剤として働き、全体の延伸温度を下げているものと推測される。
積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量は、好ましくは２〜９重量％、より好ましくは３〜８重量％である。残存溶媒量が２重量％より小さいときは、延伸温度を低下させることができなくなるおそれがある。また、Ｔｇの大きく異なる層の組合せで積層体が構成されている場合や積層体の厚みが大きい場合、延伸によって所望の位相差を発現させることができないおそれがある。残存溶媒量が１０重量％を超えると、延伸する際に積層体にしわが生じ、適切な位相差板を製造することができなくなるおそれがある。
積層体（延伸前の積層体）における光学基材層には、残存溶媒は含まれていないか、含まれていても光学基材層（光学基材）に対して０．５％重量以下が好ましく、０．３重量％以下がより好ましい。光学基材層に溶媒が残存しているような場合、塗工層からの溶媒の含浸も合わさり、積層体を延伸しても樹脂は配向せず、位相差を発現しないおそれがあるからである。特に、Ｔｇが低い方の樹脂を有する層に多くの溶媒が含まれると、位相差を発現しないおそれがある。
本発明においては、光学基材上に塗工層を設けているので、支持体が不要とすることができ、支持体からの剥離等の設定も不要とすることができる。
残存溶媒量は、次式で表したものをいい、Ｘは延伸直前の積層体の重量であり、Ｙは延伸直前の積層体を１５０℃３０分間加熱した後の重量である。
残存溶媒量（重量％）＝[（Ｘ−Ｙ）／Ｘ]×１００
残存溶媒量（重量％）＝[（Ｘ−Ｙ）／Ｘ]×１００
積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を調整する方法としては、特に限定されず、任意の適切な方法を採用することができる。例えば、積層体に熱風を送風する方法や、所定の温度にした乾燥室に積層体を一定時間通過させる方法等が挙げられる。積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を調整する具体的条件は、積層体の厚み、溶媒の種類等により適宜設定される。
（積層体の延伸）
本発明においては、上記のように、積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を２〜１０重量％に調整してから延伸を行う。延伸方法は、任意の適切な延伸方法を採用することができる。例えば、積層体を搬送する方向と同一方向に延伸する縦一軸延伸、積層体を搬送する方向と直交する方向に延伸する横一軸延伸（テンター延伸）などが挙げられる。厚み方向制御のため、二軸延伸などによって二軸性を付与することも可能である。
本発明においては、上記のように、積層体（延伸前の積層体）中の残存溶媒量を２〜１０重量％に調整してから延伸を行う。延伸方法は、任意の適切な延伸方法を採用することができる。例えば、積層体を搬送する方向と同一方向に延伸する縦一軸延伸、積層体を搬送する方向と直交する方向に延伸する横一軸延伸（テンター延伸）などが挙げられる。厚み方向制御のため、二軸延伸などによって二軸性を付与することも可能である。
延伸倍率は、所望の位相差値、積層体の厚みに応じて適宜設定すればよい。延伸倍率は、好ましくは１．１〜３．０倍、より好ましくは１．２〜２．８倍である。
延伸温度は、前記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）、前記樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）、および、延伸時の積層体の残存溶媒量によって適宜に決めることができる。通常、位相差を発現させるための延伸温度は、延伸する材料樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）付近であり、積層体の場合、各層を構成する樹脂のＴｇの差をできるだけ小さくして行われることが一般的である。各層の樹脂のＴｇが離れている場合、延伸温度をＴｇの高いほうに合わせると位相差が発現し難く、延伸温度をＴｇの低いほうに合わせると位相差ムラが生じる。このような場合、適切な延伸温度の設定が困難となり、各層に含まれる樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）の差が小さくなるように使用する樹脂の組合せを限定しなければならないという問題がある。本発明の位相差板の製造方法では、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が大きい場合であっても、所望の位相差を発現させた上で、適切な延伸温度（例えば、低い延伸温度）を設定することが可能となる。例えば、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が１０℃より大きい場合、例えば、１５〜４０℃のように大きい場合であっても、所望の位相差を発現させた上で、延伸温度を下げて位相差板を製造することが可能である。また、各層に含まれる樹脂のＴｇの差が無いかまたは小さい場合であっても、本発明の製造方法により位相差板を製造することが可能であり、特に、省エネルギー対策等で延伸温度を下げたい場合に本発明の製造方法は好適である。
また、所望の位相差を発現させるために積層体の厚みが大きくなる場合、従来の製造方法では、均一に延伸するためには延伸温度を高くする必要があり、その結果、位相差が発現しなかったり位相差ムラを生じたりするという問題がある。本発明では、所望の位相差を発現させた上で、適切な延伸温度（例えば、低い延伸温度）を設定することが可能となる。積層体の厚みが大きくなる場合とは、樹脂の種類により一概に限定はできないが、例えば、１５０μｍ以上となるような場合をいう。また、積層体の厚みが１５０μｍ未満の場合であっても、本発明の製造方法により位相差板を製造することが可能であり、省エネルギー対策等で延伸温度を下げたいような場合に本発明の製造方法は好適である。
本発明では、より効果的に延伸温度を下げるため、塗工層に含まれる樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）を、光学基材層に含まれる樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高くすることが好ましい。すなわち、Ｔｇ（Ａ）＜Ｔｇ（Ｂ）の関係を有することが好ましい。Ｔｇが高いほうの樹脂が塗工層に含まれ、その塗工層に残存溶媒が存在することにより、より効果的に延伸温度を下げることができるからである。反対に、Ｔｇが低いほうの樹脂が塗工層に含まれると、位相差を発現し難くなるおそれがある。
本発明では、所望の位相差を発現させるために、延伸温度は、前記光学基材層に含まれる樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも低くすることが好ましい。すなわち、延伸温度をＴとしたとき、Ｔ＜Ｔｇ（Ａ）の関係を有することが好ましい。
本発明の効果を最も良く発現させるためには、Ｔ＜Ｔｇ（Ａ）＜Ｔｇ（Ｂ）の関係を有することがより好ましい。
〔位相差板〕
本発明では、樹脂Ａを含む光学基材層と樹脂Ｂを含む塗工層とを含む積層体が、上記のような条件下で同一方向に同時に延伸されて、本発明の位相差板が製造される。したがって、正の配向複屈折性を有する樹脂を含む層の遅相軸（屈折率が最大になる軸）は延伸方向と同一方向に現れ、負の配向複屈折性を有する樹脂を含む層の遅相軸は延伸方向と直交方向に現れる。その結果、遅相軸が直交するような状態で積層されることになり、各層が有する面内方向の位相差は互いに相殺される状態になる。このため、逆分散性を有する位相差板を好適に製造することができる。また、粘着剤で貼り合わせる必要がないため、光学的特性を低下するおそれがなく、軸ずれが発生するおそれもない。
本発明では、樹脂Ａを含む光学基材層と樹脂Ｂを含む塗工層とを含む積層体が、上記のような条件下で同一方向に同時に延伸されて、本発明の位相差板が製造される。したがって、正の配向複屈折性を有する樹脂を含む層の遅相軸（屈折率が最大になる軸）は延伸方向と同一方向に現れ、負の配向複屈折性を有する樹脂を含む層の遅相軸は延伸方向と直交方向に現れる。その結果、遅相軸が直交するような状態で積層されることになり、各層が有する面内方向の位相差は互いに相殺される状態になる。このため、逆分散性を有する位相差板を好適に製造することができる。また、粘着剤で貼り合わせる必要がないため、光学的特性を低下するおそれがなく、軸ずれが発生するおそれもない。
逆分散性を有する位相差板とは、波長が大きくなるに従い、面内位相差（Ｒｅ）が大きくなるものであり、特に可視領域の波長４００〜７５０ｎｍの範囲でこのような特性を有するものが好ましい。例えば、波長４８０ｎｍ、５９０ｎｍ、７５０ｎｍの面内位相差をＲｅ（４８０）、Ｒｅ（５９０）、Ｒｅ（７５０）とした場合、Ｒｅ（４８０）＜Ｒｅ（５９０）＜Ｒｅ（７５０）の関係を有するものである。
逆分散性を有する位相差板を製造するためには、波長分散の大きな特性を有する樹脂（正分散であり、その勾配が急峻なもの）と波長分散の小さな特性（正分散であり、その勾配が緩やかなもの）を有する樹脂との組合せが好ましく、また、波長分散の大きな特性を有する樹脂層の厚みよりも波長分散の小さい特性を有する樹脂層の厚みを小さくするような状態で積層するのが好ましい。逆分散性の個々の特性については、所望の逆分散性に応じて、適宜最適な材料を用いることができる。
延伸して製造された位相差板の厚みは、特に限定されず、所望の位相差値に応じて適宜設定される。好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０〜１５０μｍであり、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
延伸して製造された位相差板の延伸直後の残存溶媒量は、巻き取り等の後工程や、発現される光学特性を考慮すると、３．０重量％以下が好ましく、より好ましくは２．０重量％以下、さらに好ましくは１．０重量％以下、特に好ましくは０．５重量％以下である。下限は、低ければ低いほど好ましく、最も好ましくは実質的に０重量％である。
〔位相差板付偏光板〕
（偏光子）
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子を採用することができる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの；ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム；等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が好ましい。偏光二色比が高いからである。偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。
（偏光子）
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる偏光子としては、目的に応じて任意の適切な偏光子を採用することができる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルム、部分ホルマール化ポリビニルアルコール系フィルム、エチレン・酢酸ビニル共重合体系部分ケン化フィルム、セルロース系フィルム等の親水性高分子フィルムに、ヨウ素や二色性染料等の二色性物質を吸着させて一軸延伸したもの；ポリビニルアルコールの脱水処理物やポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルム；等が挙げられる。これらのなかでも、ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素などの二色性物質を吸着させて一軸延伸した偏光子が好ましい。偏光二色比が高いからである。偏光子の厚さは特に制限されないが、一般的に、１〜８０μｍ程度である。
ポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を吸着させて一軸延伸した偏光子は、例えば、ポリビニルアルコールをヨウ素の水溶液に浸漬することによって染色し、元長の３〜７倍に延伸することで作製することができる。必要に応じて、ホウ酸、硫酸亜鉛、塩化亜鉛等を含んでいても良いし、ヨウ化カリウムなどの水溶液に浸漬することもできる。さらに必要に応じて、染色の前にポリビニルアルコール系フィルムを水に浸漬して水洗しても良い。ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルム表面の汚れやブロッキング防止剤を洗浄することができる。また、ポリビニルアルコール系フィルムを水洗することで、ポリビニルアルコール系フィルムを膨潤させることができ、染色のムラなどの不均一を防止することが可能となる。延伸はヨウ素で染色した後に行っても良いし、染色しながら延伸しても良いし、また延伸してからヨウ素で染色しても良い。ホウ酸やヨウ化カリウムなどの水溶液中や水浴中でも延伸することができる。
（保護層）
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる保護層は、透明であり、色付が無いことが好ましい。
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる保護層は、透明であり、色付が無いことが好ましい。
保護層の厚みは、目的に応じて適宜設定され得る。具体的には、厚みは、好ましくは２０〜１４０μｍ、より好ましくは４０〜１２０μｍ、さらに好ましくは６０〜１００μｍである。
保護層を構成する材料としては、任意の適切な材料が採用され得る。このような材料としては、例えば、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮断性、等方性などに優れるプラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックフィルムを構成する樹脂の具体例としては、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）等のアセテート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、アクリル樹脂、ポリノルボルネン樹脂、セルロース樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリアクリル樹脂、およびこれらの混合物が挙げられる。また、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の熱硬化性樹脂または紫外線硬化型樹脂も用いられ得る。偏光特性および耐久性の観点から、表面をアルカリ等でケン化処理したＴＡＣフィルムが好ましい。
さらに、例えば、特開平２００１−３４３５２９号公報（ＷＯ ０１／３７００７号）に記載されているような樹脂組成物から形成されるポリマーフィルムも保護層に使用可能である。より詳細には、側鎖に置換イミド基または非置換イミド基を有する熱可塑性樹脂と、側鎖に置換フェニル基または非置換フェニル基とシアノ基とを有する熱可塑性樹脂との混合物である。具体例としては、イソブテンとＮ−メチレンマレイミドからなる交互共重合体と、アクリロニトリル・スチレン共重合体とを有する樹脂組成物が挙げられる。例えば、このような樹脂組成物の押出成形物が用いられ得る。
保護層は、例えば、ハードコート処理、反射防止処理、スティッキングの防止や拡散、アンチグレア等を目的とした処理等が施されたものでもよい。前記ハードコート処理とは、偏光板表面の傷付き防止等を目的とし、例えば、前記保護層の表面に、硬化型樹脂から構成される、硬度や滑り性に優れた硬化被膜を形成する処理である。前記硬化型樹脂としては、例えば、シリコーン系、ウレタン系、アクリル系、エポキシ系等の紫外線硬化型樹脂等が使用でき、前記処理は、従来公知の方法によって行うことができる。スティッキングの防止は、隣接する層との密着防止を目的とする。前記反射防止処理とは、偏光板表面での外光の反射防止を目的とし、従来公知の反射防止層等の形成により行うことができる。
（偏光板）
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる偏光板の基本的な構成は、特に限定されないが、好ましくは、上記偏光子の両側に、上記保護層を積層したものである。偏光子の両側に積層する保護層は、同一の保護層でもよいし、異なる保護層でも良い。
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる偏光板の基本的な構成は、特に限定されないが、好ましくは、上記偏光子の両側に、上記保護層を積層したものである。偏光子の両側に積層する保護層は、同一の保護層でもよいし、異なる保護層でも良い。
偏光子と保護層との積層方法としては、任意の適切な積層方法（例えば、接着）が採用され得る。接着は、任意の適切な接着剤または粘着剤を用いて行われ得る。接着剤または粘着剤の種類は、被着体（すなわち、偏光子および保護層）の種類に応じて適宜選択され得る。接着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系等のポリマー製接着剤、イソシアネート系接着剤、ゴム系接着剤等が挙げられる。粘着剤の具体例としては、アクリル系、ビニルアルコール系、シリコーン系、ポリエステル系、ポリウレタン系、ポリエーテル系、イソシアネート系、ゴム系等の粘着剤が挙げられる。上記接着剤または粘着剤の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは３０〜１８０ｎｍであり、最も好ましくは５０〜１５０ｎｍである。
本発明の位相差板付偏光板に用いることができる偏光板は、さらに他の光学層を備えていてもよい。このような他の光学層としては、目的や画像表示装置の種類に応じて任意の適切な光学層が採用され得る。具体例としては、液晶フィルム、光散乱フィルム、回折フィルム、さらに別の光学補償層（位相差フィルム）等が挙げられる。
（位相差板付偏光板）
本発明の位相差板は、フィルム単独または必要に応じて他の光学フィルム等と組み合わせた積層体として各種の光学用途、具体的には、各種液晶表示素子の光学補償部材として利用することができる。例えば、工業的に製造されているヨウ素系や染料系の偏光板（または偏光子）と本発明の位相差板を接着剤や粘着剤等により貼り合わせることにより、液晶表示素子の複屈折性を補償、調整する機能を有する位相差板付偏光板とすることができる。
本発明の位相差板は、フィルム単独または必要に応じて他の光学フィルム等と組み合わせた積層体として各種の光学用途、具体的には、各種液晶表示素子の光学補償部材として利用することができる。例えば、工業的に製造されているヨウ素系や染料系の偏光板（または偏光子）と本発明の位相差板を接着剤や粘着剤等により貼り合わせることにより、液晶表示素子の複屈折性を補償、調整する機能を有する位相差板付偏光板とすることができる。
〔液晶パネル〕
本発明の液晶パネルは、本発明の位相差板を含む。図１は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この液晶パネル１００は、液晶セル１０と；液晶セル１０の一方の側（図示例では視認側）に配置された第１の偏光子２０と；液晶セル１０の他方の側（図示例ではバックライト側）に配置された第２の偏光子２０’と；第１の偏光子２０と液晶セル１０との間に配置された位相差板３０と；第２の偏光子２０’と液晶セル１０との間に配置された位相差板４０を備える。位相差板３０および位相差板４０の少なくとも一方は本発明の位相差板である。必要に応じて、第１の偏光子２０の少なくとも片側に、任意の適切な保護層（図示せず）が設けられ得る。必要に応じて、第２の偏光子２０’の少なくとも片側に、任意の適切な保護層（図示せず）が設けられ得る。保護層を設けることにより、偏光子の劣化が防止され得る。第１の偏光子２０と第２の偏光子２０’は、その吸収軸が互いに直交するようにして配置されていることが好ましい。液晶セル１０と第１の偏光子２０との間には、別の光学補償層（図示せず）が設けられてもよい。液晶セル１０と第２の偏光子２０’との間には、別の光学補償層（図示せず）が設けられてもよい。このような光学補償層の種類、数、配置位置等は、目的に応じて適切に選択され得る。本発明の液晶パネルを構成する光学素子、すなわち、液晶セル１０、第１の偏光子２０、第２の偏光子２０’、位相差板３０、位相差板４０、その他の光学補償層、保護層などは、任意の適切な粘着剤層や接着剤層を介して積層され得る。
本発明の液晶パネルは、本発明の位相差板を含む。図１は、本発明の好ましい実施形態による液晶パネルの概略断面図である。この液晶パネル１００は、液晶セル１０と；液晶セル１０の一方の側（図示例では視認側）に配置された第１の偏光子２０と；液晶セル１０の他方の側（図示例ではバックライト側）に配置された第２の偏光子２０’と；第１の偏光子２０と液晶セル１０との間に配置された位相差板３０と；第２の偏光子２０’と液晶セル１０との間に配置された位相差板４０を備える。位相差板３０および位相差板４０の少なくとも一方は本発明の位相差板である。必要に応じて、第１の偏光子２０の少なくとも片側に、任意の適切な保護層（図示せず）が設けられ得る。必要に応じて、第２の偏光子２０’の少なくとも片側に、任意の適切な保護層（図示せず）が設けられ得る。保護層を設けることにより、偏光子の劣化が防止され得る。第１の偏光子２０と第２の偏光子２０’は、その吸収軸が互いに直交するようにして配置されていることが好ましい。液晶セル１０と第１の偏光子２０との間には、別の光学補償層（図示せず）が設けられてもよい。液晶セル１０と第２の偏光子２０’との間には、別の光学補償層（図示せず）が設けられてもよい。このような光学補償層の種類、数、配置位置等は、目的に応じて適切に選択され得る。本発明の液晶パネルを構成する光学素子、すなわち、液晶セル１０、第１の偏光子２０、第２の偏光子２０’、位相差板３０、位相差板４０、その他の光学補償層、保護層などは、任意の適切な粘着剤層や接着剤層を介して積層され得る。
液晶セル１０は、一対の基板１１、１１’と、基板１１、１１’間に挟持された表示媒体としての液晶層１２とを有する。一方の基板（カラーフィルター基板）１１には、カラーフィルターおよびブラックマトリクス（いずれも図示せず）が設けられている。他方の基板（アクティブマトリクス基板）１１’には、液晶の電気光学特性を制御するスイッチング素子（代表的にはＴＦＴ）（図示せず）と、このスイッチング素子にゲート信号を与える走査線（図示せず）およびソース信号を与える信号線（図示せず）と、画素電極および対向電極（いずれも図示せず）とが設けられている。なお、カラーフィルターは、アクティブマトリクス基板１１’側に設けてもよい。上記基板１１、１１’の間隔（セルギャップ）は、スペーサー（図示せず）によって制御されている。上記基板１１、１１’の液晶層１２と接する側には、例えば、ポリイミドからなる配向膜（図示せず）が設けられている。
液晶セル１０の駆動モードとしては、本発明の効果が得られる限りにおいて任意の適切な駆動モードが採用され得る。
駆動モードの具体例としては、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モード、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ Ａｌｉｇｎｅｄ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）モード、ＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）モードおよびＡＳＭ（Ａｘｉａｌｌｙ Ｓｙｍｍｅｔｒｉｃ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｍｉｃｒｏｃｅｌｌ）モードが挙げられる。
〔液晶表示装置〕
本発明の液晶表示装置は本発明の液晶パネルを含む。図２は、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。図示例では透過型液晶表示装置について説明するが、本発明が反射型液晶表示装置等にも適用されることはいうまでもない。
本発明の液晶表示装置は本発明の液晶パネルを含む。図２は、本発明の好ましい実施形態による液晶表示装置の概略断面図である。図示例では透過型液晶表示装置について説明するが、本発明が反射型液晶表示装置等にも適用されることはいうまでもない。
図２において、液晶表示装置１０００は、液晶セル１０と、液晶セル１０を挟んで配された位相差板３０、４０と、位相差板３０、４０の外側に配された偏光板５０、５０’と、導光板６０と、光源７０と、リフレクター８０とを備える。偏光板５０、５０’は、その偏光軸が互いに直交するようにして配置されている。液晶セル１０は、一対のガラス基板１１、１１’と、該基板間に配された表示媒体としての液晶層１２とを有する。
例えば、ＴＮ方式の場合には、このような液晶表示装置１０００は、電圧無印加時には液晶層１２の液晶分子が、偏光軸を９０度ずらすような状態で配列している。そのような状態においては、偏光板によって一方向の光のみが透過した入射光は、液晶分子によって９０度ねじられる。上記のように、偏光板はその偏光軸が互いに直交するようにして配置されているので、他方の偏光板に到達した光（偏光）は、当該偏光板を透過する。したがって、電圧無印加時には、液晶表示装置１０００は白表示を行う（ノーマリホワイト方式）。一方、このような液晶表示装置１０００に電圧を印加すると、液晶層１２内の液晶分子の配列が変化する。その結果、他方の偏光板に到達した光（偏光）は、当該偏光板を透過できず、黒表示となる。このような表示の切り替えを、アクティブ素子を用いて画素ごとに行うことにより、画像が形成される。
以下、実施例によって本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例によって限定されるものではない。なお、実施例および比較例中の「部」および「％」はいずれも重量基準である。また、残存溶媒量、位相差は以下の方法で測定した。
（残存溶媒量）
残存溶媒量を測定するために、得られた積層体の一部を５ｃｍ四方に切り取り、加熱する前の積層体の重量Ｘ（延伸直前の重量）と１５０℃で３０分間加熱した場合の積層体の重量Ｙとを測定して、次式により延伸直前の残存溶媒量を算出した。
残存溶媒量（重量％）＝[（Ｘ−Ｙ）／Ｘ]×１００
残存溶媒量を測定するために、得られた積層体の一部を５ｃｍ四方に切り取り、加熱する前の積層体の重量Ｘ（延伸直前の重量）と１５０℃で３０分間加熱した場合の積層体の重量Ｙとを測定して、次式により延伸直前の残存溶媒量を算出した。
残存溶媒量（重量％）＝[（Ｘ−Ｙ）／Ｘ]×１００
（位相差）
位相差は、位相差計（王子計測機器社製、商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ）を用いて、各波長４８０ｎｍ、５９０ｎｍ、７５０ｎｍの面内位相差Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（５９０）、Ｒｅ（７５０）を測定した。
位相差は、位相差計（王子計測機器社製、商品名ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ）を用いて、各波長４８０ｎｍ、５９０ｎｍ、７５０ｎｍの面内位相差Ｒｅ（４８０）、Ｒｅ（５９０）、Ｒｅ（７５０）を測定した。
〔実施例１〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（Ｔｇ＝１４８℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体は、２Ｌのステンレス製オートクレーブに、温度１１０℃、滞留時間１時間で、スチレン（１０００ｇ／ｈｒ）と無水マレイン酸のスチレン溶液（７００ｇ／ｈｒ、無水マレイン酸量＝２５ｇ／ｈｒ）とを連続的に供給し、転化率２０％で抜き出した後、メタノールで再沈殿させて得た。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、７．４％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１１０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は３．０％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（Ｔｇ＝１４８℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体は、２Ｌのステンレス製オートクレーブに、温度１１０℃、滞留時間１時間で、スチレン（１０００ｇ／ｈｒ）と無水マレイン酸のスチレン溶液（７００ｇ／ｈｒ、無水マレイン酸量＝２５ｇ／ｈｒ）とを連続的に供給し、転化率２０％で抜き出した後、メタノールで再沈殿させて得た。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、７．４％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１１０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は３．０％であった。
〔実施例２〕
実施例１と同様に、光学基材の上に塗工溶液を塗布し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材（厚み＝７０μｍ）上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、３．１％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９８、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は１．５％であった。
実施例１と同様に、光学基材の上に塗工溶液を塗布し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材（厚み＝７０μｍ）上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、３．１％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９８、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は１．５％であった。
〔比較例１〕
実施例１と同様に、光学基材の上に塗工溶液を塗布し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱し、さらに１５０℃で１０分間加熱して、光学基材（厚み＝７０μｍ）上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１４０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は、０．８％であった。
実施例１と同様に、光学基材の上に塗工溶液を塗布し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱し、さらに１５０℃で１０分間加熱して、光学基材（厚み＝７０μｍ）上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１４０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は、０．８％であった。
〔実施例３〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合体の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材上に塗工層（厚み４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、２．１％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９５、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０５となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合体の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材上に塗工層（厚み４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、２．１％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９５、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０５となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
〔実施例４〕
実施例３と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、６．７％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度９５℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９４、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．７％であった。
実施例３と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、６．７％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度９５℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９４、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．７％であった。
〔実施例５〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．５％、厚み＝１３０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合体の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、３．３％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０４となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．７％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．５％、厚み＝１３０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）を準備した。このスチレン・無水マレイン酸共重合体をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるスチレン・無水マレイン酸共重合体の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、３．３％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０４となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．７％であった。
〔実施例６〕
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、７．６％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．３％であった。
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、７．６％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．３％であった。
〔実施例７〕
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１０．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来たが、若干発泡した。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９７、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０２となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．２％であった。
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１０．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来たが、若干発泡した。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が０．９７、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が１．０２となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は２．２％であった。
〔比較例２〕
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、室温で放置して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１６．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、熱で積層体にしわが生じ、延伸することができなかった。
実施例５と同様の光学基材と塗工溶液を準備した。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、室温で放置して、光学基材層上に塗工層（厚み＝６０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、１６．０％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、熱で積層体にしわが生じ、延伸することができなかった。
〔比較例３〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．３％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１２０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．３％であった。
〔比較例４〕
光学基材として、負の配向複屈折性を有する樹脂である、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝６０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１３５℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．３％であった。
光学基材として、負の配向複屈折性を有する樹脂である、スチレン・無水マレイン酸共重合体（シグマアルドリッチジャパン株式会社製、製品番号４２６９５４、Ｔｇ＝１３２℃）のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝６０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１３５℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．０３、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９６となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．３％であった。
〔比較例５〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．５％、厚み＝１３０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１４０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．５％、厚み＝１３０μｍ）を準備した。光学基材上に塗工層は設けなかった。
次に、上記フィルムを延伸温度１４０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示す位相差板ではなかった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
〔比較例６〕
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、ポリスチレン樹脂（日本ポリスチレン株式会社製、Ｇ８９９、Ｔｇ＝１０２℃）を準備した。このポリスチレン樹脂をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるポリスチレン樹脂の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、０．５％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１１０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示さず、フラットな分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
光学基材として、正の配向複屈折性を有する樹脂であるノルボルネン系樹脂（ＪＳＲ株式会社製、アートンＦＬＺＵ、Ｔｇ＝１２８℃）
のフィルム（残存溶媒量０．３％、厚み＝７０μｍ）を準備した。
負の配向複屈折性を有する樹脂として、ポリスチレン樹脂（日本ポリスチレン株式会社製、Ｇ８９９、Ｔｇ＝１０２℃）を準備した。このポリスチレン樹脂をメチルエチルケトンに溶解させて、樹脂濃度３３％の塗工溶液を調製した。ここで用いるポリスチレン樹脂の波長分散性は、ノルボルネン系樹脂の波長分散性よりも大きなものである。
次に光学基材の上に、この塗工溶液をアプリケーターで塗工し、８０℃で１０分間加熱し、さらに１２０℃で２０分間加熱して、光学基材層上に塗工層（厚み＝４０μｍ）を有する積層体を得た。この積層体の延伸直前の残存溶媒量を算出すると、０．５％であった。光学基材層と塗工層に使用される樹脂のＴｇ、厚み、延伸直前の残存溶媒量、延伸温度、延伸後のフィルム状態を表１に示した。
次に、上記積層体を延伸温度１１０℃、延伸倍率２．０で一軸延伸すると、外観上良好な位相差板を得ることが出来た。得られた位相差板の面内位相差を測定した。表２に示すように、Ｒｅ（４８０）／Ｒｅ（５９０）が１．００、Ｒｅ（７５０）／Ｒｅ（５９０）が０．９９となり、波長が大きくなるにつれて位相差も大きくなる、いわゆる逆分散性を示さず、フラットな分散性を示す位相差板であった。なお、延伸直後の位相差板の残存溶媒量は０．５％であった。
本発明における位相差板は、パーソナルコンピューターや液晶テレビ等の種々の液晶表示装置に好適に使用され得る。
１０ 液晶セル
１１ 基板
１１’ 基板
１２ 液晶層
１３ スペーサー
２０ 第１の偏光子
２０’ 第２の偏光子
３０ 位相差板
４０ 位相差板
５０ 偏光板
５０’ 偏光板
６０ 導光板
７０ 光源
８０ リフレクター
１００ 液晶パネル
１０００ 液晶表示装置
１１ 基板
１１’ 基板
１２ 液晶層
１３ スペーサー
２０ 第１の偏光子
２０’ 第２の偏光子
３０ 位相差板
４０ 位相差板
５０ 偏光板
５０’ 偏光板
６０ 導光板
７０ 光源
８０ リフレクター
１００ 液晶パネル
１０００ 液晶表示装置
Claims (4)
- 樹脂Ａを含む光学基材上に樹脂Ｂと溶媒とを含む溶液を塗工して光学基材層と塗工層とを含む積層体を得る工程と、該積層体を延伸する工程とを含み；
該樹脂Ａまたは該樹脂Ｂの一方が正の配向複屈折性を有する樹脂であり、他方が負の配向複屈折性を有する樹脂であり；
該樹脂Ｂのガラス転移温度Ｔｇ（Ｂ）が該樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも高く；
該積層体中の残存溶媒量を２〜１０重量％として該延伸を行う：
位相差板の製造方法。 - 前記積層体の延伸温度が前記樹脂Ａのガラス転移温度Ｔｇ（Ａ）よりも低い、請求項１に記載の製造方法。
- 前記正の配向複屈折を有する樹脂がノルボルネン系樹脂である、請求項１または２に記載の製造方法。
- 前記負の配向複屈折を有する樹脂がスチレン−無水マレイン酸共重合体である、請求項１から３までのいずれかに記載の製造方法。
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