JP2005331597A - 位相差フィルムの製造方法、位相差フィルム、位相差フィルム一体型偏光板、液晶表示装置及び自発光型表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】
テンター延伸を行いつつも幅方向において屈折率のバラツキの少ない二軸配向性の位相差フィルムを容易に製造できる位相差フィルムの製造方法等を提供する。
【解決手段】
帯状のフィルムを長手方向に走行させながら、テンター延伸により幅方向に延伸させる位相差フィルムの製造方法であって、前記フィルムとして帯状の基材に成膜材料を塗工して塗膜を形成したものを用い且つ該フィルムの走行方向に対するテンター開き角度θを０＜θ≦５°として延伸する位相差フィルムの製造方法を提供する。
【選択図】 図１

Description

本発明は、位相差フィルム及びその製造方法、並びに該位相差フィルムが配置された液晶表示装置等に関する。

従来、各種液晶表示装置等には、画像着色を解消したり又は視野角を拡大するために、位相差フィルムが使用されている。この位相差フィルムは、一般的に、一軸延伸や二軸延伸等の延伸工程によって面内の位相差を制御して作製されている。
また、該位相差フィルムを偏光子と積層して偏光板を構成する場合、偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸とが、平行になるように配置する必要があるところ、該偏光子は、帯状のシートを長手方向に延伸することにより透過軸が幅方向に形成されたものが一般的であるため、このような偏光子と位相差フィルムとを連続的に貼り合わせようとすれば、帯状の位相差フィルムに幅方向に遅相軸を形成させておくことが好ましい。

そのためには、複屈折性を有するフィルムを所定の延伸倍率（延伸方向における延伸前のフィルムの長さに対する倍数）で幅方向に延伸させておく必要がある。
所定の延伸倍率に幅方向延伸させるには、生産効率の観点より、目的とする延伸倍率にテンター延伸により延伸させることが好ましい。しかし、テンター延伸により延伸させた場合には、面内の配向軸が幅方向によって異なるというボーイング現象が起こりやすく、幅方向に均一な配向軸を有する位相差フィルムを作製することは困難である。

このように、テンター延伸を行った場合、幅方向に屈折率のバラツキが少ない二軸配向性の位相差フィルムを得ることは非常に困難であることに鑑み、幅方向において屈折率のバラツキの少ない(即ち、配向角分布の小さい)二軸配向性の位相差フィルムを容易に製造できる方法が要望されている。

本発明の課題は、上記問題点に鑑み、テンター延伸を行いつつも幅方向において屈折率のバラツキの少ない(即ち、配向角分布の小さい)二軸配向性の位相差フィルムを容易に製造できる位相差フィルムの製造方法等を提供することにある。

本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、帯状のフィルムに成膜材料を塗工して塗膜を形成した光学的に負の複屈折性を有する一軸フィルムを、テンター延伸機を用いて、前記フィルム（基材）の横延伸倍率が、所定の延伸倍率になるように、前記テンター延伸機のテンター開き角を所定の角度に調整することにより上記課題が解決されることを見いだし、本発明を完成するに至った。

即ち、本発明は、帯状のフィルムを長手方向に走行させながら、テンター延伸により幅方向に延伸させる位相差フィルムの製造方法であって、前記フィルムとして帯状の基材に成膜材料を塗工して塗膜を形成したものを用い且つ該フィルムの走行方向に対するテンター開き角度θを０＜θ≦５°として延伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法を提供する。

本発明の位相差フィルムの製造方法によれば、幅方向において屈折率のバラツキの少ない(即ち、配向角分布の小さい)二軸配向性の位相差フィルムを容易に製造することができる。
また、本発明の位相差フィルムの製造方法により得られた位相差フィルムは、幅方向における配向角分布が略均一のものとなるため、該位相差フィルムを備えた液晶表示装置及び自発発光型表示装置は、偏光板の偏光子の透過軸と位相差フィルムの遅相軸とが、略平行になるように配置された高性能のものである。

以下、本発明に係る位相差フィルムの製造方法について説明する。
本発明は、位相差フィルムを製造する方法であり、特にｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの複屈折層を有する二軸配向性の位相差フィルムを製造する方法である。
すなわち、本発明の位相差フィルムの製造方法は、帯状のフィルムを長手方向に走行させながら、テンター延伸により幅方向に延伸させる位相差フィルムの製造方法であって、前記フィルムとして帯状の基材に成膜材料を塗工して塗膜を形成したものを用い且つ該フィルムの走行方向に対するテンター開き角度θを０＜θ≦５°として延伸することを特徴とするものである。
本明細書においては、ｎｘ、ｎｙ及びｎｚはそれぞれ、ｘ方向、ｙ方向及びｚ方向の３方向の主屈折率であり、ｘ方向は複屈折層の面内において最大の屈折率を示す方向である、ｙ方向は面内においてｘ方向と直交する方向であり、ｚ方向はフィルムの厚み方向とする。

本発明において、前記フィルム（基材）は、少なくとも１以上のポリマーフィルムを備えたものが好ましく、１層又は２層以上であってもよい。２層以上とする場合、例えば、１層目をポリマーフィルムとし、２層目以上としてポリマーフィルムやポリマー溶液を塗布し乾燥したものなどを使用することができる。

該ポリマーフィルムとしては、特に限定されるものではないが、透明で光学的等方性を有するポリマーフィルム等が好ましい。また、光学的に異方性なフィルム（基材）であっても、補償板としての用途に応じたものであれば使用することができる。斯かるポリマーフィルムの例としては、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトン、ポリケトンサルファイド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキサイド、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアセタール、ポリカーボネート、ポリアリレート、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール、ポリプロピレン、セルロース系ポリマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ノルボルネン系樹脂、イソブテン／Ｎ−メチルマレイミド共重合体とスチレン／アクリルニトリル共重合体の混合物等のフィルムを挙げることができる。中でも、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、セルロース系ポリマー、ノルボルネン系樹脂、イソブテン／Ｎ−メチルマレイミド共重合体とスチレン／アクリルニトリル共重合体の混合物等が特に好ましい。また、これらのポリマーフィルムに、親水化処理や疎水化処理、フィルム（基材）の溶解性を低減する処理等の表面処理を施したものを用いることもできる。

前記ポリマーフィルムの厚みは、通常、１０μｍ〜２００μｍとすることができ、好ましくは２０μｍ〜１５０μｍ、特に好ましくは３０μｍ〜１００μｍである。１０μｍ未満の場合は、フィルムの強度が弱いために延伸させた場合に延伸むらが生じるおそれがあるため好ましくない。２００μｍを超える場合は、延伸において必要な張力が大きくなりすぎ工業生産には適さないおそれがあるため好ましくない。

複屈折層の成膜材料としては、例えば、非液晶性材料、特に非液晶性ポリマーを好適に使用できる。非液晶性材料は、液晶性材料とは異なり、塗布される基材の配向性に関係なく、それ自身の性質によりｎｘ＞ｎｚ、ｎｙ＞ｎｚという光学的一軸性を示す膜を形成するものである。このため、前記フィルム（基材）は、未配向性のものであってもその表面に配向膜を塗布する工程や配向膜を積層する工程等を必要としない。

前記非液晶性ポリマーとしては、例えば、耐熱性、耐薬品性、透明性に優れ、剛性にも富むことから、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミド-イミド、ポリエステル-イミド等のポリマーが好ましい。これらのポリマーは、いずれか一種類を単独で使用してもよいし、例えば、ポリエーテルケトンとポリアミドとの混合物のように、異なる官能基を持つ２種以上の混合物として使用してもよい。このようなポリマーの中でも、高透明性、高配向性、高延伸性であることから、ポリイミドが特に好ましい。

前記ポリマーの分子量は、特に制限されないが、例えば重量平均分子量(Mw)が1,000〜1,000,000の範囲であることが好ましく、より好ましくは2,000〜500,000の範囲である。

前記ポリイミドとしては、例えば、面内配向性が高く、有機溶剤に可溶なポリイミドが好ましい。具体的には、例えば、特表2000-511296号公報に開示された、9，9-ビス(アミノアリール)フルオレンと芳香族テトラカルボン酸二無水物との縮合重合生成物を含み、下記式(1)に示す繰り返し単位を１つ以上含むポリマーが使用できる。

前記式(1)中、R³〜R⁶は、水素、ハロゲン、フェニル基、1〜4個のハロゲン原子又はC₁〜₁₀アルキル基で置換されたフェニル基、及びC₁〜₁₀アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。好ましくは、R³〜R⁶は、ハロゲン、フェニル基、1〜4個のハロゲン原子又はC₁〜₁₀アルキル基で置換されたフェニル基、及びC₁〜₁₀アルキル基からなる群からそれぞれ独立に選択される少なくとも一種類の置換基である。

前記式(1)中、Zは、例えば、C₆〜₂₀の４価芳香族基であり、好ましくは、ピロメリット基、多環式芳香族基、多環式芳香族基の誘導体、又は、下記式(2)で表される基である。

前記式(2)中、Z'は、例えば、共有結合、C(R⁷) ₂基、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(C₂H₅)₂基、又は、NR⁸基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。また、wは、1〜10までの整数を表す。R⁷は、それぞれ独立に、水素又はC(R⁹)₃である。R⁸は、水素、炭素原子数1〜20のアルキル基、又はC₆〜₂₀のアリール基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。R⁹は、それぞれ独立に、水素、フッ素、又は塩素である。

前記多環式芳香族基としては、例えば、ナフタレン、フルオレン、ベンゾフルオレン又はアントラセンから誘導される4価の基を挙げることができる。また、前記多環式芳香族基の置換誘導体としては、例えば、C₁〜₁₀のアルキル基、そのフッ素化誘導体、及びFやCl等のハロゲンからなる群から選択される少なくとも一つの基で置換された前記多環式芳香族基を挙げることができる。

この他にも、例えば、特表平8-511812号公報に記載された、繰り返し単位が下記一般式(3)又は(4)で示されるホモポリマーや、繰り返し単位が下記一般式(5)で示されるポリイミド等を挙げることができる。尚、下記式(5)のポリイミドは、下記式(3)のホモポリマーの好ましい形態である。

前記一般式(3)〜(5)中、G及びG'は、例えば、共有結合、CH₂基、C(CH₃)₂基、C(CF₃)₂基、C(CX₃)₂基(ここで、Xは、ハロゲンである。)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(CH₂CH₃)₂基、及び、N(CH₃)基からなる群から、それぞれ独立して選択される基を表し、それぞれ同一でも異なってもよい。

前記式(3)及び式(5)中、Lは、置換基であり、d及びeは、その置換数を表す。Lは、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、C₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基であり、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、及びC₁〜₃ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。また、前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素を挙げることができる。dは、0〜2までの整数であり、eは、0〜3までの整数である。

前記式(3)〜(5)中、Qは置換基であり、fはその置換数を表す。Qとしては、例えば、水素、ハロゲン、アルキル基、置換アルキル基、ニトロ基、シアノ基、チオアルキル基、アルコキシ基、アリール基、置換アリール基、アルキルエステル基、及び置換アルキルエステル基からなる群から選択される原子又は基であって、Qが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。前記置換アルキル基としては、例えば、ハロゲン化アルキル基を挙げることができる。
また前記置換アリール基としては、例えば、ハロゲン化アリール基を挙げることができる。fは、0〜4までの整数であり、g及びhは、それぞれ0〜3及び1〜3までの整数である。また、g及びhは、1より大きいことが好ましい。

前記式(4)中、R¹⁰及びR¹¹は、水素、ハロゲン、フェニル基、置換フェニル基、アルキル基、及び置換アルキル基からなる群から、それぞれ独立に選択される基である。
その中でも、R¹⁰及びR¹¹は、それぞれ独立に、ハロゲン化アルキル基であることが好ましい。

前記式(5)中、M¹及びM²は、同一であるか又は異なり、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、C₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基、又は、置換フェニル基である。
前記ハロゲンとしては、例えば、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素を挙げることができる。
また、前記置換フェニル基としては、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、及びC₁〜₃ハロゲン化アルキル基からなる群から選択される少なくとも一種類の置換基を有する置換フェニル基を挙げることができる。

前記式(3)に示すポリイミドの具体例としては、例えば、下記式(6)で表されるもの等を挙げることができる。

さらに、前記ポリイミドとしては、例えば、前述のような骨格(繰り返し単位)以外の酸二無水物やジアミンを、適宜共重合させたコポリマーを挙げることができる。

前記酸二無水物としては、例えば、芳香族テトラカルボン酸二無水物を挙げることができる。
前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物、2，2'−置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

前記ピロメリット酸二無水物としては、例えば、ピロメリット酸二無水物、3，6-ジフェニルピロメリット酸二無水物、3，6-ビス(トリフルオロメチル)ピロメリット酸二無水物、3，6-ジブロモピロメリット酸二無水物、3，6-ジクロロピロメリット酸二無水物等を挙げることができる。前記ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、3，3'，4，4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2，3，3'，4'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、2，2'，3，3'-ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記ナフタレンテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2，3，6，7-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、1，2，5，6-ナフタレン-テトラカルボン酸二無水物、2，6-ジクロロ-ナフタレン-1，4，5，8-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。前記複素環式芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、例えば、チオフェン-2，3，4，5-テトラカルボン酸二無水物、ピラジン-2，3，5，6-テトラカルボン酸二無水物、ピリジン-2，3，5，6-テトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。
前記2，2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物としては、例えば、2，2'-ジブロモ-4，4'，5，5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2，2'-ジクロロ-4，4'，5，5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、2，2'-ビス(トリフルオロメチル)-4，4'，5，5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物等を挙げることができる。

また、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物のその他の例としては、3，3'，4，4'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス(2，3-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、ビス(2，5，6-トリフルオロ-3，4-ジカルボキシフェニル)メタン二無水物、2，2-ビス(3，4-ジカルボキシフェニル)-1，1，1，3，3，3-ヘキサフルオロプロパン二無水物、4，4'-(3，4-ジカルボキシフェニル)-2，2-ジフェニルプロパン二無水物、ビス(3，4-ジカルボキシフェニル)エーテル二無水物、4，4'-オキシジフタル酸二無水物、ビス(3，4-ジカルボキシフェニル)スルホン酸二無水物(3，3'，4，4'-ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物)、4，4'-［4，4'-イソプロピリデン-ジ(p-フェニレンオキシ)］ビス(フタル酸無水物)、N，N-(3，4-ジカルボキシフェニル)-N-メチルアミン二無水物、ビス(3，4-ジカルボキシフェニル)ジエチルシラン二無水物等を挙げることができる。

これらの中でも、前記芳香族テトラカルボン酸二無水物としては、2，2'-置換ビフェニルテトラカルボン酸二無水物が好ましく、より好ましくは、2，2'-ビス(トリハロメチル)-4，4'，5，5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物であり、さらに好ましくは、2，2'-ビス(トリフルオロメチル)-4，4'，5，5'-ビフェニルテトラカルボン酸二無水物である。

前記ジアミンとしては、例えば、芳香族ジアミンを挙げることができ、具体例としては、ベンゼンジアミン、ジアミノベンゾフェノン、ナフタレンジアミン、複素環式芳香族ジアミン、及びその他の芳香族ジアミンを挙げることができる。

前記ベンゼンジアミンとしては、例えば、o-、m-及びp-フェニレンジアミン、2，4-ジアミノトルエン、1，4-ジアミノ-2-メトキシベンゼン、1，4-ジアミノ-2-フェニルベンゼン及び1，3-ジアミノ-4-クロロベンゼンのようなベンゼンジアミンから成る群から選択されるジアミン等を挙げることができる。前記ジアミノベンゾフェノンの例としては、2，2'-ジアミノベンゾフェノン、及び3，3'-ジアミノベンゾフェノン等を挙げることができる。前記ナフタレンジアミンとしては、例えば、1，8-ジアミノナフタレン、及び1，5-ジアミノナフタレン等を挙げることができる。前記複素環式芳香族ジアミンの例としては、2，6-ジアミノピリジン、2，4-ジアミノピリジン、及び2，4-ジアミノ-S-トリアジン等を挙げることができる。

また、前記芳香族ジアミンとしては、これらの他に、4，4'-ジアミノビフェニル、4，4'-ジアミノジフェニルメタン、4，4'-(9-フルオレニリデン)-ジアニリン、2，2'-ビス(トリフルオロメチル)-4，4'-ジアミノビフェニル、3，3'-ジクロロ-4，4'-ジアミノジフェニルメタン、2，2'-ジクロロ-4，4'-ジアミノビフェニル、2，2'，5，5'-テトラクロロベンジジン、2，2-ビス(4-アミノフェノキシフェニル)プロパン、2，2-ビス(4-アミノフェニル)プロパン、2，2-ビス(4-アミノフェニル)-1，1，1，3，3，3-ヘキサフルオロプロパン、4，4'-ジアミノジフェニルエーテル、3，4'-ジアミノジフェニルエーテル、1，3-ビス(3-アミノフェノキシ)ベンゼン、1，3-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、1，4-ビス(4-アミノフェノキシ)ベンゼン、4，4'-ビス(4-アミノフェノキシ)ビフェニル、4，4'-ビス(3-アミノフェノキシ)ビフェニル、2，2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン、2，2-ビス[4-(4-アミノフェノキシ)フェニル)−1，1，1，3，3，3-へキサフルオロプロパン、4，4'-ジアミノジフェニルチオエーテル、4，4'-ジアミノジフェニルスルホン等を挙げることができる。

前記複屈折層の成膜材料である前記ポリエーテルケトンとしては、例えば、特開2001-49110号公報に記載された、下記一般式(7)で表されるポリアリールエーテルケトンを挙げることができる。

前記式(7)中、Xは、置換基を表し、qは、その置換数を表す。Xは、例えば、ハロゲン原子、低級アルキル基、ハロゲン化アルキル基、低級アルコキシ基、又は、ハロゲン化アルコキシ基であり、Ｘが複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。

前記ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、臭素原子、塩素原子及びヨウ素原子があげられ、これらの中でも、フッ素原子が好ましい。前記低級アルキル基としては、例えば、C₁〜₆の直鎖又は分岐鎖を有する低級アルキル基が好ましく、より好ましくはC₁〜₄の直鎖又は分岐鎖のアルキル基である。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、sec-ブチル基、及び、tert-ブチル基が好ましく、特に好ましくは、メチル基及びエチル基である。前記ハロゲン化アルキル基としては、例えば、トリフルオロメチル基等の前記低級アルキル基のハロゲン化物を挙げることができる。前記低級アルコキシ基としては、例えば、C₁〜₆の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基が好ましく、より好ましくはC₁〜₄の直鎖又は分岐鎖のアルコキシ基である。具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、sec-ブトキシ基、及び、tert-ブトキシ基が、さらに好ましく、特に好ましくはメトキシ基及びエトキシ基である。前記ハロゲン化アルコキシ基としては、例えば、トリフルオロメトキシ基等の前記低級アルコキシ基のハロゲン化物を挙げることができる。

前記式(7)中、qは、0〜4までの整数である。前記式(7)においては、q＝0であり、かつ、ベンゼン環の両端に結合したカルボニル基とエーテルの酸素原子とが互いにパラ位に存在することが好ましい。

また、前記式(7)中、R¹は、下記式(8)で表される基であり、mは、0又は1の整数である。

前記式(8)中、X'は置換基を表し、例えば、前記式(7)におけるXと同様である。前記式(8)において、X'が複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。q'は、前記X'の置換数を表し、0〜4までの整数であって、q'＝0が好ましい。また、pは、0又は1の整数である。

前記式(8)中、R²は、2価の芳香族基を表す。この2価の芳香族基としては、例えば、o-、m-もしくはp-フェニレン基、又は、ナフタレン、ビフェニル、アントラセン、o-、m-もしくはp-テルフェニル、フェナントレン、ジベンゾフラン、ビフェニルエーテル、もしくは、ビフェニルスルホンから誘導される2価の基等を挙げることができる。これらの2価の芳香族基において、芳香族に直接結合している水素が、ハロゲン原子、低級アルキル基又は低級アルコキシ基で置換されてもよい。これらの中でも、前記R²としては、下記式(9)〜(15)からなる群から選択される芳香族基が好ましい。

前記式(7)中、前記R¹としては、下記式(16)で表される基が好ましく、下記式(16)において、R²及びpは前記式(8)と同義である。

さらに、前記式(7)中、nは重合度を表し、例えば、2〜5,000の範囲であり、好ましくは、5〜500の範囲である。また、その重合は、同じ構造の繰り返し単位からなるものであってもよく、異なる構造の繰り返し単位からなるものであってもよい。後者の場合には、繰り返し単位の重合形態は、ブロック重合であってもよいし、ランダム重合でもよい。

さらに、前記式(7)で示されるポリアリールエーテルケトンの末端は、p-テトラフルオロベンゾイレン基側がフッ素であり、オキシアルキレン基側が水素原子であることが好ましく、このようなポリアリールエーテルケトンは、例えば、下記一般式(17)で表すことができる。尚、下記式において、nは前記式(7)と同様の重合度を表す。

前記式(7)で示されるポリアリールエーテルケトンの具体例としでは、下記式(18)〜(21)で表されるもの等があげられ、下記各式において、nは、前記式(7)と同様の重合度を表す。

また、これらの他に、前記複屈折層の成膜材料である前記ポリアミド又はポリエステルとしては、例えば、特表平10-508048号公報に記載されるポリアミドやポリエステルがあげられ、それらの繰り返し単位は、例えば、下記一般式(22)で表すことができる。

前記式(22)中、Yは、O又はNHである。また、Eは、例えば、共有結合、C₂アルキレン基、ハロゲン化C₂アルキレン基、CH₂基、C(CX₃)₂基(ここで、Xはハロゲン又は水素である。)、CO基、O原子、S原子、SO₂基、Si(R)₂基、及び、N(R)基からなる群から選ばれる少なくとも一種類の基であり、それぞれ同一でもよいし異なってもよい。前記Eにおいて、Rは、C₁〜₃アルキル基及びC₁〜₃ハロゲン化アルキル基の少なくとも一種類であり、カルボニル官能基又はY基に対してメタ位又はパラ位にある。

また、前記(22)中、A及びA'は、置換基であり、t及びzは、それぞれの置換数を表す。 また、pは、0〜3までの整数であり、qは、1〜3までの整数であり、rは、0〜3までの整数である。

前記Aは、例えば、水素、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、C₁〜₃ハロゲン化アルキル基、OR(ここで、Rは、前記定義のものである。)で表されるアルコキシ基、アリール基、ハロゲン化等による置換アリール基、C₁〜₉アルコキシカルボニル基、C₁〜₉アルキルカルボニルオキシ基、C₁〜₁₂アリールオキシカルボニル基、C₁〜₁₂アリールカルボニルオキシ基及びその置換誘導体、C₁〜₁₂アリールカルバモイル基、並びに、C₁〜₁₂アリールカルボニルアミノ基及びその置換誘導体からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記Ａ'は、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、C₁〜₃ハロゲン化アルキル基、フェニル基及び置換フェニル基からなる群から選択され、複数の場合、それぞれ同一であるか又は異なる。前記置換フェニル基のフェニル環上の置換基としては、例えば、ハロゲン、C₁〜₃アルキル基、C₁〜₃ハロゲン化アルキル基及びこれらの組み合わせを挙げることができる。前記tは、0〜4までの整数であり、前記zは、0〜3までの整数である。

前記式(22)で表されるポリアミド又はポリエステルの繰り返し単位の中でも、下記一般式(23)で表されるものが好ましい。

前記式(23)中、A、A'及びYは、前記式(22)で定義したものであり、vは0〜3の整数、好ましくは、0〜2の整数である。x及びyは、それぞれ0又は1であるが、共に0であることはない。

また、ポリエステルとしては、繰り返し単位が下記一般式(24)(25)で表されるものであってもよい。

前記式(24)(25)中、X及びYは、置換基である。該Xは、水素、塩素及び臭素からなる群から選択される。また、該Yは、下記式(26)(27)(28)(29)からなる群から選択される。

更に、ポリエステルとしては、前記一般式(24)(25)で表されるポリエステルを組み合わせたコポリマーであってもよい。

前記複屈折層の成膜材料を塗工する際の溶液濃度は適宜決定して構わないが、基材層への塗工性(異物混入、塗工時のムラやスジ)を考慮すると、通常0.5重量%〜50重量%、好ましくは1重量%〜40重量%、さらに好ましくは2重量%〜30重量%とすることができる。0.5重量%未満であると、溶液粘度が低すぎるため所定の膜厚まで1回で塗工する事が困難となり、50重量%を超えると溶液粘度が高すぎるために、塗工面が荒れるなどの不具合が発生する場合がある。

前記成膜材料の溶液において、前記成膜材料を溶解させる溶媒としては、前記成膜材料を溶解でき、かつ基材層を極度には浸食しないものであればよく、使用する成膜材料及び基材層に応じ適宜選択することができる。具体的には、例えば、クロロホルム、ジクロロメタン、四塩化炭素、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼン、o-ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類、フェノール、パラクロロフェノール等のフェノール類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、1，2-ジメトキシベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、酢酸エチル、t-ブチルアルコール、グリセリン、エチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、2-メチル-2，4-ペンタンジオール、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、2-ピロリドン、N-メチル-2-ピロリドン、ピリジン、トリエチルアミン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ブチロニトリル、メチルイソブチルケトン、メチルエーテルケトン、シクロペンタノン、二硫化炭素等及びこれらの混合溶媒等が用いられる。また、用いる成膜材料によっては硫酸も使用できる。

前記成膜材料溶液は、前記成膜材料及び溶媒に加えて、目的に応じ界面活性剤等の他の添加物を加えても良い。

前記成膜材料溶液を前記基材上に塗工する方法は、特に限定されず、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、ブレードコート法等により行うことができる。これらの方法により前記成膜材料溶液を、得られるフィルムが所望の膜厚になるように基材上に配した後、乾燥させることにより塗膜を得ることができる。乾燥温度は溶媒の種類等に応じて適宜選択することができるが、通常40℃〜250℃、好ましくは50℃〜200℃とすることができる。乾燥は一定温度下で行っても良いし段階的に温度を上昇させて行っても良い。
乾燥時間は通常10秒間〜60分間、好ましくは30秒間〜30分間とすることができる。30秒未満であると、溶媒が多量に残って製品の信頼性に問題を生じる場合があり、30分以上であると工業生産性に適しない。

前記成膜材料をフィルム（基材）に塗工する領域は、基材全体ではなく、延伸時の把持箇所を除いた領域とすることが好ましい。例えば、フィルム（基材）が帯状であり、該帯状のフィルム（基材）を幅方向に延伸する場合には、延伸時の把持箇所である基材の幅方向両端部を除き、基材の中央部分に成膜材料を塗工することが好ましい。

また、前述のようなポリマーを含む成膜材料溶液をフィルム（基材）上に配して塗膜を構成する際には、乾燥による溶剤の揮発によって塗膜を膜厚方向に収縮させて分子配向に異方性を生じさせ、塗膜が負の一軸配向性フィルムとなるようにすることが好ましい。さらに、前記成膜材料として重合可能な低分子化合物を用いる場合には、成膜材料溶液をフィルム（基材）上に配し、乾燥させて低分子化合物の面配向物を得た後、必要に応じて熱や光により架橋させることにより、負の一軸性フィルムとすることもできる。

尚、負の一軸性フィルムとは、面内の主屈折率nx及びnyがほぼ同一(nx≒ny)であり、且つ面内の主屈折率nx及びnyが、nzより大きい関係(nx≒ny＞nz)を満たすフィルムをいう。具体的にはnxとnyとの差は0.001以下程度であれば、負の一軸性を有するものとして用いることができる。

主屈折率nx，ny及びnzの値は、前記塗工及び乾燥によって塗膜を作製する場合に、用いる成膜材料及び作製する条件に依存して決めることができ、さらに目的に応じて膜厚を選択することにより、光学的に重要なパラメータである面内と厚み方向のレタデーション値((nx−nz)と膜厚dの積で得られる値)を制御することができる。

前記負の一軸性配向性フィルムを作製する際には、面内方向の屈折率と厚み方向の屈折率との差、すなわちnx−nzは、ある程度大きいことが好ましく、通常0.002以上、好ましくは0.005以上、さらに好ましくは0.01以上、特に好ましくは0.02以上とすることが望ましい。該屈折率差が小さい場合は、面内と厚み方向に関する所望のレタデーションを得るために、フィルムの膜厚を厚くしなければならない。後で述べるように該膜厚が厚すぎる場合には、延伸工程において均一な構造が得られにくくなるため、nx−nzの値は0.002以上であることが好ましい。

前記負の一軸配向性フィルムの厚み方向のレタデーション値、即ち(nx−nz)×dで与えられる値は、通常20〜2000nm、より好ましくは50〜1000nm、さらに好ましくは100〜600nmとする。20nm未満の場合はレタデーション値が小さすぎて、光学素子としての機能に欠けるおそれがあるため好ましくない。2000nmを超える場合は塗布や乾燥時にむらができ不均一なフィルムを与えるおそれがあるのであまり好ましくない。また、前記負の一軸配向性フィルムの膜厚は、通常0.2〜100μｍ、好ましくは0.5〜50μｍ、さらに好ましくは1〜20μｍとすることができる。0.2μｍ未満の場合は、フィルムの複屈折値(nx−nz)にもよるが、概してレタデーション値が小さくなるため、光学素子としての機能に欠けるおそれがあるため好ましくない。100μｍを超える場合は塗布や乾燥時にむらができ不均一なフィルムを与えるおそれがあるため好ましくない。

また、前記負の一軸配向性フィルムの膜厚は、後の延伸工程において前記負の一軸配向性フィルムを前記基材と共に延伸させる際、前記基材の膜厚よりも小さいことが好ましく、前記基材の膜厚の半分よりも小さいことがさらに好ましい。前記基材の膜厚に対して前記負の一軸配向性フィルムの膜厚を相対的に小さくすることにより、延伸させた際に均一な延伸を行うことができる。

前記負の一軸配向性フィルムをフィルム（基材）上に配した状態で該基材を延伸すると、該基材に張力が課せられ、ポリマーフィルムを備えてなる基材が均一に延伸し、この均一な延伸が前記負の一軸配向性フィルムに作用し、該一軸配向性フィルムが間接的に延伸されることとなるので、負の一軸配向性フィルムを直接的に延伸した場合等に比べて均一な延伸を行うことができる。特に、前記基材の膜厚に対して前記負の一軸性フィルムの膜厚を相対的に小さくして延伸すると、前記基材に主に張力が課せられ、均一な延伸が可能となるため特に好ましい。

本発明において延伸は、テンター延伸により実施される。
ここで、テンター延伸とは、対をなすレールを備え、該レールが帯状のフィルム（基材）の走行方向下流側に向けて幅方向にレール幅がテーパー状に広げられたレール拡幅部を有するテンター延伸機を用い、基材の幅方向両端部を前記レールに沿わせて走行させることにより、帯状のフィルム（基材）を幅方向に延伸させることをいう。
図１は、テンター延伸機の一例を示した概略図である。

テンター延伸機１は、例えば、図１に示すように、前記フィルム（基材）の幅方向の両端部を把持する複数対のクリップ２と、前記クリップ２が走行する１対のレール３と、走行する前記フィルム（基材）を加熱する加熱手段５とを具備し、前記レールがフィルム（基材）の走行方向下流側に向けて幅方向にレール幅がテーパー状に広げられたレール拡幅部４を有している。

本実施形態のテンター延伸機１には、前記１対のレール３によって横延伸されるフィルム（基材）が走行する基材走行路Ｒが区画形成されている。
前記クリップ２は、左右の各レール３に沿って走行するようになっている。
また、前記１対のレール３は、フィルム（基材）を受け入れる基材走行路Ｒの入口側（走行方向上流側）に配設された入口側ガイド部６と、フィルム（基材）走行方向下流側に向かって拡幅するように配されたレール拡幅部４と、横延伸されたフィルム（基材）を、次工程の巻き取り機（図示せず）に送る出口側ガイド部７とを有している。

前記レール拡幅部４は、フィルム（基材）の長手方向（走行方向）と前記レール拡幅部４におけるレールの指向方向とのなす角（テンター開き角）で、徐々に拡幅するようになっている。

次に、上記構成の本実施形態のテンター延伸機１の作用について説明する。
前記クリップ２は、基材走行路Ｒの入口側ガイド部６でフィルム（基材）をクリップし、該フィルム（基材）を把持したままの状態でレール拡幅部４に導かれる。
前記レール拡幅部４では、各クリップ２がレール３のレール拡幅部４の拡幅された部分に沿って走行するに伴い基材の両側のクリップ２間の間隔が徐々に拡幅され、これに伴い基材が横方向に延伸されることになる。
さらに、各クリップ２は横延伸された基材をクリップしたままの状態で、さらに走行し基材走行路Ｒの出口側ガイド部７まで導かれる。このようにして横延伸された基材が作製される。

本発明の一実施形態においては、帯状のフィルム（基材）の中央部に複屈折層の成膜材料を塗工し、成膜材料を塗工していない幅方向両端の略中央部を把持して幅方向外側へ張力をかけて延伸する方法を採用し得る。このように、延伸するための把持箇所を基材のみとすることにより、成膜材料の塗膜と基材とを共に把持して延伸した場合と比較して把持箇所から該塗膜までの延伸応力の伝わり方が、基材が緩和層的な役割を担うために緩やかとなり、結果的に幅方向により均一になる。

前記延伸は、前記加熱手段を用いて、フィルム（基材）としての前記ポリマーフィルムと共に、加熱しつつ行うこが好ましい。特に加熱温度は、基材のガラス転移点(Tg)±20℃の範囲であり且つ負の一軸性フィルムのガラス転移点以下が好ましい。通常40℃〜250℃、好ましくは80℃〜220℃、さらに好ましくは100℃〜200℃とすることにより、基材のTg±20℃とすることができる。基材のガラス転移点-20℃未満の温度であると、延伸を行うのに膨大な張力を必要とし、かつ成膜材料が塗布してある部分と塗布していない部分との境界に応力が集中して基材が破断してしまう場合があり、また基材のガラス転移点+20℃を超えた温度であると、基材のみが延伸されてしまい実質的な位相差を発現すべきである成膜材料の塗膜が十分に延伸されないという不具合が生じる。また、成膜材料のガラス転移点以上で延伸しようとすると、基材に対する温度が高すぎるため、前記負の一軸性フィルムの延伸を制御できなくなる。

本実施形態において、前記テンター開き角(θ)は、０＜θ≦５度である。
前記テンター開き角を０＜θ≦5度とすることによって、横延伸時にに生じるボーイング現象が抑制されるため、配向角分布のバラツキを低減することができる。
なお、テンター開き角(θ)とは、帯状のフィルム（基材）の長手方向（走行方向）とレール拡幅部におけるレールの指向方向とのなす角度を意味する。

前記延伸を行う場合、延伸倍率は１．０１〜２倍であり、好ましくは１．０３〜１．７倍、さらに好ましくは１．０５〜１．５倍とする。延伸倍率が１．０１倍未満であると延伸による効果が十分でなくフィルムが負の一軸配向性に近い構造にしかならないおそれがあるため好ましくない。延伸倍率を２倍より大きくすれば、延伸むらが生じてフィルムが不均一な屈折率構造となってしまうおそれがある。

尚、延伸した後に、適宜緩和工程を設けてもよい。緩和工程では、延伸されたフィルム（基材）を所定時間、所定温度に保持して、基材を収縮させる。この場合の緩和率は20%以内であるのが好ましく、保持温度は、上記基材のガラス転移点(Tg)±30℃の範囲であり、保持時間は1秒〜60秒である。

前記延伸を行うことにより、3つの主屈折率のうちny及びnzを大きく変化させることなくnxだけを大きく変化させ、nx＞ny＞nzの二軸配向構造を得ることができる。
よって、(nx−nz)×dの値を相対的には大きく変化させることなく、面内のレタデーション値((nx−ny)×d)を延伸段階で大幅に制御することができる。尚、前記一軸延伸を行った場合は、通常、延伸方向が前記x方向(3方向の主屈折率のうち最大の屈折率を有する方向)となり、前記二軸延伸を行った場合は、延伸倍率の大きい方向が前記x方向となる。

前記延伸終了後、得られた二軸配向性フィルムは、必要に応じて室温まで冷却される。
冷却速度や手段は特に制限されない。ただし、冷却前に急激に延伸時の張力を解放すると、得られたフィルムにしわが入りやすいため、該張力を解放する前に、冷却工程の一部又は全部を実施することが好ましい。

このようにして得られた二軸配向性フィルム(即ち、複屈折層)、又は該二軸配向性フィルムと基材との積層体は、そのまま、又は必要に応じて他の光学用フィルム、例えば他の屈折率構造を有する位相差フィルムや偏光板等と組み合わせ、製品である本発明の位相差フィルムとすることができる。具体的には、例えば、工業的に一般に製造されている形式の、ヨウ素を含浸したポリビニルアルコール膜を２枚の基材フィルムで保護した形の偏光板の中に、前記二軸配向性フィルムを組み込んで一体化し、製品である本発明の位相差フィルムとすることもできる。

本発明の製造方法によれば、均一性の高い位相差フィルムを製造することができ、屈折率構造の制御が容易であるため、品質の高い、優れた機能を発揮する二軸配向性の位相差フィルムを製造することができる。とりわけ液晶ディスプレーの分野は、視覚に訴える用途であるため、使用する光学部材の均一性やパラメータの妥当性が非常に厳しく評価されるところ、本発明の製造方法によれば、そのような要求にも十分応えることができる位相差フィルムを製造できる。

本発明の位相差フィルムは、光軸をフィルム面に投影したときの遅相軸のバラツキが、成膜材料溶液の塗工端を除いて、通常±２°以内に制御されたものとなる。また、基材として上述のような好適なポリマーフィルムを用いた場合、遅相軸のバラツキは±１．５°以内に制御され、延伸温度の均一性及び延伸張力の均一性が高い条件で製造すれば、遅相軸のバラツキを±１°以内に制御することも可能となる。

本発明の位相差フィルムの用途は、特に限定されないが、例えば、偏光子と組み合わせた位相差フィルム一体型偏光板等として用いることが出来る。

本発明の液晶表示装置は、上述のような本発明の位相差フィルムを備えたものである。 液晶表示装置の形式は特に限定されず、例えばSTN(Super Twisted Nematic)セル、TN(Twisted Nematic)セル、VA(Vertical Aligned)セル、OCB(Optically Controled Birefringence)セル、HAN(Hybrid Aligned Nematic)セル、及びこれらに規則正しい配向分割を施したもの、ランダムな配向分割を行ったもの等の、各種のセルを含むものとすることができ、また、単純マトリックス方式、TFT(Thin Film Transistore)電極やMIM(Metal Insulator Metal)電極等を用いたアクティブマトリックス方式、セルの面内方向に駆動電圧を印加するIPS(In-Plane Switching)方式、プラズマアドレッシング方式等の各種の駆動方式を採るものとすることができる。また、バックライトシステムを備えた透過型のもの、あるいは反射板を供えた反射型のもの、さらには投射型のものとすることもできる。

本発明の液晶表示装置における、前記位相差フィルムを備える態様は、特に限定されないが、通常、偏光板と駆動セルとの間であって、駆動セルの上側及び／又は下側の位置に、1枚若しくは複数枚前記位相差フィルムを配置する態様を挙げることができる。なかでも駆動セルの上側と下側に当該フィルムを1枚ずつ配置する態様が好ましい。またさらに別の光学用フィルム、例えば本発明の位相差フィルムとは異なる屈折率構造を有する散乱フィルム、レンズシート等と組み合わせた態様とすることもできる。

また、本発明の位相差フィルムや位相差フィルム一体型偏光板は、前述のような液晶表示装置には、限定されず、例えば、有機エレクトロルミネッセンス(EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイ(PD)、電界放出ディスプレイ(FED)等の自発光型表示装置にも使用できる。

本発明の位相差フィルム又は位相差フィルム一体型偏光板を備えるエレクトロルミネッセンス(EL)装置について説明する。本発明のEL表示装置は、本発明の位相差フィルム又は位相差フィルム一体型偏光板を有する表示装置であり、このEL表示装置は、有機EL及び無機ELのいずれでもよい。

ここで、一般的な有機ＥＬ表示装置について説明する。前記有機EL表示装置は、一般に、透明基板上に、透明電極、有機発光層及び金属電極がこの順序で積層された発光体を有している。前記有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えば、トリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層とアントラセン等の蛍光性有機固体からなる発光層との積層体や、このような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層との積層体や、また、前記正孔注入層と発光層と電子注入層との積層体等、種々の組み合わせを挙げることができる。

そして、このような有機EL表示装置は、前記陽極と陰極とに電圧を印加することによって、前記有機発光層に正孔と電子とが注入され、前記正孔と電子とが再結合することによって生じるエネルギーが、蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。

前記有機EL表示装置において、前記有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明であることが必要なため、通常、酸化インジウムスズ等の透明電極体で形成された透明電極が陽極として使用される。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要であり、通常、Mg-Ag、Al-Li等の金属電極が使用される。

このような構成の有機EL表示装置において、前記有機発光層は、例えば、厚み10nm程度の極めて薄い膜で形成されることが好ましい。これは、前記有機発光層においても、透明電極と同様に、光をほぼ完全に透過させるためである。その結果、非発光時に、前記透明基板の表面から入射して、前記透明電極と有機発光層とを透過して前記金属電極で反射した光が、再び前記透明基板の表面側へ出る。このため、外部から視認した際に、有機EL表示装置の表示面が鏡面のように見えるのである。

本発明の有機EL表示装置は、例えば、前記有機発光層の表面側に透明電極を備え、前記有機発光層の裏面側に金属電極を備えた前記有機EL発光体を含む有機EL表示装置において、前記透明電極の表面に、本発明の位相差フィルム(位相差フィルム一体型偏光板)が配置されることが好ましく、更にλ／４板を偏光板とEL素子との間に配置することが好ましい。このように、本発明の位相差フィルム等を配置することによって、外界の反射を抑え、視認性向上が可能であるという効果を示す有機EL表示装置となる。

以下に実施例を述べるが、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、実施例で用いた各分析法は以下の通りである。

(配向角及び位相差測定)
自動複屈折計(王子計測機器製 KOBRA-21ADH)を用いて測定した。
測定に用いた波長590nm、測定温度25℃で測定した。

(膜厚測定)
波長700〜900nmの光干渉法より計算(大塚電子製 自記分光光度計MCPD-2000)した。

(ポリイミドの合成)
複屈折層の成膜材料として、下記式(30)で表されるポリイミドの粉末を、2，2'-ビス(3，4-ジカルボキフェニル)ヘキサフルオロプロパン及び2，2'-ビス(トリフオロメチル)-4，4'-ジアミノビフェニルから合成した。
尚、下記式(30)で表されるポリイミドの重量平均分子量は134,000、ガラス転移温度Tg=300℃である。

(実施例１)
式(36)のポリイミド粉末を、メチルイソブチルケトンに10重量%添加、攪拌して溶解させ、ポリイミド溶液を作製した。基材には、変性ポリエステルウレタン(東洋紡製、バイロンUR-1400)を0.8μｍの厚さに塗工したトリアセチルセルロース基材(厚み80μｍ、富士フィルム製)を用いた。
前記トリアセチルセルロース基材の変性ポリエステルウレタン塗工側に前記ポリイミド溶液を塗工し、120℃で乾燥し、ポリイミド膜を形成させた。前記トリアセチルセルロース基材の幅は、1330mmであり、塗工幅は、1250mmとした。また、前記ポリイミド膜の厚みは、3.3μｍであった。該ポリイミド膜の屈折率は、nx＝ny＞nzで負の一軸性を有しており、厚み方向の位相差は、200nmであった。また、該ポリイミド膜のガラス転移温度は、300℃であった。
ポリイミドを塗工した基材を150℃で、テンター延伸機（日本製鋼所製）を用いて横延伸した。
図２にテンター開き角と横延伸の状態を表す平面図を示す。
図２に示すように前記テンター延伸機のテンター開き角2.75°、延伸倍率＝1.172倍及び延伸後の緩和率＝0.965倍と一定にして延伸を行った。
尚、延伸倍率は、W2(横延伸後緩和前の基材幅)÷W1(延伸前の基材幅)で求めた。
また、緩和とは、延伸した後に同じ方向に収縮させる操作のことをいい、緩和率は、W3(緩和後の基材幅)÷W2(延伸後緩和前の基材幅)で求めた。

実施例１に示す条件により、ポリイミドを塗工した基材の延伸を行った結果、屈折率がnx＞ny＞nzの関係を満たす二軸性のフィルムが得られた。このフィルムの幅方向位相差及び配向角を、フィルム中心を基準として幅方向に200mmずつ計７点を自動複屈折計(王子計測機器製 KOBRA-21ADH)にて測定した。配向角分布(最大値−最小値)は1.0°であった。また、面内位相差(△nd)＝56.0±2ｎｍ、厚み位相差(Rth)＝255±6ｎｍであった。
尚、面内位相差及び厚み位相差は、延伸処理後のポリイミドを塗工した基材を測定値したものである。また、面内位相差及び厚み位相差の数値範囲の求め方は、測定した７点の平均を出して、該平均値と最大値・最小値の範囲を出したものである。

(実施例２)
図２に示すようにテンター延伸機のテンター開き角を4.12°とした以外は、実施例1と同様の操作を行った。配向角分布は1.0°、面内位相差(△nd)＝55.1±2nm、厚み位相差(Rth)＝254±6nmであった。

(比較例１)
図２に示すようにテンター延伸機のテンター開き角を8.19°とした以外は、実施例1と同様の操作を行った。配向角分布は3.0°、面内位相差(△nd)＝54.4±3nm、厚み位相差(Rth)＝257±6nmであった。

実施例1〜比較例1の結果を表1に示した。

実施例1と実施例2で得られた積層体は、屈折率がnx＞ny＞nzであり、二軸配向性の位相差フィルムであった。該位相差フィルムの配向角分布(配向角の最大値−最小値)は、1°と非常に均一であった。

テンター延伸機の一例を示した概略図である。 テンター開き角と横延伸の状態を表す平面図である。

符号の説明

１ テンター延伸機
２ クリップ
３ レール
４ レール拡幅部
５ 加熱手段
６ 入口側ガイド部
７ 出口側ガイド部
θ テンター開き角
Ｒ 基材走行路
Ｗ１ 延伸前の基材幅
Ｗ２ 横延伸後緩和前の基材幅
Ｗ３ 緩和後の基材幅

Claims (5)

1. 帯状のフィルムを長手方向に走行させながら、テンター延伸により幅方向に延伸させる位相差フィルムの製造方法であって、
   前記フィルムとして帯状の基材に成膜材料を塗工して塗膜を形成したものを用い且つ該フィルムの走行方向に対するテンター開き角度θを０＜θ≦５°として延伸することを特徴とする位相差フィルムの製造方法。
2. 前記成膜材料が、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミド−イミド及びポリエステル−イミドから選ばれる少なくとも１種のポリマーであることを特徴とする請求項１記載の位相差フィルムの製造方法。
3. 請求項１又は２に記載の位相差フィルムの製造方法により得られた位相差フィルムを少なくとも偏光子の片側に配置した位相差フィルム一体型偏光板。
4. 請求項１又は２に記載の位相差フィルムの製造方法により得られた位相差フィルム又は請求項３記載の位相差フィルム一体型偏光板を少なくとも液晶セルの片側に配置したことを特徴とする液晶表示装置。
5. 請求項１又は２に記載の位相差フィルムの製造方法により得られた位相差フィルム又は請求項３記載の位相差フィルム一体型偏光板を備えた自発光型表示装置。

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