JP2003195038A - 表示装置用基板 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 広帯域波長で、視野角依存性が低く、視認性
の高い表示装置用基板の提供。 【解決手段】 一軸延伸及びアンバランス二軸延伸の
少なくともいずれかにより得られ、位相差が実質的に１
／２波長である位相差板及び位相差が実質的に１／４波
長である位相差板が、各位相差板における面内の遅相軸
同士のなす角度が０度及び９０度以外の角度で積層され
た積層体の、少なくとも一方の位相差板表面に、光学異
方性層であって、その厚みをｄ、面内遅相軸方向の屈折
率をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の
屈折率をｎｚ、としたとき、ｎｚ≧（ｎｘ＋ｎｙ）／２
を満たす光学異方性層を有することを特徴とする表示装
置用基板である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、パソコン、ＡＶ機
器、携帯型情報通信機器、ゲームやシミュレーション機
器、及び、車載用のナビゲーションシステム等、種々の
分野の表示装置に好適に利用される表示装置用基板に関
する。

【０００２】

【従来の技術】反射型液晶表示装置、特にアクティブマ
トリクスタイプのＴＮ（ツイスティッドネマチック）モ
ードにおいては、白黒化を実現し、コントラストの向上
及びカラー化を可能とするために、レターデーション
（Ｒｅ）が波長の長さの１／４である１／４位相差板が
用いられる。

【０００３】しかし、現在提供されている１／４位相差
板においては、可視光全域の入射光に対して、概ね１／
４波長板特性を満たしているとはいえ、短波又は長波で
は、完全な１／４波長板特性からずれており、更に優れ
た１／４波長板特性を有する位相差板が要求されてい
る。

【０００４】又、１／４位相差板においては、光の入射
角度によって光路長が変わるため、レターデーションの
値（Ｒｅ）が異なる、所謂「視野角依存性」があり、視
認性が悪いという問題があった。近年、技術の発達によ
り、１／４位相差板を大画面に応用する技術等が要求さ
れ、より広範囲かつ広帯域波長において、視野角依存性
が無く、視認性の高い表示装置用基板が求められてい
る。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、前記従来に
おける諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課
題とする。即ち、本発明は、広帯域波長で、視野角依存
性が低く、視認性の高い表示装置用基板を提供すること
を目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段としては、以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 一軸延伸及びアンバランス二軸延伸の少なくと
もいずれかにより得られ、位相差が実質的に１／２波長
である位相差板及び位相差が実質的に１／４波長である
位相差板が、各位相差板における面内の遅相軸同士のな
す角度が０度及び９０度以外の角度で積層された積層体
の、少なくとも一方の位相差板表面に、光学異方性層で
あって、その厚みをｄ、面内遅相軸方向の屈折率をｎ
ｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率
をｎｚ、としたとき、ｎｚ≧（ｎｘ＋ｎｙ）／２を満た
す光学異方性層を有することを特徴とする表示装置用基
板である。 ＜２＞ 各位相差板における面内の遅相軸同士のなす角
度が、５０乃至７０度である前記＜１＞に記載の表示装
置用基板である。 ＜３＞ 波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍに
おけるレターデーション値を各々Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ
（５５０）及びＲｅ（６５０）とすると、Ｒｅ（４５
０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たし、か
つ、Ｒｅ（５５０）の値が１１０乃至１６０ｎｍである
前記＜１＞又は＜２＞に記載の表示装置用基板である。

【０００７】＜４＞ 光学異方性層が、該光学異方性層
における厚み方向に配向した棒状液晶性化合物を含む前
記＜１＞から＜３＞のいずれかに記載の表示装置用基板
である。 ＜５＞ 光学異方性層が、固有複屈折値が負の樹脂から
なる二軸延伸フィルム及びアンバランス二軸延伸フィル
ムの少なくともいずれかである前記＜１＞から＜３＞の
いずれかに記載の表示装置用基板である。 ＜６＞ 光学異方性層が、光異性化化合物を含む前記＜
１＞から＜３＞のいずれかに記載の表示装置用基板であ
る。

【０００８】＜７＞ 波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及
び６５０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）／波長
（λ）の値が、０．２乃至０．３である前記＜１＞から
＜６＞のいずれかに記載の表示装置用基板である。 ＜８＞ 表示装置用基板に対し、法線方向から入射する
光のレターデーションをＲｅ［０］、法線方向からθ度
傾いた角度で入射する光のレターデーションをＲｅ
［θ］としたとき、波長５５０ｎｍにおいて、Ｒｅ
［０］／Ｒｅ［θ］の値が、０．９３〜１．０７である
請求項１から７のいずれかに記載の表示装置用基板であ
る。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の表示装置用基板は、位相差が実質的に１／２波
長である位相差板及び位相差が実質的に１／４波長であ
る位相差板が積層された積層体の、少なくとも一方の位
相差板表面に、光学異方性層を有し、必要に応じてその
他の層を有する。

【００１０】［積層体］前記積層体においては、位相差
が実質的に１／２波長である位相差板及び位相差が実質
的に１／４波長である位相差板が、各位相差板における
面内の遅相軸同士のなす角度が０度及び９０度以外の角
度で積層されている。

【００１１】−位相差が実質的に１／２波長である位相
差板− 本発明において、前記「位相差が実質的に１／２波長で
ある位相差板」とは、波長５５０ｎｍにおけるレターデ
ーション（Ｒｅ）値が２００乃至３５０ｎｍを満たす位
相差板を指し、２３３乃至２７５ｎｍを満たすのが好ま
しく、２６１乃至２７５ｎｍを満たすのがより好まし
い。また、可視光域の広い範囲における波長において、
レターデーション（Ｒｅ）が前記数値範囲内であるのが
より好ましい。

【００１２】−位相差が実質的に１／４波長である位相
差板− 本発明において、前記「位相差が実質的に１／４波長で
ある位相差板」とは、波長５５０ｎｍにおけるレターデ
ーション（Ｒｅ）値が１００乃至１７０ｎｍを満たす位
相差板を指し、１１８乃至１３８ｎｍを満たすのが好ま
しく、１２４乃至１３８ｎｍを満たすのがより好まし
い。また、可視光域の広い範囲における波長において、
レターデーション（Ｒｅ）が前記数値範囲内であるのが
より好ましい。

【００１３】＜位相差板の構成・態様等＞前記各位相差
板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにお
けるレターデーション値を各々Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ
（５５０）及びＲｅ（６５０）とすると、Ｒｅ（４５
０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす、換言
すれば、前記レターデーション値と波長とが正の相関関
係を有するのが好ましい。該相関関係を有することによ
り、可視光全域の入射光に対し、優れた１／４波長板特
性を有する表示装置用基板を提供できる。

【００１４】前記各位相差板の態様としては、固有複屈
折値が正の材料及び負の材料を含有する第一の態様、固
有複屈折値が正の材料からなる層及び負の材料からなる
層の積層体を含む第二の態様、固有複屈折値が正の部位
及び負の部位を有する材料を含有する第三の態様、WO０
０／２６７０５号公報記載の材料を用いる第四の態様、
酢酸セルロースを利用した第五の態様等の、一枚で広帯
域における１／４波長板特性を有する材料も有効に利用
可能であるが、本発明においては、固有複屈折値が正及
び負の組み合わせを有するのが、光弾性が小さく、特に
好ましい。これらの態様の中でも、特に固有複屈折値が
正の材料からなる層及び負の材料からなる層の積層体を
含む第二の態様が特に好ましい。

【００１５】＜＜第一の態様＞＞第一の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料及び負の材料を含有
（「同一層中に含有」を意味する。）し、必要に応じて
その他の成分を含有する態様である。 −−固有複屈折値が正の材料−− 前記固有複屈折値が正の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に正の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、棒状液晶性化合物などがそ
の例として挙げられる。これらは、１種単独で使用して
もよいし、２種以上を併用してもよい。本発明において
は、これらの中でも固有複屈折値が正のポリマーが好ま
しい。

【００１６】前記固有複屈折値が正の材料において、前
記固有複屈折値が正のポリマーとしては、ポリオレフィ
ン系ポリマー（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ノルボルネン系ポリマーなど）、ポリエステル系ポ
リマー（例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブ
チレンテレフタレートなど）、ポリアリーレンサルファ
イド系ポリマー（例えば、ポリフェニレンサルファイド
など）、ポリビニルアルコール系ポリマー、ポリカーボ
ネート系ポリマー、ポリアリレート系ポリマー、セルロ
ースエステル系ポリマー（前記固有複屈折値が負である
ものもある）、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリ
スルホン系ポリマー、ポリアリルスルホン系ポリマー、
ポリ塩化ビニル系ポリマー、あるいはこれらの多元（二
元、三元等）共重合ポリマーなどが挙げられる。これら
は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を併用して
もよい。本発明においては、これらの中でも、変性ポリ
カーボネート等のポリカーボネート系、ノルボルネン
系、ポリエーテルスルホン系等のポリマーが、耐熱性、
透明性等の点で好ましく、波長分散が低く、光弾性が小
さく、寸度安定性、耐熱性、及び光透過性に優れる点
で、ノルボルネン系ポリマーが特に好ましい。

【００１７】前記ノルボルネン系ポリマーは、ノルボル
ネン骨格を繰り返し単位として有する樹脂であり、例え
ば、特開昭６２−２５２４０６号、特開昭６２−２５２
４０７号、特開平２−１３３４１３号、特開昭６３−１
４５３２４号、特開昭６３−２６４６２６号、特開平１
−２４０５１７号、特公昭５７−８８１５号、特開平５
−３９４０３号、特開平５−４３６６３号、特開平５−
４３８３４号、特開平５−７０６５５号、特開平５−２
７９５５４号、特開平６−２０６９８５号、特開平７−
６２０２８号、特開平８−１７６４１１号、特開平９−
２４１４８４号などの各公報等に記載のポリマーが好適
に挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよく、
２種以上を併用してもよい。

【００１８】前記ノルボルネン系ポリマーの重量平均分
子量としては、５，０００〜１，０００，０００程度で
あり、８，０００〜２００，０００程度が好ましい。

【００１９】前記棒状液晶性化合物としては、棒状のネ
マチック配向を示す液晶が好適に挙げられ、低分子液晶
であってもよいし、高分子液晶であってもよい。前記低
分子液晶の具体例としては、アゾメチン類、アゾキシ
類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、
安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニ
ルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シア
ノ置換フェニルピリジン類、フェニルジオキサン類、ト
ラン類、アルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類、
などが好適に挙げられる。

【００２０】−−固有複屈折値が負の材料−− 前記固有複屈折値が負の材料は、分子に一軸性の配向規
則を与えたときに、光学的に負の一軸性を示す特性を有
する材料であり、ポリマー、棒状性化合物などがその例
として挙げられる。これらは、１種単独で使用してもよ
いし、２種以上を併用してもよい。本発明においては、
これらの中でも固有複屈折値が負のポリマーが好まし
い。

【００２１】前記固有複屈折値が負の材料において、前
記固有複屈折値が負のポリマーとしては、スチレン系ポ
リマー、アクリロニトリル系ポリマー、メチルメタクリ
レート系ポリマー、酢酸セルロース系等のセルロースエ
ステル系ポリマー（前記固有複屈折値が正であるものも
ある）、あるいはこれらの多元（二元、三元等）共重合
ポリマーなどが挙げられる。これらは、１種単独で使用
してもよいし、２種以上を併用してもよい。本発明にお
いては、これらの中でも、複屈折の発現性の点で、スチ
レン系ポリマー等が好ましい。

【００２２】前記固有複屈折値が正の材料及び負の材料
としては、波長分散が互いに大きく異なるのが好まし
く、また、前記レターデーション（Ｒｅ）の発現性が共
に大きいのが好ましい。

【００２３】前記固有複屈折値が負で、レターデーショ
ン（Ｒｅ）の発現性が大きい材料としては、スチレン系
素材が特に好適に挙げられる。スチレン系素材は波長分
散が大きいため、組み合わせる固有複屈折値が正の材料
としては、前記波長分散が小さい材料が好適に用いられ
る。前記波長分散が小さい材料としては、オレフィン
系、ポリビニルアルコール系、等のポリマーが挙げられ
るが、耐熱性、寸度安定性等の点から、ノルボルネン系
ポリマー等のシクロオレフィン系ポリマーが特に好適で
ある。

【００２４】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、本発
明の効果を害しない限り特に制限はなく、目的に応じて
適宜選択することができ、例えば相溶化剤などが好適に
挙げられる。前記相溶化剤は、前記固有複屈折値が正の
材料と負の材料とを混合した際に相分離が生じてしまう
場合等に好適に使用することができ、該相溶化剤を使用
することによって、前記固有複屈折値が正の材料と負の
材料との混合状態を良好にすることができる。

【００２５】−−第一の態様における位相差板の製造−
− 前記第一の態様における位相差板の製造方法としては、
延伸方法以外は特に制限はなく、目的に応じて適宜選択
することができる。例えば、前記固有複屈折値が正の材
料と負の材料とを、適宜選択し、配合比を決定し、必要
により前記相溶化剤等を添加し、これらを配合する。そ
の後、この配合物を溶液化して塗布し乾燥することによ
り成形する溶液成膜法、あるいはペレット化し溶融押出
しして成形する押出成形法、等に従ってフィルム状乃至
シート状等に成形し、延伸によって位相差を前記各数値
に制御して位相差板が製造される。前記延伸としては、
一軸延伸（機械的流れ方向に延伸する縦一軸延伸）、及
び、アンバランス二軸延伸の少なくともいずれかである
ことが必要である。

【００２６】＜＜第二の態様＞＞第二の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の材料からなる層及び負の
材料からなる層の積層体を含み、必要に応じてその他の
層を含む態様である。

【００２７】前記積層体における、前記固有複屈折値が
正の材料及び負の材料としては、前記「第一の態様」で
既に述べたのと同様の材料がすべて好適に挙げられ、特
に好ましい材料についてもすべて同様である。前記その
他の層としては、前記固有複屈折値が正の材料からなる
層及び負の材料からなる層を良好に接着可能な接着層な
どが挙げられる。

【００２８】−−第二の態様における位相差板の製造−
− 第二の態様における位相差板の製造方法としては、特に
制限はないが、積層体の製造が容易となる点で、前記固
有複屈折値が正の材料及び負の材料を共押出しして形成
されるのが好ましい。前記共押出しにおいては、例え
ば、前記固有複屈折値が正のポリマー、負のポリマー、
及び、所望により接着層用のポリマーを、押出ダイ内部
に導き、該ダイ内部もしくはダイの開口部で各ポリマー
を接触させ、一体化させて積層体を形成することができ
る。

【００２９】前記ダイとしては、特に制限はないが、Ｔ
ダイを好適に用いることができ、該Ｔダイの内部形状と
しては、特に制限はなく、種々の形状が挙げられる。所
望により、押し出された溶融状態の積層体を、複数のロ
ールに張架させ、該ロールの回転に追従させて移動させ
ることにより、積層体の厚みを所望の厚みに調整するこ
とができる。

【００３０】図１は、前記共押出しに好適に用いられる
共押出装置の概略構成図である。共押出装置２０は、押
出ダイ２２、押出器２４，２６、及び、張架ロール２
８，３０，３２を有する。共押出装置２０において、押
出器２４及び押出器２６内に格納された、固有複屈折値
が正のポリマー及び負のポリマーは、押出ダイ２２内部
に導かれ、押出ダイ２２の開口部で合流し、各ポリマー
が接触し一体化されて積層体３４が形成される。尚、固
有複屈折値が正のポリマー及び負のポリマーの密着性が
悪い場合には、更に、接着層形成用の押出器を設けても
良い。形成された積層体３４は、回転する張架ロール２
８，３０，３２により張架され、張架ロール２８，３
０，３２の回転に追従して移動し、所望の厚みに調整さ
れフィルム状乃至シート状に成形され、更に延伸するこ
とにより、前記位相差の値を前記各数値に制御して、位
相差板が製造される。前記延伸としては、前記「第一の
態様における位相差板の製造」において述べた「延伸」
と同様である。

【００３１】＜＜第三の態様＞＞第三の態様は、前記位
相差板が、固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有す
る材料を含有し、必要に応じてその他の成分を含有する
態様である。

【００３２】−−固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料−− 前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位を有する材料
としては、一軸性の配向規則を与えた場合に、正の一軸
性を示す鎖と負の一軸性を示す鎖とを有する共重合組成
物が好ましく、固有複屈折値が正のポリマーを構成する
単量体（モノマー）と、負のポリマーを構成する単量体
と、の共重合組成物等が特に好ましい。該共重合組成物
としては、特に制限はないが、主鎖と、該主鎖にグラフ
ト結合するグラフト鎖と、を有するグラフト共重合体が
好ましく、該主鎖が、前記固有複屈折値が正のポリマー
を構成する単量体からなる鎖であり、前記グラフト鎖
が、前記固有複屈折値が負のポリマーを構成する単量体
からなる鎖が特に好ましい。前記固有複屈折値が正のポ
リマー及び負のポリマーとしては、前記「第一の態様」
で既に述べたのと同様のポリマーがすべて好適に挙げら
れ、特に好ましいポリマー等についてもすべて同様であ
る。

【００３３】前記グラフト共重合体の製造方法として
は、特に制限はなく、塊状重合、沈殿重合、乳化重合、
溶液重合、懸濁重合、などの公知の重合方法が好適に挙
げられる。これらの中でも、懸濁重合又は溶液重合が好
ましい。

【００３４】前記懸濁重合の手法としては、例えば「高
分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同
人社）１３０頁及び１４６頁〜１４７頁に記載された方
法を参考にすることができる。

【００３５】前記懸濁重合によると、前記グラフト共重
合体は、無機塩類及び／又は水溶性ポリマー分散剤の存
在下、水系の分散媒を用いて油溶性開始剤により開始さ
れた付加重合反応により、５０μｍ以上の粒子として得
られる。

【００３６】前記無機塩類は、分散安定化、単量体等の
水溶化防止等の目的で用いられ、該無機塩類としては、
例えば、塩化ナトリウム、塩化カリウム、塩化カルシウ
ム、塩化マグネシウム、塩化アンモニウム、硫酸カリウ
ム、硫酸カルシウム、硫酸マグネシウム、硫酸アンモニ
ウム、硫酸アルミニウムカリウム、炭酸ナトリウム、炭
酸カリウム、リン酸水素カルシウム、などが挙げられ
る。

【００３７】前記水溶性ポリマー分散剤としては、例え
ば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸ソーダ、ス
チレン−無水マレイン酸共重合体のアルカリ加水分解物
（例えばクラレ社製の「イソバン」）、アルギン酸ナト
リウム及び水溶性セルロース誘導体（三晶株式会社製の
「メイプロガット」、「ケルコＳＣＳ」、「クアーガ
ム」、ヘキストジャパン（株）製の「ＭＨ−Ｋ」）など
が挙げられる。

【００３８】前記懸濁重合に用いる重合開始剤として
は、水不溶性でかつ油溶性の重合開始剤が好ましく、例
えば、アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリ
ル）、アゾビスイソブチロニトリル、２，２'−アゾビ
ス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２'−ア
ゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリ
ル）、２，２'−アゾビスイソ酪酸ジメチル、過酸化ベ
ンゾイル、過酸化ラウロイウル、過酸化−ｔ−ブチル，
過酸化−ｔ−アミル、過酸化クミル、ｔ−ブチル過酸化
ベンゾエート、ｔ−ブチル過酸化フェニルアセテート、
等が挙げられる。これらの中でも、過酸化物系の重合開
始剤が好ましい。

【００３９】グラフト重合の際の重合温度としては、グ
ラフト重合を行う単量体の種類、沸点、天井温度（重合
と解重合とが平衡に達する温度）等により異なり一概に
規定することはできないが、通常、０〜１００℃であ
り、４０〜９０℃が好ましい。

【００４０】−−その他の成分−− 前記位相差板に含有されるその他の成分としては、前記
「第一の態様」で述べたのと同様のその他の成分が好適
に挙げられる。

【００４１】−−第三の態様における位相差板の製造−
− 前記第三の態様における位相差板の製造方法としては、
特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ
る。例えば、前記固有複屈折値が正の部位及び負の部位
を有する材料を適宜選択し、所望により相溶化剤等を添
加し、これらを配合する。そして、その後、この配合物
を、溶液化して塗布し乾燥することにより成形する溶液
成膜法、あるいはペレット化し溶融押出しして成形する
押出成形法、等に従ってフィルム状乃至シート状等に成
形され、更に延伸することにより、前記位相差の値を前
記各数値に制御して、位相差板が製造される。

【００４２】前記延伸としては、前記「第一の態様にお
ける位相差板の製造」において述べた「延伸」と同様で
ある。

【００４３】前記各位相差板の光弾性としては、２０ブ
ルースター以下が好ましく、５ブルースター以下がより
好ましい。前記光弾性が、２０ブルースターを超える
と、位相差板に応力を印加した際の歪みにより複屈折が
発現し、光の洩れ等により好ましくないことがある。

【００４４】前記各位相差板の厚みとしては、特に制限
はないが、３０〜３００μｍが好ましく、５０〜２００
μｍがより好ましい。

【００４５】−積層− 前記位相差が実質的に１／２波長である位相差板及び位
相差が実質的に１／４波長である位相差板の積層体にお
いては、各位相差板における面内の遅相軸同士のなす角
度が０度及び９０度以外の角度で積層されていることが
必要であり、５０乃至７０度を満たすように積層されて
いるのが好ましく、５５乃至６５度を満たすように積層
されているのがより好ましい。前記角度が、前記数値範
囲内であれば、広帯域で優れた１／４波長板特性を有す
る表示装置用基板を提供できる。尚、本発明において、
「遅相軸」とは、屈折率が最大となる方向を指す。

【００４６】［光学異方性層］前記光学異方性層は、前
記積層体における、少なくとも一方の位相差板表面に配
され、その厚みをｄ、面内遅相軸方向の屈折率をｎｘ、
面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈折率をｎ
ｚ、としたとき、ｎｚ≧（ｎｘ＋ｎｙ）／２を満たす。
尚、本発明において、「進相軸」とは、屈折率が最小と
なる方向を指す。

【００４７】前記光学異方性層が、前記条件を満たすこ
とにより、光の入射角度によらず、一定のレターデーシ
ョン値（Ｒｅ）を有し、視野角依存性が低く、視認性に
優れた表示装置用基板を提供できる。

【００４８】前記光学異方性層としては、視野角依存性
が少ない点で、ｎｚが（ｎｘ＋ｎｙ）／２の値に近い程
好ましく、ｎｚ＝（ｎｘ＋ｎｙ）／２を満たすのが特に
好ましい。

【００４９】前記光学異方性層において、レターデーシ
ョン（Ｒｅ）は、複屈折値（Δｎ）及び層厚み（ｄ）の
積で表される。ここで、層に対する光の入射角度が垂直
方向からずれると、光路長が大きくなるため、層厚み
（ｄ）の値が大きくなる。従って、視野角の変化に関係
なくレターデーション（Ｒｅ）の値を一定に保つために
は、複屈折値（Δｎ）の値を小さくする、即ち、光学異
方性層における厚み方向の屈折率ｎｚの値を大きくする
ことにより、表示装置用基板における視野角依存性を低
くし得る点で、例えば、該光学異方性層の厚み方向に配
向（本発明において、「垂直配向」と称することがあ
る。）した棒状液晶性化合物を含む第一の態様、固有複
屈折値が負の樹脂からなる二軸延伸フィルム及びアンバ
ランス二軸延伸フィルムの少なくともいずれかである第
二の態様、光異性化化合物を含む第三の態様等が好まし
い。

【００５０】−第一の態様− 前記第一の態様において、前記液晶性化合物としては、
ネマチック配向の棒状液晶性化合物が特に好ましい。

【００５１】前記ネマチック配向の棒状液晶性化合物と
しては、公知の液晶性分子等からなるネマチック配向の
液晶性化合物が総て好適に挙げられ、例えば、アゾメチ
ン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニ
ルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカ
ルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘ
キサン類、シアノ置換フェニルピリジン類、フェニルジ
オキサン類、トラン類、アルケニルシクロヘキシルベン
ゾニトリル類、などが好適に挙げられる。該液晶性分子
の例示化合物を、下記構造式（ａ）〜（ｖ）に示す。こ
れらの中でも、重合反応による固定化が可能な点で、重
合性の液晶性分子からなる液晶性化合物が特に好まし
い。

【００５２】

【化１】

【００５３】

【化２】

【００５４】

【化３】

【００５５】前記液晶性分子の例示化合物における構造
式（ｓ）及び（ｔ）において、ｎは３以上の整数を表
す。

【００５６】前記光学異方性層においては、前記液晶性
分子を垂直配向させることにより、光学異方性層におけ
る厚み方向の屈折率ｎｚの値を大きくし、視野角依存性
が低く、視認性に優れた表示装置用基板を提供可能とな
る。該液晶性分子を垂直配向させる方法としては、例え
ば、前記液晶性分子、重合性開始剤、及び、所望により
その他の添加剤等を含む塗布液を、垂直配向膜の上に塗
布するのが好ましい。

【００５７】前記塗布液の調製に使用する溶媒として
は、有機溶媒が好適であり、具体的には、アミド（例：
Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等）、スルホキシド
（例：ジメチルスルホキシド等）、ヘテロ環化合物
（例：ピリジン）、炭化水素（例：ベンゼン、ヘキサン
等）、アルキルハライド（例：クロロホルム、ジクロロ
メタン等）、エステル（例：酢酸メチル、酢酸ブチル
等）、ケトン（例：アセトン、メチルエチルケトン
等）、エーテル（例：テトラヒドロフラン、１，２−ジ
メトキシエタン等）などが挙げられる。これらの中で
も、アルキルハライド及びケトン等が好ましい。これら
は、１種単独で使用してもよく、２種以上を併用しても
よい。塗布液の塗布は、公知の方法（例：押し出しコー
ティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバ
ースグラビアコーティング法、ダイコーティング法等）
により行なうことができる。

【００５８】前記垂直配向させた液晶性分子は、重合に
より配向状態を維持し固定化するのが好ましい。重合反
応には、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始
剤を用いる光重合反応とが挙げられ、光重合反応が好ま
しい。

【００５９】前記光重合開始剤としては、α−カルボニ
ル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７
０号の各明細書に記載された化合物）、アシロインエー
テル（米国特許２４４８８２８号明細書に記載された化
合物）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米
国特許２７２２５１２号明細書に記載された化合物）、
多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９
５１７５８号の各明細書に記載された化合物）、トリア
リールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケト
ンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号の明細書
に記載された化合物）、アクリジン及びフェナジン化合
物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３
９８５０号明細書記載に記載された化合物）及びオキサ
ジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書に
記載された化合物）等が挙げられる。

【００６０】前記光重合開始剤の使用量としては、塗布
液の固形分において、０．０１〜２０重量％が好まし
く、０．５〜５重量％がより好ましい。液晶性分子を重
合するための光照射においては、紫外線を用いるのが好
ましい。照射エネルギーとしては、２０ｍＪ／ｃｍ^２〜
５０Ｊ／ｃｍ^２が好ましく、１００〜８００ｍＪ／ｃｍ
^２がより好ましい。光重合反応を促進するため、加熱条
件下で光照射を実施してもよい。

【００６１】前記液晶性分子を垂直配向させるために
は、垂直配向膜として、表面エネルギーの低い配向膜を
作製するのが好ましい。具体的には、ポリマーの官能基
により、配向膜の表面エネルギーを低下させ、これによ
り液晶性分子を垂直に立てた状態にするのが好ましい。
該官能基としては、フッ素原子及び炭素原子数が１０以
上の炭化水素基が好ましい。

【００６２】前記フッ素原子又は炭化水素基を配向膜の
表面に存在させる点からは、ポリマーの主鎖よりも側鎖
の方に、フッ素原子又は炭化水素基を導入するのが好ま
しい。ポリマーにおけるフッ素の含有量としては、０．
０５〜８０重量％が好ましく、０．１〜７０重量％がよ
り好ましく、０．５〜６５重量％が更に好ましく、１〜
６０重量％が最も好ましい。

【００６３】前記炭化水素基としては、例えば、脂肪族
基、芳香族基、及び、それらの組み合わせ等が好まし
い。前記脂肪族基としては、環状、分岐状、及び、直鎖
状等が挙げられ、アルキル基（シクロアルキル基であっ
てもよい）及びアルケニル基（シクロアルケニル基であ
ってもよい）等が挙げられる。前記炭化水素基は、ハロ
ゲン原子のような強い親水性を示さない置換基を有して
いてもよい。該炭化水素基における炭素原子数として
は、１０〜１００が好ましく、１０〜６０がより好まし
く、１０〜４０が更に好ましい。

【００６４】前記ポリマーの主鎖としては、ポリイミド
構造やポリビニルアルコール構造等を有するのが好まし
い。

【００６５】前記ポリイミドは、一般にテトラカルボン
酸及びジアミンの縮合反応により合成するのが好まし
い。２種類以上のテトラカルボン酸あるいは２種類以上
のジアミンを用い、コポリマーに相当するポリイミドを
合成してもよい。前記フッ素原子及び炭化水素基は、テ
トラカルボン酸起源の繰り返し単位に存在していても、
ジアミン起源の繰り返し単位に存在していても、両方の
繰り返し単位に存在していてもよい。ポリイミドに炭化
水素基を導入する場合、ポリイミドの主鎖又は側鎖にス
テロイド構造を形成するのが特に好ましい。側鎖に存在
するステロイド構造は、炭素原子数が１０以上の炭化水
素基に相当し、液晶性分子を垂直配向させる機能を有す
る。尚、本発明において、ステロイド構造とは、シクロ
ペンタノヒドロフェナントレン環構造又はその環の結合
の一部が脂肪族環の範囲（芳香族環を形成しない範囲）
で二重結合となっている環構造を指す。

【００６６】前記ポリビニルアルコールとしては、フッ
素変性ポリビニルアルコール、炭素原子数が１０以上の
炭化水素基を有する変性ポリビニルアルコール等が好ま
しい。

【００６７】前記フッ素変性ポリビニルアルコールとし
ては、フッ素原子を含む繰り返し単位を５〜８０モル％
含むのが好ましく、７〜７０モル％含むのがより好まし
い。好ましいフッ素変性ポリビニルアルコールを、下記
式（ＰＶ１）で表す。

【００６８】式（ＰＶ１） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＦＲＵ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式（ＰＶ１）中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し
単位であり、ＦＲＵは、フッ素原子を含む繰り返し単位
であり、ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し単位であり、ｘ
は、２０〜９５モル％（好ましくは２４〜９０モル％）
であり、ｙは、５〜８０モル％（好ましくは７〜７０モ
ル％）であり、ｚは０〜３０モル％（好ましくは２〜２
０モル％）である。好ましいフッ素原子を含む繰り返し
単位（ＦＲＵ）を、下記式（ＦＲＵ−Ｉ）及び（ＦＲＵ
−ＩＩ）で表す。

【００６９】

【化４】

【００７０】式（ＦＲＵ−Ｉ）及び（ＦＲＵ−ＩＩ）に
おいて、Ｒｆ^１及びＲｆ^２は、各々フッ素置換炭化水素
基であり、アルキレン基及びアリーレン基は、フッ素原
子により置換されていてもよい。Ｌ^１ は、−Ｏ−、−
ＣＯ−、−ＳＯ_２−、−ＮＨ−、アルキレン基、アリー
レン基、及び、それらの組み合わせから選ばれる二価の
連結基である。Ｌ^２ は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、
−ＳＯ_２ −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン
基、及び、それらの組み合わせから選ばれる二価の連結
基である。上記の組み合わせにより形成される二価の連
結基（Ｌ^１及びＬ ^２）の具体例（Ｌ２６〜Ｌ３４）を、
以下に示す。

【００７１】Ｌ２６：−Ｏ−ＣＯ− Ｌ２７：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−Ｏ− Ｌ２８：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＣＯ−ＮＨ− Ｌ２９：−Ｏ−ＣＯ−アルキレン基−ＮＨ−ＳＯ_２−ア
リーレン基−Ｏ− Ｌ３０：−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ− Ｌ３１：−アリーレン基−ＣＯ−Ｏ− Ｌ３２：−アリーレン基−ＣＯ−ＮＨ− Ｌ３３：−アリーレン基−Ｏ− Ｌ３４：−Ｏ−ＣＯ−ＮＨ−アリーレン基−ＮＨ−ＣＯ
−

【００７２】前記フッ素置換炭化水素基において、炭化
水素基としては、脂肪族基、芳香族基、及びそれらの組
み合わせ等が挙げられる。該脂肪族基としては、環状、
分岐状、及び、直線状のいずれでもよいが、アルキル基
（シクロアルキル基であってもよい）及びアルケニル基
（シクロアルケニル基であってもよい）等が好ましい。
該脂肪族基は、フッ素原子以外にも、他のハロゲン原子
等、強い親水性を示さない置換基を有していてもよい。
該炭化水素基における炭素原子数としては、１〜１００
が好ましく、２〜６０がより好ましく、３〜４０が更に
好ましい。炭化水素基において、水素原子がフッ素原子
で置換されている割合としては、５０〜１００モル％が
好ましく、７０〜１００モル％がより好ましく、８０〜
１００モル％が更に好ましく、９０〜１００モル％が最
も好ましい。

【００７３】前記炭素原子数が１０以上の炭化水素基を
有する変性ポリビニルアルコールにおいて、該炭化水素
基としては、脂肪族基、芳香族基、及び、それらの組み
合わせ等が好ましい。脂肪族基は、環状、分岐状、及
び、直鎖状のいずれでもよく、アルキル基（シクロアル
キル基であってもよい）及びアルケニル基（シクロアル
ケニル基であってもよい）等が好ましい。前記炭化水素
基としては、ハロゲン原子のような、強い親水性を示さ
ない置換基を有していてもよい。炭化水素基の炭素原子
数としては、１０〜１００が好ましく、１０〜６０がよ
り好ましく、１０〜４０が更に好ましい。炭化水素基を
有する変性ポリビニルアルコールは、炭素原子数が１０
以上の炭化水素基を有する繰り返し単位を２〜８０モル
％の範囲で含むのが好ましく、３〜７０モル％含むのが
より好ましい。好ましい炭素原子数が１０以上の炭化水
素基を有する変性ポリビニルアルコールを、下記式（Ｐ
Ｖ２）で表す。

【００７４】（ＰＶ２） −（ＶＡｌ）ｘ−（ＨｙＣ）ｙ−（ＶＡｃ）ｚ− 式中、ＶＡｌは、ビニルアルコール繰り返し単位であ
り、ＨｙＣは、炭素原子数が１０以上の炭化水素基を有
する繰り返し単位であり、ＶＡｃは酢酸ビニル繰り返し
単位であり、ｘは、２０〜９５モル％（好ましくは２５
〜９０モル％）であり、ｙは、２〜８０モル％（好まし
くは３〜７０モル％）であり、そして、ｚは０〜３０モ
ル％（好ましくは２〜２０モル％）である。

【００７５】好ましい炭素原子数が１０以上の炭化水素
基を有する繰り返し単位（ＨｙＣ）を、下記式（ＨｙＣ
−Ｉ）および（ＨｙＣ−ＩＩ）で表す。

【００７６】

【化５】

【００７７】式（ＨｙＣ−Ｉ）及び（ＨｙＣ−ＩＩ）
中、Ｒ^１ 及びＲ^２ は、各々炭素原子数が１０以上の
炭化水素基である。Ｌ^１は、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ
_２ −、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基、及
び、それらの組み合わせから選ばれる二価の連結基であ
り、Ｌ^２ は、単結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−ＳＯ_２
−、−ＮＨ−、アルキレン基、アリーレン基、及び、そ
れらの組み合わせから選ばれる二価の連結基である。上
記の組み合わせにより形成される二価の連結基（Ｌ ^１及
びＬ^２）の具体例は、前記式（ＦＲＵ−Ｉ）及び（ＦＲ
Ｕ−ＩＩ）で示した具体例と同様である。

【００７８】前記垂直配向膜に用いるポリマーの重合度
としては、２００〜５０００が好ましく、３００〜３０
００がより好ましい。該ポリマーの分子量としては、９
０００〜２０００００が好ましく、１３０００〜１３０
０００がより好ましい。これらのポリマーは１種単独で
使用してもよく、２種以上を併用してもよい。

【００７９】前記垂直配向膜の形成の際、ラビング処理
を実施することが好ましい。ラビング処理は、上記のポ
リマーを含む膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回擦
って行なうのが好ましい。尚、前述の垂直配向膜を用い
て、液晶性分子を垂直配向させてから、その配向状態の
まま液晶性分子を固定して光学異方性層を形成し、光学
異方性層のみを、前記位相差板上に転写してもよい。

【００８０】−第二の態様− 前記第二の態様において、前記固有複屈折値が負の樹脂
としては、前記「位相差板」の項で述べた「固有複屈折
値が負の樹脂」と同様のものが総て好適に挙げられる。

【００８１】前記光学異方性層が、前記固有複屈折値が
負の樹脂からなる二軸延伸フィルム及びアンバランス二
軸延伸フィルムの少なくともいずれかであると、前記光
学異方性層における各屈折率（面内遅相軸方向の屈折率
＝ｎｘ、面内進相軸方向の屈折率＝ｎｙ、厚み方向の屈
折率＝ｎｚ）間の関係において、厚み方向の屈折率ｎｚ
の値がいずれも大きくなり（二軸延伸フィルムの場合：
ｎｚ＞ｎｘ＝ｎｙ、アンバランス二軸延伸フィルムの場
合：ｎｚ＞ｎｘ＞ｎｙ）、表示装置用基板における視野
角依存性が低くなるため好ましい。

【００８２】−第三の態様− 前記第三の態様において、光異性化化合物とは、光によ
り立体異性化又は構造異性化を起こす化合物である。こ
れらの化合物として、一般的に構造変化と共に可視光域
での色調変化を伴う化合物は、フォトクロミック化合物
として知られているものが多く、具体的には、アゾベン
ゼン系化合物、ベンズアルドキシム系化合物、アゾメチ
ン系化合物、スチルベン系化合物、スピロピラン系化合
物、スピロオキサジン系化合物、フルギド系化合物、ジ
アリールエテン系化合物、ケイ皮酸系化合物、レチナー
ル系化合物、ヘミチオインジゴ系化合物等が挙げられ
る。これらは、低分子化合物でもポリマーでもよく、ポ
リマーの場合、光異性化基が主鎖中でも側鎖中でも同様
の機能を発揮できる。ポリマーは、ホモポリマーでも、
コポリマーでも良く、コポリマーの共重合比は光異性化
能、Ｔｇ等のポリマー物性を適宜調整し、好適な値で用
いられる。また、これら光異性化化合物は、同時に前述
した液晶性化合物であってもよい。即ち、液晶性化合物
の分子中に、光異性化し得る官能基を含んでいてもよ
い。これらについては、高分子、４１、（１２）、（１
９９２年）ｐ８８４、「クロミック材料と応用」（シー
エムシー編）ｐ２２１、「メカノケミストリー」（丸善
編）ｐ２１、「高分子論文集１４７巻１０号」（１９９
１年）ｐ７７１等にも具体的に記載されている。

【００８３】前記光異性化化合物は、前述のように、光
により立体異性化又は構造異性化を起こすものであり、
別の波長の光・熱によって、その逆異性化を起こす態様
が好ましい。例えば、前記アゾベンゼン系化合物は、光
照射及び熱により、シス−トランスの異性化を頻繁に繰
り返す。具体的には、照射光が直線偏光である場合、そ
の振動方向に吸収軸を持った配向状態にあるアゾ基は、
該照射光を吸収し異性化を繰り返すが、その過程で偶然
に照射光の振動方向に対し、垂直方向又はそれに近い方
向に配向したアゾ基は、殆ど或いは全く光を吸収できな
くなり、固定化される。この結果、照射光を適宜調節す
ることにより、容易に、光異性化化合物を垂直配向させ
ることが可能となり、前記光学異方性層における厚み方
向の屈折率ｎｚの値を大きくすることにより、表示装置
用基板における視野角依存性を容易に低下させることが
できる。

【００８４】また、前記光異性化化合物は、例えば、ア
ルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、
複素環式基、シアノ基、カルボキシル基、カルバモイル
基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニ
ル基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、アルキルア
ミノ基、アリールアミノ基、アシルアミノ基、アルキル
スルホニルアミノ基、アリールスルホニルアミノ基、ウ
レイド基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオ
キシ基アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニ
ルオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アルキ
ルスルホニル基、アリールスルホニル基、スルホ基、ス
ルファモイル基等の置換基を有していてもよい。これら
の置換基は、光異性化化合物の長軸方向に配されている
のが好ましいが、特に制限はない。

【００８５】以下に、前記光異性化化合物の具体例（Ｔ
１〜Ｔ３６）を挙げるが、これらに限定されるものでは
ない。

【００８６】

【化６】

【００８７】

【化７】

【００８８】

【化８】

【００８９】

【化９】

【００９０】

【化１０】

【００９１】

【化１１】

【００９２】前記直線偏光の光源としては、光異性化が
発現する波長が、各光異性化化合物によって異なるが、
波長領域が広い水銀ランプ、ハロゲンランプ、キセノン
ランプ等が好適に挙げられる。また、照射直線偏光強度
（照度）は、光異性化化合物による量子化収率や照射時
の光学異方性層における温度等に大きく影響するため、
各特性に応じて適宜選定するのが好ましいが、可視光強
度としては、５００ルクス以上が好ましく５０００ルク
ス以上がより好ましい。

【００９３】前記直線偏光を照射する際の温度として
は、光学異方性層を形成する材料のガラス転移点（Ｔ
ｇ）近傍、具体的には、（Ｔｇ−３０℃）＜（照射時の
温度）＜（Ｔｇ＋５０℃）が好ましい。前記温度が、光
学異方性層を形成する材料のガラス転移点（Ｔｇ）より
極端に低い温度域であると、分子運動が抑制され、光異
性化が抑制されるため、複屈折が発現し難いことがある
一方、前記ガラス転移点（Ｔｇ）よりかなり高い温度域
であると、分子の熱運動による緩和の寄与が大きくなる
ため複屈折が発現し難いことがある。

【００９４】前記光異性化化合物は、前記光学異方性層
において、既に垂直配向し固定化されている場合であっ
ても、光が照射される環境下においては、更に異性化が
進行し、光学特性が経時的に変化することがある。その
ような現象を防ぐ目的で、光を吸収する部位、即ち、ア
ゾ基、イミノ基、ビニル基等の共役鎖構造部分を、酸
化、還元、反応による解裂、等によって分解したり、光
学異方性層外へ溶出等して、化学的に不活性化すること
により、光学異方性層の耐久性能を向上させることがで
きる。

【００９５】＜表示装置用基板の物性等＞前記表示装置
用基板は、波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ
におけるレターデーション値を各々Ｒｅ（４５０）、Ｒ
ｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）とすると、Ｒｅ（４５
０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満たす、換言
すれば、前記レターデーション値と波長とが正の相関関
係を有するのが好ましい。該相関関係を有することによ
り、可視光域の入射光に対し一定の位相差特性を有し、
白黒化、カラー化等が容易な位相差板を提供できる。

【００９６】前記表示装置用基板においては、Ｒｅ（５
５０）の値が１１０乃至１６０ｎｍであるのが好まし
く、１２０乃至１５０ｎｍであるのがより好ましい。前
記Ｒｅ（５５０）の値が、前記数値範囲内であれば、１
／４波長板特性に優れた表示装置用基板が提供される。

【００９７】前記表示装置用基板においては、波長４５
０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５０ｎｍにおけるレターデ
ーション（Ｒｅ）／波長（λ）の値が、０．２乃至０．
３が好ましく、０．２３乃至０．２７がより好ましく、
０．２４乃至０．２６が更に好ましい。前記レターデー
ション（Ｒｅ）／波長（λ）の値が、前記数値範囲内で
あれば、可視光全域の入射光に対して、より均一な広帯
域１／４波長板特性を有する表示装置用基板が提供され
る。

【００９８】前記表示装置用基板においては、該表示装
置用基板に対し、法線方向から入射する光のレターデー
ションをＲｅ［０］、法線方向からθ度傾いた角度で入
射する光のレターデーションをＲｅ［θ］としたとき、
波長５５０ｎｍにおいて、Ｒｅ［０］／Ｒｅ［θ］の値
が、０．９３〜１．０７であるのが好ましく、０．９５
〜１．０５であるのがより好ましく、０．９７〜１．０
３であるのが更に好ましい。前記表示装置用基板におい
て、波長５５０ｎｍにおける、Ｒｅ［０］／Ｒｅ［θ］
の値が、０．９３〜１．０７であれば、特に、視野角依
存性が低く、視認性の高い表示装置用基板が提供され
る。

【００９９】前記表示装置用基板においては、前記光学
異方性層は、視野角依存性をより低下させることが可能
な点で、前記積層体における、両方の位相差板表面に配
されるのが好ましい。

【０１００】前記表示装置用基板は、平面性を必要とす
る用途、例えば、ピックアップ用１／４偏光顕微鏡用、
分光エリプソメトリー用等に用いる際等には、両面にガ
ラス層を貼合するのが好ましい。該ガラス層としては、
特に制限はないが、可視光に対し、優れた透光性を有す
るのが好ましい。該ガラス層の厚みとしては、０．０１
５〜０．５ｍｍ程度が好ましい。

【０１０１】前記ガラス層の材料としては、ホウケイ酸
ガラス、無アルカリガラス、低アルカリガラス、ソーダ
ライムガラス、ゾルゲルガラスなどが挙げられ、これら
の中でも、安価なソーダライムガラスにアルカリ封止コ
ートしたもの、無アルカリガラス等が好ましい。

【０１０２】前記ガラス層の製造方法としては、特に制
限はなく、リドロー法、フュージョン法、マイクロシー
ト法、及び、ゾルゲル法等の公知のガラス層を製造する
方法等が挙げられる。

【０１０３】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明は、下記実施例に何ら限定されるも
のではない。

【０１０４】（実施例１） −位相差板の作製・レターデーションの測定− 固有複屈折値が正のポリマーとして、ノルボルネン樹脂
（商品名「ゼオノイア１４２０Ｒ」；日本ゼオン社
製）、固有複屈折値が負のポリマーとして、スチレン−
無水マレイン酸樹脂（商品名「ダイラーク Ｄ３３
２」；ノバケミカル社製）を用いた。これらのポリマー
については、予め窒素パージ下で乾燥させ、水分量を低
下させたものを使用した。

【０１０５】図１に示す構成の装置２０を用いた。該装
置は、東洋精機社製「ＬＡＢＯ ＰＬＡＳＴＯＭＯＬ
Ｉ」であり、押出ダイ２２の幅は２５０ｍｍであった。
押出器２４に、前記スチレン−無水マレイン酸樹脂を、
押出器２６に、前記ノルボルネン樹脂を格納し、スチレ
ン−無水マレイン酸樹脂及びノルボルネン樹脂からなる
２層構造の溶融成形フィルム３４を作製した（成形条
件：溶融温度：２３０〜２４０℃）。溶融成形フィルム
３４の厚みについては、張架ロール２８、３０及び３２
の周速制御により調整し厚み２０５μｍ（厚み構成；ノ
ルボルネン樹脂層の厚みが１２５μｍ、スチレン−無水
マレイン酸樹脂層の厚みが８０μｍ）のフィルムを得
た。

【０１０６】得られたフィルムを、１３５℃の雰囲気
で、２１％及び４５％の一軸延伸処理を施し、２種類の
延伸フィルム（位相差板）を得た。得られた２１％延伸
フィルム及び４５％延伸フィルムについて、レターデー
ション（Ｒｅ）の波長依存性をレターデーション測定器
（王子計測社製；「ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ」）にて各
々測定したところ、いずれのフィルムも、波長４５０ｎ
ｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおけるレターデーショ
ン値を各々Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ
（６５０）とすると、Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）
＜Ｒｅ（６５０）を満たしていた。また、２１％延伸フ
ィルムは、可視光全域に亘ってレターデーション（Ｒ
ｅ）が波長の略１／４を示す１／４波長板特性を示し、
４５％延伸フィルムは、可視光全域に亘ってレターデー
ション（Ｒｅ）が波長の略１／２を示す１／２波長板特
性を示していた。

【０１０７】−光学異方性層の形成・表示装置用基板の
作製− 得られた２１％延伸フィルム及び４５％延伸フィルムに
対し、厚み方向に配向した棒状性化合物を含む光学異方
性層を形成した。その後、２１％延伸フィルム及び４５
％延伸フィルムについて、各々光学異方性層が形成され
ていない面同士を、それらの面内遅相軸同士のなす角度
が６０度を満たすよう貼り合わせ、表示装置用基板を作
製した。

【０１０８】−レターデーションの測定− 得られた表示装置用基板を用い、前記レターデーション
測定器にて、可視光全域におけるレターデーション値を
測定した。結果を表１及び図２に示す。図２より、略完
全に近い１／４波長板特性を有していることがわかっ
た。

【０１０９】−各光学異方性層における屈折率の測定− 表示装置用基板の各光学異方性層における、面内遅相軸
方向の屈折率（ｎｘ）、面内進相軸方向の屈折率（ｎ
ｙ）、及び、厚み方向の屈折率（ｎｚ）を求めたとこ
ろ、２１％延伸フィルム表面側に形成された光学異方性
層、及び、４５％延伸フィルム表面側に形成された光学
異方性層においては、何れも式（ｎｚ≧（ｎｘ＋ｎｙ）
／２）を満たしていた。

【０１１０】−視野角依存性の測定・評価− 得られた表示装置用基板に対し、法線方向から入射する
光（波長：５５０ｎｍ）のレターデーション及び、該法
線方向から２０度傾いた角度で入射する光（波長：５５
０ｎｍ）のレターデーションを測定したところ、Ｒｅ
［０］／Ｒｅ［２０］の値は、０．９８であり、本発明
の表示装置用基板は、視野角依存性が低いことがわかっ
た。

【０１１１】（比較例１）実施例１において、光学異方
性層を設けなかったほかは、実施例１と同様にして表示
装置用基板を作製し、実施例１と同様にして、視野角依
存性の測定・評価を行ったところ、Ｒｅ［０］／Ｒｅ
［２０］の値は、０．８９であり、視野角依存性が高い
ことがわかった。

【０１１２】

【表１】

【０１１３】

【発明の効果】本発明によれば、広帯域波長で、視野角
依存性が低く、視認性の高い表示装置用基板を提供する
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は、共押出しに好適に用いられる共押出装
置の概略構成図である。

【図２】図２は、実施例１及び比較例１において作製し
た表示装置用基板について、レターデーション測定器を
用いて、レターデーション（Ｒｅ）の波長分散を測定し
た結果を示す図である。

【符号の説明】

２０ 共押出装置 ２２ 押出ダイ ２４ 押出器 ２６ 押出器 ２８ 張架ロール ３０ 張架ロール ３２ 張架ロール ３４ 積層体（フィルム）

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA14 BA25 BA42 BA47 BB03 BB43 BB44 BB46 BB48 BB49 BB51 BB62 BC03 BC09 BC12 BC22 2H090 HB08Y HB15Y KA05 LA07 LA08 MA01 MB01 2H091 FA11X FA11Z FB04 FC08 FC09 GA01 HA07 KA02 LA16

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 一軸延伸及びアンバランス二軸延伸の少
   なくともいずれかにより得られ、位相差が実質的に１／
   ２波長である位相差板及び位相差が実質的に１／４波長
   である位相差板が、各位相差板における面内の遅相軸同
   士のなす角度が０度及び９０度以外の角度で積層された
   積層体の、少なくとも一方の位相差板表面に、光学異方
   性層であって、その厚みをｄ、面内遅相軸方向の屈折率
   をｎｘ、面内進相軸方向の屈折率をｎｙ、厚み方向の屈
   折率をｎｚ、としたとき、ｎｚ≧（ｎｘ＋ｎｙ）／２を
   満たす光学異方性層を有することを特徴とする表示装置
   用基板。
2. 【請求項２】 各位相差板における面内の遅相軸同士の
   なす角度が、５０乃至７０度である請求項１に記載の表
   示装置用基板。
3. 【請求項３】 波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０
   ｎｍにおけるレターデーション値を各々Ｒｅ（４５
   ０）、Ｒｅ（５５０）及びＲｅ（６５０）とすると、Ｒ
   ｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）を満た
   し、かつ、Ｒｅ（５５０）の値が１１０乃至１６０ｎｍ
   である請求項１又は２に記載の表示装置用基板。
4. 【請求項４】 光学異方性層が、該光学異方性層におけ
   る厚み方向に配向した棒状液晶性化合物を含む請求項１
   から３のいずれかに記載の表示装置用基板。
5. 【請求項５】 光学異方性層が、固有複屈折値が負の樹
   脂からなる二軸延伸フィルム及びアンバランス二軸延伸
   フィルムの少なくともいずれかである請求項１から３の
   いずれかに記載の表示装置用基板。
6. 【請求項６】 光学異方性層が、光異性化化合物を含む
   請求項１から３のいずれかに記載の表示装置用基板。
7. 【請求項７】 波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、及び６５
   ０ｎｍにおけるレターデーション（Ｒｅ）／波長（λ）
   の値が、０．２乃至０．３である請求項１から６のいず
   れかに記載の表示装置用基板。
8. 【請求項８】 表示装置用基板に対し、法線方向から入
   射する光のレターデーションをＲｅ［０］、法線方向か
   らθ度傾いた角度で入射する光のレターデーションをＲ
   ｅ［θ］としたとき、波長５５０ｎｍにおいて、Ｒｅ
   ［０］／Ｒｅ［θ］の値が、０．９３〜１．０７である
   請求項１から７のいずれかに記載の表示装置用基板。