JP6478110B2 - 電極の製造方法 - Google Patents
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Description
そして当該電極の製造方法においては、前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅に基づいて、前記第2のロールの回転速度と前記電極集電体の搬送速度との速度比を変化させることを特徴とする。
このような構成によれば、電極の製造の際に、電極集電体上に転写される前記電極材料から成る塗膜の目付け量のバラつきを大きく低減することが可能である。
このような構成によれば、電極集電体上に転写される電極材料から成る塗膜の目付け量のバラつきを効果的に低減することができる。
このような構成によれば、ギャップの幅の変動を、合成関数によって精度よく表すことができるため、電極集電体上に転写される電極材料から成る塗膜の目付け量のバラつきを精度よく低減させることができる。
このような構成によれば、ギャップの幅の変動を、実測によりリアルタイムで追跡できるため、電極集電体上に転写される電極材料から成る塗膜の目付け量のバラつきを精度よく低減させることができる。
図1では、供給ロール11の回転軸と転写ロール12の回転軸とバックアップロール13の回転軸とが水平に並ぶように配置されているが、供給ロール11、転写ロール12およびバックアップロール13の配置は図示される態様に限られない。
そこで本実施形態に係る電極の製造方法では、供給ロール11と転写ロール12との間のギャップの幅に基づいて、転写ロール12の回転速度と電極集電体21の搬送速度との速度比を変化させる。
転写ロール12の回転速度と電極集電体21の搬送速度との速度比が一定であった場合、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの厚さが大きいときには、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量が大きく、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの厚さが小さいときには、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量が小さい。
また、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの厚さが一定であった場合、転写ロール12の回転速度に対する電極集電体21の搬送速度の比が大きいときには、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量が小さく、転写ロール12の回転速度に対する電極集電体21の搬送速度の比が小さいときには、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量が大きい。したがって、このことを考慮して、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの厚さ、すなわち電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aが、塗膜化されたときのギャップの幅に応じて転写ロール12の回転速度と電極集電体21の搬送速度との速度比を変化させれば、ギャップの幅の変動を抑制しなくても、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量のバラつきを低減させることができる。
まず、第1の態様について説明する。第1の態様においては、供給ロール11と転写ロール12との間のギャップの幅を、供給ロール11の変位および転写ロール12の変位から算出した関数に基づいて求める。
そこで図2の供給ロール11の変位曲線について、関数フィッティングを試みたところ、下記式(1)に示すサイン関数によって、供給ロール11の変位曲線を表せることがわかった。この式(1)で表されるサイン関数を図3に示す。
図2と図3の比較より、実測した供給ロール11の変位は、式(1)で表されるサイン関数により、よく表現されていることがわかる。
FA=Asin(ωAt+θA)+α・・・(1)
(式中、FAは供給ロール11の外周の表面の位置(変位:μm)を表し、tは時間(s)を表し、Aは振幅(片側:μm)、ωAは角速度(rad/s)、θAは位相差(rad)、およびαは定数(μm)である。)
FB=Bsin(ωBt+θB)+β・・・(2)
(式中、FBは転写ロール12の外周の表面の位置(変位:μm)を表し、tは時間(s)を表し、Bは振幅(片側:μm)、ωBは角速度(rad/s)、θBは位相差(rad)、およびβは定数(μm)である。)
Gt=GAVE−(Asin(ωAt+θA)+Bsin(ωBt+θB))・・・(3)
(式中、Gtは、供給ロール11と転写ロール12との間のギャップの幅を表し、GAVEは実測に基づくギャップの幅の平均値を示し、t、A、ωA、θA、B、ωBおよびθBはそれぞれ前記と同義である。)
ここで、転写ロール12により搬送される電極材料22から成る塗膜22Aの厚さにはバラつきがある。この厚さのバラつきは、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量のバラつきを生じさせるものである。電極材料22から成る塗膜22Aは、バックアップロール13により搬送される電極集電体21に接触して、電極集電体21上に転写される。ここで、転写ロール12の回転速度と電極集電体21の搬送速度との速度比が制御されているため、電極集電体21に転写される電極材料22から成る塗膜22Aの目付け量のバラつきが大きく低減される。供給ロール11の変位および転写ロール12の変位の測定は、電極材料22が供給されている間、連続的若しくは所定の間隔で断続的にずっと行われ、転写ロール12の回転速度と電極集電体21の搬送速度との速度比の制御は、電極材料22から成る塗膜22Aが電極集電体21上に転写さている間、連続的若しくは所定の間隔で断続的にずっと行われる。
11 供給ロール
12 転写ロール
13 バックアップロール
15 隔壁
21 電極集電体
22 電極材料
22A 塗膜
23 電極合材層
31,32,33 センサ
Claims (5)
- 回転する第1のロールおよび回転する第2のロールの間のギャップに電極材料を通して該電極材料から成る塗膜を形成する工程、
前記電極材料から成る塗膜を前記第2のロールに付着させて搬送する工程、および
前記搬送された塗膜を、搬送装置により搬送される電極集電体上に転写して、該塗膜から成る電極合材層を形成する工程、
を包含する電極の製造方法であって、
前記第1のロールと前記第2のロールとが逆方向に回転し、
前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅に基づいて、前記第2のロールの回転速度と前記電極集電体の搬送速度との速度比を変化させる、製造方法。 - 前記電極集電体上に転写される電極材料から成る塗膜が、前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅が大きいときに塗膜化されたものである場合には、当該塗膜が前記電極集電体上に転写される際の前記第2のロールの回転速度に対する前記電極集電体の搬送速度を相対的に大きくし、
前記電極集電体上に転写される電極材料から成る塗膜が、前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅が小さいときに塗膜化されたものである場合には、当該塗膜が前記電極集電体上に転写される際の前記第2のロールの回転速度に対する前記電極集電体の搬送速度を相対的に小さくする、請求項1に記載の製造方法。 - 前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅を、前記第1のロールの変位および前記第2のロールの変位から算出した関数に基づいて求める、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記第1のロールと前記第2のロールとの間のギャップの幅を、前記第1のロールの変位および前記第2のロールの変位をそれぞれ測定することによって求める、請求項1または2に記載の製造方法。
- 前記電極材料が、ペースト、スラリー、または造粒体の形態にある、請求項1〜4のいずれか1項に記載の製造方法。
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