JP6450460B2 - 光学材料用重合性組成物の製造方法および光学材料用重合性組成物 - Google Patents

Description

本発明は、光学材料用重合性組成物の製造方法および光学材料用重合性組成物に関する。

プラスチックレンズは、無機レンズに比べ高屈折率、高アッベ数であり、軽量で割れ難く、染色が可能なため眼鏡レンズ、カメラレンズ等の光学材料に急速に普及してきている。

とりわけ眼鏡レンズはその用途から、（１）高屈折率であること、（２）低分散（高アッベ数）であることといった光学的性能に加え、（３）耐熱性に優れていること、（４）耐衝撃性に優れていること、（５）染色が容易であること、（６）切削加工などの加工性に優れていること、等多くの機能が求められており、これまでにも様々なレンズ用樹脂素材が開発され使用されている。
その中でも代表的な例として、ポリチオウレタン系樹脂が挙げられ、所定のモノマーからなる重合性組成物が開示されている（特許文献１〜４）。

特開平２−２７０８５９号公報 特開平３−１２４７２２号公報 特開平７−２５２２０７号公報 国際公開第２００７/０２０８１７号パンフレット

しかしながら、これらの特許文献に記載のポリチオウレタン系樹脂からなる成形体は、耐衝撃性において改善の余地があった。また、耐衝撃性が改善された重合性組成物を見出したとしても、重合性組成物を工業的に多量に調製して、プラスチック眼鏡レンズを工業的に複数製造した場合、耐衝撃性が安定的に発現されない場合があり、その結果、プラスチック眼鏡レンズの製品の歩留りが低下する等の課題があった。

本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した結果、重合性組成物を調製する際におけるモノマー成分と触媒との混合液や重合性組成物自体の所定の物性値と樹脂成形体の耐衝撃性との間に関係があることを見出し、本発明を完成するに至った。

［１］ （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合し、ヘイズが０．０５以下の光学材料用重合性組成物を得る工程を含み、
チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の製造方法；

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［２］ （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物とを混合する工程と、
（Ｃ）イソシアネート化合物と、前記工程により得られた混合液と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程と、
を含み、
チオール化合物（Ａ）およびスズ化合物（Ｂ）を含む前記混合液のヘイズが０．０５以下であり、チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の製造方法；

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［３］ （Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合する工程と、
前記工程により得られた混合液と、（Ａ）チオール化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程と、
を含み、
スズ化合物（Ｂ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）を含む前記混合液のヘイズが０．０５以下であり、チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物の製造方法；

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［４］ （Ａ）チオール化合物と、
（Ｂ）一般式（１）

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
で表されるスズ化合物と、
（Ｃ）イソシアネート化合物と、を含み、
チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかであり、
ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［５］ （Ｃ）イソシアネート化合物と、
ヘイズが０．０５以下である混合液と、を含み、
前記混合液は、
（Ａ）チオール化合物と、
（Ｂ）一般式（１）

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
で表されるスズ化合物と、を含み、
チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［６］ （Ａ）チオール化合物と、
ヘイズが０．０５以下である混合液と、を含み、
前記混合液は、
（Ｂ）一般式（１）

(一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
で表されるスズ化合物と、
（Ｃ）イソシアネート化合物と、を含み、
チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［７］ レンズ注型用鋳型内に、［４］〜［６］のいずれかに記載の光学材料用重合性組成物を注入する工程と、
前記光学材料用重合性組成物を重合する工程と、
前記工程により得られた樹脂を前記レンズ注型用鋳型から離型して成形体を得る工程と、を含む、プラスチックレンズの製造方法。
［８］ ［４］〜［６］のいずれかに記載の光学材料用重合性組成物を硬化させてなる成形体。
［９］ ［８］に記載の成形体からなる光学材料。
［１０］ ［９］に記載の光学材料からなるレンズ。
［１１］ ［１０］に記載のレンズからなる眼鏡レンズ。
［１２］ ［１０］に記載のレンズと、前記レンズの少なくとも一方の面上に形成されたハードコート層および／または反射防止コート層とを備える、眼鏡レンズ。
［１３］ （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を調製する工程１と、
前記光学材料用重合性組成物のヘイズを測定する工程２と、
前記工程２において前記光学材料用重合性組成物のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記光学材料用重合性組成物を再混合して工程２に戻す工程３と、
を含み、
チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。

(一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［１４］ （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物とを混合し混合液を調製する工程ａと、
前記混合液のヘイズを測定する工程ｂと、
前記工程ｂにおいて前記混合液のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記混合液を再混合して工程ｂに戻す工程ｃと、
ヘイズが０．０５以下の前記混合液と（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程ｄと、を含み、
チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。

(一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
［１５］ （Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して混合液を調製する工程ｉと、
前記混合液のヘイズを測定する工程iiと、
前記工程iiにおいて前記混合液のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記混合液を再混合して工程iiに戻す工程iiiと、
ヘイズが０．０５以下の前記混合液と（Ａ）チオール化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程ivと、を含み、
チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。

(一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
組み合わせ（１）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（２）：
チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
組み合わせ（３）：
チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
組み合わせ（４）：
チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。

本発明の光学材料用重合性組成物の製造方法によれば、モノマー成分と触媒であるスズ化合物との混合液や重合性組成物自体のヘイズを管理することにより、耐衝撃性に優れた成形体を得ることが可能な光学材料用重合性組成物を提供することができる。特に、大規模生産において、耐衝撃性に優れた成形体の原料となる重合性組成物を安定して得ることができ、製造安定性に優れた重合性組成物の製造方法を提供することができる。
また、本発明の光学材料用重合性組成物は所定のヘイズを有していることから、耐衝撃性に優れた成形体を安定的に得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりが向上する。

以下、本発明の光学材料用重合性組成物の製造方法および光学材料用重合性組成物を、第１〜第３実施形態により説明する。なお、本発明の光学材料用重合性組成物の製造方法は、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法と表現することもできる。

＜第１実施形態＞
本実施形態の光学材料用重合性組成物の製造方法は、
（Ａ）メルカプト基を二つ以上有する一種以上のチオール化合物（以下、チオール化合物（Ａ））と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物（以下、スズ化合物（Ｂ））と、（Ｃ）イソシアナト基を二つ以上有する一種以上のイソシアネート化合物（以下、イソシアネート化合物（Ｃ））と、を混合する工程を含む。そして、当該工程において、得られた光学材料用重合性組成物のヘイズを０．０５以下にすることができる。

当該製造方法としては、具体的には、以下に示すような、工程ａ１および工程ａ２を含む製造方法ａ、または工程ｂ１および工程ｂ２を含む製造方法ｂを挙げることができる。
製造方法ａ
工程ａ１：チオール化合物（Ａ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合する。
工程ａ２：イソシアネート化合物（Ｃ）と、工程ａ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
製造方法ｂ
工程ｂ１：イソシアネート化合物（Ｃ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合する。
工程ｂ２：チオール化合物（Ａ）と、工程ｂ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
まず、製造方法ａについて説明する。

（製造方法ａ）
製造方法ａは下記の工程を含む。
工程ａ１：チオール化合物（Ａ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合する。
工程ａ２：イソシアネート化合物（Ｃ）と、工程ａ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
以下、各工程について説明する。

［工程ａ１］
まず、チオール化合物（Ａ）と、スズ化合物（Ｂ）との混合液を得る。

（チオール化合物（Ａ））
チオール化合物（Ａ）は、分子内に２以上のメルカプト基を有する化合物であって、例えば、脂肪族チオール化合物、芳香族チオール化合物等が挙げられる。

脂肪族チオール化合物としては、例えば、メタンジチオール、１，２−エタンジチオール、１，２−プロパンジチオール、１，３−プロパンジチオール、１，４−ブタンジチオール、１，５−ペンタンジチオール、１，６−ヘキサンジチオール、１，２−シクロヘキサンジチオール、３，４−ジメトキシブタン−１，２−ジチオール、２−メチルシクロヘキサン−２，３−ジチオール、１，２−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、２，３−ジメルカプトプロピルメチルエーテル、ビス（２−メルカプトエチル）エーテル、テトラキス（メルカプトメチル）メタン、ビス（メルカプトメチル）スルフィド、ビス（メルカプトメチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトエチル）スルフィド、ビス（メルカプトエチル）ジスルフィド、ビス（メルカプトメチルチオ）メタン、ビス（２−メルカプトエチルチオ）メタン、１，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エタン、１，２−ビス（２−メルカプトエチルチオ）エタン、１，３−ビス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，３−ビス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（メルカプトメチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（２−メルカプトエチルチオ）プロパン、１，２，３−トリス（３−メルカプトプロピルチオ）プロパン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、４，６−ビス（メルカプトメチルチオ）−１，３−ジチアン、２−（２，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタン、テトラキス（メルカプトメチルチオメチル）メタン、テトラキス（２−メルカプトエチルチオメチル）メタン、ビス（２，３−ジメルカプトプロピル）スルフィド、２，５−ビスメルカプトメチル−１，４−ジチアン、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、２，３−ジメルカプト−１−プロパノール（３−メルカプトプロピオネート）、３−メルカプト−１，２−プロパンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、３−メルカプト−１，２−プロパンジオールジ（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、ジトリメチロールプロパンテトラキス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールエタントリス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールエタントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（２−メルカプトアセテート）、ペンタエリスリトールジ（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）、グリセリンジ（２−メルカプトアセテート）、グリセリントリス（２−メルカプトアセテート）、グリセリンジ（３−メルカプトプロピオネート）、グリセリントリス（３−メルカプトプロピオネート）、１，４−シクロヘキサンジオールビス（２−メルカプトアセテート）、１，４−シクロヘキサンジオールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルスルフィドビス（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシエチルスルフィド（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシエチルスルフィド（３−メルカプトプロピオネート）、ヒドロキシメチルジスルフィド（２−メルカプトアセテート）、ヒドロキシメチルジスルフィド（３−メルカプトプロピオネート）、チオグリコール酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、チオジプロピオン酸ビス（２−メルカプトエチルエステル）、Ｎ，Ｎ'，Ｎ"−トリス（β−メルカプトプロピルカルボニルオキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。

芳香族チオール化合物としては、例えば、１，２−ジメルカプトベンゼン、１，３−ジメルカプトベンゼン、１，４−ジメルカプトベンゼン、１，２−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，４−ビス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３−トリメルカプトベンゼン、１，２，４−トリメルカプトベンゼン、１，３，５−トリメルカプトベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，３，５−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４−トリス（メルカプトエチル）ベンゼン、２，５−トルエンジチオール、３，４−トルエンジチオール、１，４−ナフタレンジチオール、１，５−ナフタレンジチオール、２，６−ナフタレンジチオール、２，７−ナフタレンジチオール、１，２，３，４−テトラメルカプトベンゼン、１，２，３，５−テトラメルカプトベンゼン、１，２，４，５−テトラメルカプトベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトメチル）ベンゼン、１，２，３，４−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，３，５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、１，２，４，５−テトラキス（メルカプトエチル）ベンゼン、２，２'−ジメルカプトビフェニル、４，４'−ジメルカプトビフェニル等が挙げられる。

これら例示化合物のうち、脂肪族チオール化合物が好ましく、その中でも
４，６−ビス（メルカプトメチルチオ）−１，３−ジチアン、２−（２，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、２，５−ビスメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）から選択される少なくとも１種以上の化合物がより好ましく、
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、２，５−ビスメルカプトメチル−１，４−ジチアン、１，１，３，３−テトラキス（メルカプトメチルチオ）プロパン、４，６−ビス（メルカプトメチルチオ）−１，３−ジチアン、２−（２，２−ビス（メルカプトメチルチオ）エチル）−１，３−ジチエタンから選択される少なくとも１種以上の化合物がさらに好ましく
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、および４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンから選択される少なくとも１種以上の化合物が特に好ましい。

（スズ化合物（Ｂ））
スズ化合物（Ｂ）は、下記一般式（１）で表すことができる。

一般式（１）中、Ｒ^４は炭素数１〜８のアルキル基を示し、好ましくは炭素数１〜４のアルキル基である。Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、好ましくは塩素原子である。Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。

スズ化合物（Ｂ）としては、ジメチルスズジクロライド、ジブチルスズジクロライド、ジオクチルスズジクロライド等のジアルキルスズハロゲン化物類、ジメチルスズジアセテート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクタノエート、ジブチルスズジラウレート、ジオクチルスズジラウレート等のジアルキルスズジカルボキシレート類、が挙げられる。
これらのうち、室温で固体のものとしては、ジメチルスズジクロライド、ジブチルスズジクロライド、ジオクチルスズジクロライド、ジメチルスズジアセテート、ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジオクタノエートを挙げることができ、室温で液体のものとしてジブチルスズジラウレート等を挙げることができる。本実施形態において、室温で液体のスズ化合物（Ｂ）を用いた場合に、得られる樹脂成形体の耐衝撃性がより向上する傾向がある。

ジアルキルスズハロゲン化物類には、モノアルキルスズハロゲン化物類、トリアルキルスズハロゲン化物類を含んでいてもよい。ジアルキルスズジカルボキシレート類には、モノアルキルスズトリカルボキシレート化物類、トリアルキルスズカルボキシレート化物類を含んでいてもよい。

これらのうちでも、ジアルキルスズハロゲン化物類が好ましく、Ｃ１〜Ｃ８の炭素数のアルキル基を有するジアルキルスズハロゲン化物類がさらに好ましく、Ｃ１〜Ｃ４の炭素数のアルキル基を有するジアルキルスズハロゲン化物類が特に好ましい。具体的には、ジブチルスズジクロライド、ジメチルスズジクロライドである。

スズ化合物（Ｂ）は、チオール化合物（Ａ）１００重量部に対し０．０１８〜１．０８０重量部、好ましくは０．０３５〜０．７５０重量部、より好ましくは０．０５０〜０．４００重量部で用いることができる。

スズ化合物（Ｂ）とチオール化合物（Ａ）との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

［工程ａ２］
次いで、イソシアネート化合物（Ｃ）と、工程ａ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。

（イソシアネート化合物（Ｃ））
イソシアネート化合物（Ｃ）は、分子内に２以上のイソシアナト基を有する化合物であって、例えば、脂環族イソシアネート、脂肪族イソシアネート、芳香族イソシアネート、複素環イソシアネート等が挙げられる。イソシアネート化合物（Ｃ）は、これらの二量体、三量体、ビュウレット体、およびプレポリマーを含むことができる。

脂環族イソシアネートとしては、イソホロンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、シクロヘキサンジイソシアネート、メチルシクロヘキサンジイソシアネート、ジシクロヘキシルジメチルメタンイソシアネート、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、３，８−ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン、３，９−ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン、４，８−ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン、４，９−ビス（イソシアナトメチル）トリシクロデカン等が挙げられ、少なくとも１種を用いることができる。

脂肪族イソシアネートとしては、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアナトメチルエステル、リジントリイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、α，α，α′，α′−テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）ナフタリン、１，３，５−トリス（イソシアナトメチル）ベンゼン、ビス（イソシアナトメチル）スルフィド、ビス（イソシアナトエチル）スルフィド、ビス（イソシアナトメチル）ジスルフィド、ビス（イソシアナトエチル）ジスルフィド、ビス（イソシアナトメチルチオ）メタン、ビス（イソシアナトエチルチオ）メタン、ビス（イソシアナトエチルチオ）エタン、ビス（イソシアナトメチルチオ）エタン等が挙げられる。

芳香族イソシアネートとしては、トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート等を挙げることができ、トリレンジイソシアネートは、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネートより選ばれる１種以上のイソシアネートである。トリレンジイソシアネートとしては、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、または２，４−トリレンジイソシアネートと２，６−トリレンジイソシアネートとの混合物等が挙げられる。

複素環イソシアネートとしては、２，５−ジイソシアナトチオフェン、２，５−ビス（イソシアナトメチル）チオフェン、２，５−ジイソシアナトテトラヒドロチオフェン、２，５−ビス（イソシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、３，４−ビス（イソシアナトメチル）テトラヒドロチオフェン、２，５−ジイソシアナト−１，４−ジチアン、２，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，４−ジチアン、４，５−ジイソシアナト−１，３−ジチオラン、４，５−ビス（イソシアナトメチル）−１，３−ジチオラン等が挙げられる。

イソシアネート化合物（Ｃ）としては、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、４，４'−ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−フェニレンジイソシアネート、１，４−フェニレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、および２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンから選択される少なくとも１種以上の化合物を含むことが好ましく、
１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、および２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンから選択される少なくとも１種以上の化合物を含むことがさらに好ましい。

本実施形態においては、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、およびｍ−キシリレンジイソシアネートから選択される１種以上の環状構造を有するイソシアネート化合物と、環状構造を有さない炭素数４〜１１脂肪族イソシアネート化合物と、を併用することが好ましい。
さらに、本実施形態においては、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、および２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンから選択される１種以上の環状構造を有するイソシアネート化合物と、環状構造を有さない炭素数４〜１１脂肪族イソシアネート化合物と、を併用することがより好ましい。

本実施形態の光学材料用重合性組成物は、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、およびｍ−キシリレンジイソシアネートから選択される１種以上の化合物と、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせ、チオール化合物（Ａ）として４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、およびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）から選択される１種以上の化合物を含むことが、好ましい。

さらに、本実施形態の光学材料用重合性組成物は、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、および２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンから選択される１種以上の化合物と、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせ、チオール化合物（Ａ）として４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン、およびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）から選択される１種以上の化合物を含むことがより好ましい。

本実施形態においては、チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）は、以下の組み合わせ（１）〜（４）とすることが好ましく、組み合わせ（１）および（２）がより好ましく、組み合わせ（１）が特に好ましい。
・組み合わせ（１）
チオール化合物（Ａ）：4-メルカプトメチル-1,8-ジメルカプト-3,6-ジチアオクタン、およびペンタエリスリトールテトラキス（3-メルカプトプロピオネート）
イソシアネート化合物（Ｃ）： 2,5-ビス（イソシアナトメチル）-ビシクロ［2.2.1］ヘプタンと2,6-ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタンとの混合物、およびヘキサメチレンジイソシアネート
・組み合わせ（２）
チオール化合物（Ａ）：4-メルカプトメチル-1,8-ジメルカプト-3,6-ジチアオクタン、およびペンタエリスリトールテトラキス（3-メルカプトプロピオネート）
イソシアネート化合物（Ｃ）： 2,5-ビス（イソシアナトメチル）-ビシクロ［2.2.1］ヘプタンと2,6-ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタンとの混合物
・組み合わせ（３）
チオール化合物（Ａ）：5,7（または4,7または4,8）-ジメルカプトメチル-1,11-メルカプト-3,6,9-トリチアウンデカンの混合物
イソシアネート化合物（Ｃ）：2,5-ビス（イソシアナトメチル）-ビシクロ［2.2.1］ヘプタンと2,6-ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタンとの混合物
・組み合わせ（４）
チオール化合物（Ａ）：ペンタエリスリトールテトラキス（3-メルカプトプロピオネート）
イソシアネート化合物（Ｃ）： 2,5-ビス（イソシアナトメチル）-ビシクロ［2.2.1］ヘプタンと2,6-ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタンとの混合物、およびヘキサメチレンジイソシアネート

また、工程ａ２において、工程ａ１で使用したチオール化合物（Ａ）と同一または異なるチオール化合物（Ｄ）を別途添加してもよい。工程ａ１により得られた混合液とチオール化合物（Ｄ）とを混合した後にイソシアネート化合物（Ｃ）を混合することができ、イソシアネート化合物（Ｃ）とチオール化合物（Ｄ）との混合液を工程ａ１により得られた混合液に添加することができ、もしくは、工程ａ１により得られた混合液とイソシアネート化合物（Ｃ）とを混合した後にチオール化合物（Ｄ）を添加することもできる。
チオール化合物（Ｄ）としては、チオール化合物（Ａ）と同じく分子内に２以上のメルカプト基を有する化合物であって、例えば、脂肪族チオール化合物、芳香族チオール化合物等が挙げられる。具体的な化合物としては、工程ａ１の説明にて列記した通りである。

チオール化合物（Ｄ）としては、分子内に少なくとも１つ以上のエステル結合を有する脂肪族ポリチオール化合物を含むことが好ましい。分子内にエステル結合を有する脂肪族ポリチオール化合物としては、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールジ（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサ（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールペンタ（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトアセテート）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカプトアセテート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、エチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）、ジエチレングリコールビス（２−メルカプトアセテート）が好ましく、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）およびペンタエリスリトールトリス（３−メルカプトプロピオネート）がより好ましい。

本実施形態において、イソシアネート化合物（Ｃ）におけるイソシアナト基の合計量に対する、チオール化合物（Ａ）およびチオール化合物（Ｄ）におけるメルカプト基の合計量のモル比率は０．８〜１．２の範囲内であり、好ましくは０．８５〜１．１５の範囲内であり、さらに好ましくは０．９〜１．１の範囲内である。上記範囲内で、光学材料、特に眼鏡用プラスチックレンズ材料として好適に使用される成形体を得ることができる。

また、本実施形態の光学材料用重合性組成物には、得られる成形体の光学物性、耐衝撃性、比重等の諸物性の調節及び、重合性組成物の各成分の取扱い性の調整を目的に、改質剤を本発明の効果を損なわない範囲で加えることができる。

改質剤としては、例えば、エピスルフィド化合物、アルコール化合物、アミン化合物、エポキシ化合物、有機酸及びその無水物、（メタ）アクリレート化合物等を含むオレフィン化合物等が挙げられる。水酸基を含まない場合は、レンズ重合時のムラの発生、染色性の観点から、好ましい。

本実施形態において、光学材料用重合性組成物には、目的に応じて公知の成形法と同様に、内部離型剤、鎖延長剤、架橋剤、光安定剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、着色防止剤、油溶染料、充填剤、密着性向上剤などの種々の添加剤を加えてもよい。

内部離型剤としては、酸性リン酸エステルを用いることができる。酸性リン酸エステルとしては、リン酸モノエステル、リン酸ジエステルを挙げることができ、それぞれ単独または２種類以上混合して使用することできる。
本実施形態の光学材料用重合性組成物は、化合物（Ａ）、化合物（Ｂ）および化合物（Ｃ）、さらに必要に応じて、化合物（Ｄ）およびその他添加剤を含む。

工程ａ２において、工程ａ１により得られた混合液、イソシアネート化合物（Ｃ）、必要に応じてチオール化合物（Ｄ）、さらにその他添加剤を混合して重合性組成物を調製する場合の温度は通常２５℃以下で行われる。重合性組成物のポットライフの観点から、さらに低温にすると好ましい場合がある。ただし、内部離型剤、添加剤の重合性組成物等への溶解性が良好でない場合は、あらかじめ加温して、重合性組成物、改質剤等に溶解させることも可能である。

得られた光学材料用重合性組成物のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。
光学材料用重合性組成物のヘイズを指標として管理することにより、耐衝撃性に優れた成形体を安定して得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりが向上する。特に、大規模生産において、耐衝撃性に優れた成形体の原料となる重合性組成物を安定して得ることができ、製造安定性に優れた重合性組成物の製造方法を提供することができる。さらに、本実施形態の光学材料用重合性組成物を用いることにより、耐衝撃性に優れた成形体を得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりを向上させることができる。

なお、重合性組成物のヘイズが上記範囲を超える場合は、混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。ヘイズに影響を与える原因物質は明らかでないものの、チオール化合物（Ａ）および／またはスズ化合物（Ｂ）由来の極微量の不純物の存在が想定される。当該操作により、重合性組成物の不純物の量を減らすことができ、結果としてヘイズが下がると考えられる。
なお、本実施形態の光学材料用重合性組成物のヘイズは、濾過によって低減させることが困難であり、濾過工程前において上記範囲内に含まれる。濾過工程としては、例えば１μｍＰＴＦＥ製フィルターで濾過する工程等を挙げることができる。
重合性組成物のヘイズが所定値以下となった場合には、本実施形態の光学材料用重合性組成物として用いることができる。

（製造方法ｂ）
製造方法ｂは下記の工程を含む。
工程ｂ１：イソシアネート化合物（Ｃ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合する。
工程ｂ２：チオール化合物（Ａ）と、工程ｂ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
以下、各工程について説明する。

［工程ｂ１］
イソシアネート化合物（Ｃ）およびスズ化合物（Ｂ）は、製造方法ａと同様の化合物を用いることができる。
スズ化合物（Ｂ）は、イソシアネート化合物（Ｃ）１００重量部に対し０．０１０〜０．６２０重量部、好ましくは０．０２０〜０．４３０重量部、より好ましくは０．０３０〜０．２３０重量部で用いることができる。

イソシアネート化合物（Ｃ）とスズ化合物（Ｂ）との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

［工程ｂ２］
本工程においては、チオール化合物（Ａ）と、工程ｂ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
チオール化合物（Ａ）は、製造方法ａと同様の化合物を用いることができ、さらにチオール化合物（Ｄ）を含めてチオール化合物（Ａ）として用いることができる。さらに、本実施形態の光学材料用重合性組成物には、工程ａ２に記載されたその他の成分を添加することができる。

本実施形態の光学材料用重合性組成物は、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、およびｍ−キシリレンジイソシアネートから選択される１種以上の化合物と、ヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせ、チオール化合物（Ａ）としてペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）および４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを含むことが、好ましい。

チオール化合物（Ａ）と、工程ｂ１により得られた混合液との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

得られた光学材料用重合性組成物のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。
光学材料用重合性組成物のヘイズを指標として管理することにより、耐衝撃性に優れた成形体を安定して得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりが向上する。特に、大規模生産において、耐衝撃性に優れた成形体の原料となる重合性組成物を安定して得ることができ、製造安定性に優れた重合性組成物の製造方法を提供することができる。さらに、本実施形態の光学材料用重合性組成物を用いることにより、耐衝撃性に優れた成形体を得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりを向上させることができる。

なお、重合性組成物のヘイズが上記範囲を超える場合は、混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。ヘイズに影響を与える原因物質は明らかでないものの、チオール化合物（Ａ）および／またはスズ化合物（Ｂ）由来の極微量の不純物の存在が想定される。当該操作により、重合性組成物の不純物の量を減らすことができ、結果としてヘイズが下がると考えられる。
なお、本実施形態の光学材料用重合性組成物のヘイズは、濾過によって低減させることが困難であり、濾過工程前において上記範囲内に含まれる。濾過工程としては、例えば１μｍＰＴＦＥ製フィルターで濾過する工程等を挙げることができる。
重合性組成物のヘイズが所定値以下となった場合には、本実施形態の光学材料用重合性組成物として用いることができる。

本実施形態において、イソシアネート化合物（Ｃ）におけるイソシアナト基の合計量に対する、チオール化合物（Ａ）におけるメルカプト基の合計量のモル比率は０．８〜１．２の範囲内であり、好ましくは０．８５〜１．１５の範囲内であり、さらに好ましくは０．９〜１．１の範囲内である。上記範囲内で、光学材料、特に眼鏡用プラスチックレンズ材料として好適に使用される成形体を得ることができる。

＜第２実施形態＞
本実施形態の光学材料用重合性組成物の製造方法は以下の工程を含む。
工程ｃ１：チオール化合物（Ａ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合し、ヘイズが０．０５以下である混合液を得る。
工程ｃ２：イソシアネート化合物（Ｃ）と、工程ｃ１により得られた混合液と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る。
以下、各工程について説明する。

［工程ｃ１］
まず、チオール化合物（Ａ）と、スズ化合物（Ｂ）との混合液を得る。工程ｃ１は、第１実施形態における製造方法ａの工程ａ１と同様に実施することができる。
なお、チオール化合物（Ａ）およびスズ化合物（Ｂ）は、第１実施形態の製造方法ａと同様の化合物を用いることができる。

スズ化合物（Ｂ）は、チオール化合物（Ａ）１００重量部に対し、０．０１８〜１．０８０重量部、好ましくは０．０３５〜０．７５０重量部、より好ましくは０．０５０〜０．４００重量部で用いることができる。

スズ化合物（Ｂ）とチオール化合物（Ａ）との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

得られた混合液のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。ヘイズが当該範囲にある混合液は、工程ｃ２に用いることができる。なお、工程ｃ２において当該混合液に添加される、イソシアネート化合物（Ｃ）またはイソシアネート化合物（Ｃ）にその他の成分を溶解させた溶液のヘイズはほぼ０であり、光学材料用重合性組成物のヘイズに大きな影響を及ぼさないことから、当該混合液のヘイズを管理することが重要となる。
当該混合物のヘイズを指標として管理することにより、耐衝撃性に優れた成形体を安定して得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりが向上する。特に、大規模生産において、耐衝撃性に優れた成形体の原料となる重合性組成物を安定して得ることができ、製造安定性に優れた重合性組成物の製造方法を提供することができる。

なお、混合液のヘイズが上記範囲を超える場合は、混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。ヘイズに影響を与える原因物質は明らかでないものの、チオール化合物（Ａ）および／またはスズ化合物（Ｂ）由来の極微量の不純物の存在が想定される。当該操作により、混合液の不純物の量を減らすことができ、結果としてヘイズが下がると考えられる。なお、本実施形態において、混合液のヘイズは、濾過によって上記範囲内に低減することが困難である。濾過としては、例えば１μｍＰＴＦＥ製フィルターを用いた濾過等を挙げることができる。
混合液のヘイズが所定値以下となった場合には、その混合液を工程ｃ２に用いることができる。

［工程ｃ２］
工程ｃ１により得られた混合液と、イソシアネート化合物（Ｃ）とを混合して光学材料用重合性組成物を調製する。工程ｃ２は第１実施形態における製造方法ａの工程ａ２と同様に実施することができる。イソシアネート化合物（Ｃ）は、第１実施形態の製造方法ａと同様の化合物を挙げることができる。さらに、チオール化合物（Ｄ）を用いることができ、第１実施形態の製造方法ａと同様の化合物を挙げることができる。
工程ｃ１により得られた混合液と、イソシアネート化合物（Ｃ）との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

なお、イソシアネート化合物（Ｃ）またはイソシアネート化合物（Ｃ）にその他の成分を溶解させた溶液のヘイズはほぼ０であり、光学材料用重合性組成物のヘイズに大きな影響を及ぼさないものの、本工程の結果、得られた光学材料用重合性組成物のヘイズが上記範囲を超えた場合には、さらに混合して混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。
すなわち、本実施形態における光学材料用重合性組成物のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。

本実施形態において、イソシアネート化合物（Ｃ）におけるイソシアナト基の合計量に対する、チオール化合物（Ａ）およびチオール化合物（Ｄ）におけるメルカプト基の合計量のモル比率は０．８〜１．２の範囲内であり、好ましくは０．８５〜１．１５の範囲内であり、さらに好ましくは０．９〜１．１の範囲内である。上記範囲内で、光学材料、特に眼鏡用プラスチックレンズ材料として好適に使用される成形体を得ることができる。

本実施形態の光学材料用重合性組成物は、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、およびｍ−キシリレンジイソシアネートから選択される１種以上の化合物と、ヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせ、チオール化合物（Ａ）として４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを含むことが好ましく、さらにチオール化合物（Ｄ）を添加する場合は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を用いることが好ましい。

＜第３実施形態＞
本実施形態の光学材料用重合性組成物の製造方法は以下の工程を含む。
工程ｄ１：イソシアネート化合物（Ｃ）とスズ化合物（Ｂ）とを混合し、ヘイズが０．０５以下である混合液を得る。
工程ｄ２：チオール化合物（Ａ）と、工程ｄ１により得られた混合液と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る。
以下、各工程について説明する。

［工程ｄ１］
まず、イソシアネート化合物（Ｃ）と、スズ化合物（Ｂ）との混合液を得る。工程ｄ１は、第１実施形態における製造方法ｂの工程ｂ１と同様に行うことができる。
イソシアネート化合物（Ｃ）およびスズ化合物（Ｂ）は、第１実施形態の製造方法ａと同様の化合物を挙げることができる。

スズ化合物（Ｂ）は、イソシアネート化合物（Ｃ）１００重量部に対し０．０１０〜０．６２０重量部、好ましくは０．０２０〜０．４３０重量部、より好ましくは０．０３０〜０．２３０重量部で用いることができる。

イソシアネート化合物（Ｃ）と、スズ化合物（Ｂ）との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

得られた混合液のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。ヘイズが当該範囲にある混合液は、工程ｄ２に用いることができる。なお、工程ｄ２において当該混合液に添加される、チオール化合物（Ａ）またはチオール化合物（Ａ）にその他の成分を溶解させた溶液のヘイズはほぼ０であり、光学材料用重合性組成物のヘイズに大きな影響を及ぼさないことから、当該混合液のヘイズを管理することが重要となる。
当該混合物のヘイズを指標として管理することにより、耐衝撃性に優れた成形体を安定して得ることができ、光学材料等の製品の歩留まりが向上する。特に、大規模生産において、耐衝撃性に優れた成形体の原料となる重合性組成物を安定して得ることができ、製造安定性に優れた重合性組成物の製造方法を提供することができる。

なお、混合液のヘイズが上記範囲を超える場合は、混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。ヘイズに影響を与える原因物質は明らかでないものの、極微量の不純物の存在が想定される。当該操作により、混合液の不純物の量を減らすことができ、結果としてヘイズが下がると考えられる。なお、本実施形態において、混合液のヘイズは、濾過によって上記範囲内に低減することが困難である。濾過としては、例えば１μｍＰＴＦＥ製フィルターを用いた濾過等を挙げることができる。
混合液のヘイズが所定値以下となった場合には、その混合液を工程ｄ２に用いることができる。

［工程ｄ２］
本工程においては、チオール化合物（Ａ）と、工程ｄ１により得られた混合液と、を混合し、ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物を得る。
チオール化合物（Ａ）は、第１実施形態における製造方法ａと同様の化合物を用いることができ、さらにチオール化合物（Ｄ）を含めてチオール化合物（Ａ）として用いることができる。さらに、本実施形態の光学材料用重合性組成物には、第１実施形態における製造方法ａの工程ａ２に記載されたその他の成分を添加することができる。

チオール化合物（Ａ）と、工程ｄ１により得られた混合液との混合条件は、特に限定されないが、室温（２５℃）において、乾燥空気下または不活性ガス雰囲気下で行うことができる。

なお、チオール化合物（Ａ）またはチオール化合物（Ａ）にその他の成分を溶解させた溶液のヘイズはほぼ０であり、光学材料用重合性組成物のヘイズに大きな影響を及ぼさないものの、本工程の結果、得られた光学材料用重合性組成物のヘイズが上記範囲を超えた場合には、さらに混合して混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。
すなわち、本実施形態における光学材料用重合性組成物のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。

本実施形態において、イソシアネート化合物（Ｃ）におけるイソシアナト基の合計量に対する、チオール化合物（Ａ）におけるメルカプト基の合計量のモル比率は０．８〜１．２の範囲内であり、好ましくは０．８５〜１．１５の範囲内であり、さらに好ましくは０．９〜１．１の範囲内である。上記範囲内で、光学材料、特に眼鏡用プラスチックレンズ材料として好適に使用される成形体を得ることができる。

本実施形態の光学材料用重合性組成物は、イソシアネート化合物（Ｃ）として、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、およびｍ−キシリレンジイソシアネートから選択される１種以上の化合物と、ヘキサメチレンジイソシアネートとの組み合わせ、チオール化合物（Ａ）としてペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）および４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを含むことが、好ましい。

＜成形体および用途＞
本実施形態において、ポリチオウレタン樹脂からなる成形体の製造方法は、特に限定されないが、好ましい製造方法として注型重合が挙げられる。注型重合の例として、２つの成型モールドがガスケットまたはテープ等で保持された注型用鋳型内に重合性組成物を注入する。この時、得られるプラスチックレンズに要求される物性によっては、必要に応じて、減圧下での脱泡処理や加圧、減圧等の濾過処理等を行うことが好ましい場合が多い。

重合条件については、重合性組成物、触媒の種類と使用量、モールドの形状等によって大きく条件が異なるため限定されるものではないが、およそ、−５０〜１５０℃の温度で１〜５０時間かけて行われる。５〜１５０℃の温度範囲で保持または徐々に昇温して、硬化させることが好ましいが、適宜設定が可能である。
そして、重合硬化により得られた樹脂を注型用鋳型から離型して成形体が得られる。

本実施形態の成形体は、必要に応じて、アニール等の処理を行ってもよい。処理温度は通常５０〜１５０℃の間で行われるが、好ましくは９０〜１４０℃で行うことであり、より好ましくは１００〜１３０℃で行うことである。

本実施形態の光学材料用重合性組成物は、注型重合時のモールドを変えることにより種々の形状の成形体として得ることができる。本実施形態の成形体は、所望の形状とし、必要に応じて形成されるコート層や他の部材等を備えることにより、様々な光学材料として用いることができる。

本実施形態の成形体は、高い屈折率及び高い透明性を備え、眼鏡レンズ、カメラレンズ、発光ダイオード（ＬＥＤ）、プリズム、光ファイバー、情報記録基板、フィルター、発光ダイオード等の光学用成形体として、これら光学材料に使用することが可能である。特に、眼鏡レンズ、カメラレンズ等のレンズ、発光ダイオード等の光学材料として好適である。

本実施形態の成形体は、必要に応じて、片面又は両面にコーティング層を施して用いてもよい。コーティング層としては、ハードコート層、反射防止膜層、防曇コート膜層、防汚染層、撥水層、プライマー層、フォトクロミック層等が挙げられる。これらのコーティング層はそれぞれ単独で用いることも複数のコーティング層を多層化して使用することもできる。両面にコーティング層を施す場合、それぞれの面に同様なコーティング層を施しても、異なるコーティング層を施してもよい。

本実施形態の眼鏡レンズは、本実施形態の光学材料用重合性組成物を硬化させて得られる成形体（レンズ）の少なくとも一方の面上に形成されたハードコート層および／または反射防止コート層と、を備えることができる。さらに、上記の他の層を備えることもできる。また、特定のチオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）から得られる眼鏡レンズでは、基材層とハードコート層または反射防止コート層との間にプライマー層を有さなくても、耐衝撃性に優れる場合がある。つまり、基材層の一方の面上に、ハードコート層および／または反射防止コート層を直接形成することができる。プライマー層を設ける必要がないため、眼鏡レンズの生産性が向上する。

ハードコート層は、本実施形態の光学材料用重合性組成物を硬化させて得られる成形体（レンズ）の少なくとも一方の面上に設けられ、レンズ表面に耐擦傷性、耐摩耗性、耐湿性、耐温水性、耐熱性、耐光性等の機能を与えることを目的としたコーティング層である。ハードコート層は、ケイ素、チタン、ジルコニウム、スズ、アルミニウム、タングステン、アンチモンの元素群より選ばれる１種以上の金属酸化物と、アルキル基、アリル基、アルコキシ基、メタクリルオキシ基、アクリルオキシ基、エポキシ基、アミノ基、イソシアナト基、メルカプト基より選ばれる少なくとも１種以上の官能基を有するシラン化合物及びその加水分解物と、を含有する組成物から得られる。

ハードコート組成物には硬化を促進する目的で硬化剤が含まれてもよい。硬化剤の具体例としては、無機、有機酸、アミン、金属錯体、有機酸金属塩、金属塩化物等が挙げられる。ハードコート組成物の調製には溶媒を用いてもよい。溶媒の具体例としては、水、アルコール類、エーテル類、ケトン類、エステル類等が挙げられる。

ハードコート層は、成形体表面に、ハードコート組成物をスピンコート、ディップコートなど公知の塗布方法で塗布した後、硬化して形成される。硬化方法としては、熱硬化、紫外線や可視光線などのエネルギー線照射による硬化方法等が挙げられる。加熱硬化する場合は、８０〜１２０℃で１〜４時間で実施するのが好ましい。干渉縞の発生を抑制するため、ハードコート層の屈折率は、成形体との屈折率の差が±０．１の範囲にあるのが好ましい。

ハードコート層を付与する前に、基材の表面は下記条件（ａ）〜（ｄ）を満たすようにアルカリ水溶液で超音波洗浄されていることが好ましい。
（ａ）アルカリ水溶液が５〜４０％の水酸化ナトリウムまたは水酸化カリウム水溶液、
（ｂ）アルカリ水溶液の処理温度が３０〜６０℃、
（ｃ）処理時間が３〜５分間、
（ｄ）超音波の周波数が２０〜３０ｋＨｚ。

アルカリ水溶液での洗浄後は、蒸留水やイソプロパノールなどのアルコール類などで洗浄し、５０℃〜８０℃の範囲で５分〜２０分、成形体の表面を乾燥してもよい。
本実施形態の重合性組成物から得られる成形体はアルカリ耐性に優れており、アルカリ水溶液での洗浄後においても白濁等の発生が抑制される。

反射防止層とは、成形体（レンズ）の少なくとも一方の面上に設けられ、空気と成形体の屈折率差から生じる反射率を下げ、プラスチックレンズ表面の光の反射を大幅に減らして透過率を高めることを目的としたコーティング層である。本実施形態における反射防止層は、酸化ケイ素を含有する低屈折率膜層と、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化錫、酸化タンタルより選ばれる１種以上の金属酸化物を含有する高屈折率膜層からなり、各々の層は単層または多層構造であってもよい。

反射防止層が多層構造である場合、５〜７層が積層されていることが好ましい。膜厚としては、１００〜３００ｎｍが好ましく、１５０〜２５０ｎｍがさらに好ましい。多層反射防止層を形成する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法、ＣＶＤ法等が挙げられる。

反射防止膜層の上には、必要に応じて防曇コート膜層、防汚染層、撥水層を形成させてもよい。防曇コート層、防汚染層、撥水層を形成する方法としては、反射防止機能に悪影響をもたらすものでなければ、その処理方法、処理材料等については特に限定されずに、公知の防曇コート処理方法、防汚染処理方法、撥水処理方法、材料を使用することができる。例えば、防曇コート、防汚染処理方法では、表面を界面活性剤で覆う方法、表面に親水性の膜を付加して吸水性にする方法、表面を微細な凹凸で覆い吸水性を高める方法、光触媒活性を利用して吸水性にする方法、超撥水性処理を施して水滴の付着を防ぐ方法などが挙げられる。また、撥水処理方法では、フッ素含有シラン化合物等を蒸着やスパッタによって撥水処理層を形成する方法や、フッ素含有シラン化合物を溶媒に溶解したあと、コーティングして撥水処理層を形成する方法等が挙げられる。

これらのコーティング層はそれぞれ、紫外線からレンズや目を守る目的で紫外線吸収剤、赤外線から目を守る目的で赤外線吸収剤、レンズの耐候性を向上する目的で光安定剤や酸化防止剤、レンズのファッション性を高める目的で染料や顔料、さらにフォトクロミック染料やフォトクロミック顔料、帯電防止剤、その他、レンズの性能を高めるための公知の添加剤を併用してもよい。塗布によるコーティングを行う層に関しては塗布性の改善を目的とした各種レベリング剤を使用してもよい。

本実施形態の光学材料用重合性組成物を用いたプラスチックレンズはファッション性やフォトクロミック性の付与などを目的として、目的に応じた色素を用い、染色して使用してもよい。レンズの染色は公知の染色方法で実施可能であるが、通常、以下に示す方法で実施される。

一般的には、使用する色素を溶解または均一に分散させた染色液中に所定の光学面に仕上げられたレンズ生地を浸漬（染色工程）した後、必要に応じてレンズを加熱して色素を固定化（染色後アニール工程）する方法である。染色工程に用いられる色素は公知の色素であれば特に限定されないが、通常は油溶染料もしくは分散染料が使用される。染色工程で使用される溶剤は用いる色素が溶解可能もしくは均一に分散可能なものであれば特に限定されない。この染色工程では、必要に応じて染色液に色素を分散させるための界面活性剤や、染色を促進するキャリアを添加してもよい。

染色工程は、色素および必要に応じて添加される界面活性剤を水又は水と有機溶媒との混合物中に分散させて染色浴を調製し、この染色浴中に光学レンズを浸漬し、所定温度で所定時間染色を行う。染色温度および時間は、所望の着色濃度により変動するが、通常、１２０℃以下で数分から数十時間程度でよく、染色浴の染料濃度は０．０１〜１０重量％で実施される。また、染色が困難な場合は加圧下で行ってもよい。

必要に応じて実施される染色後アニール工程は、染色されたレンズ生地に加熱処理を行う工程である。加熱処理は、染色工程で染色されたレンズ生地の表面に残る水を溶剤等で除去したり、溶媒を風乾したりした後に、例えば大気雰囲気の赤外線加熱炉、あるいは抵抗加熱炉等の炉中に所定時間滞留させる。染色後アニール工程は、染色されたレンズ生地の色抜けを防止する（色抜け防止処理）と共に、染色時にレンズ生地の内部に浸透した水分の除去が行われる。本実施形態では、アルコール化合物を含まない場合は、染色後のムラが少ない。

本実施形態においては、偏光フィルムの少なくとも一方の面に、本実施形態の重合性組成物を硬化させて得られる成形体を積層することにより、偏光レンズを得ることもできる。製造方法は特に限定されず、公知の方法を採用することができる。偏光フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート等の熱可塑性ポリエステル、ポリビニルアルコールなどを挙げることができる。

以上、本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、本発明の効果を損なわない範囲で、上記以外の様々な構成を採用することができる。
例えば、第１実施形態において、チオール化合物（Ａ）とスズ化合物（Ｂ）とイソシアネート化合物（Ｃ）とを一括で混合することもできる。
得られた光学材料用重合性組成物のヘイズは、ＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）に準拠して測定され、０．０５以下、好ましくは０．０３以下、より好ましくは０．０２５以下、さらに好ましくは０．０１５以下、特に好ましくは０．０１以下とすることができる。
なお、重合性組成物のヘイズが上記範囲を超える場合は、混合時間や攪拌速度の調整等の操作によりヘイズが上記範囲となるように調整することができる。

第１〜第３実施形態においては、チオール化合物（Ａ）またはイソシアネート化合物（Ｃ）のいずれかに、全量のスズ化合物（Ｂ）を混合する態様を説明したが、一部のスズ化合物（Ｂ）をチオール化合物（Ａ）に添加し、残りのスズ化合物（Ｂ）をイソシアネート化合物（Ｃ）に添加してもよい。
また、チオール化合物（Ａ）として２種以上のチオール化合物を用いる場合には、少なくとも１種のチオール化合物にスズ化合物（Ｂ）を添加することができる。
また、本実施形態においては、スズ化合物（Ｂ）とチオール化合物（Ａ）またはイソシアネート化合物（Ｃ）とのマスターバッチを調製し、他の化合物と混合することにより、スズ化合物（Ｂ）を他の化合物と混合することもできる。

以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。なお、ヘイズ、耐衝撃性は、以下の方法により測定した。
ヘイズ（Ｈａｚｅ）：日本電色工業社製Ｈａｚｅ Ｍｅｔｅｒ ＮＤＨ２０００を使用しＪＩＳ Ｋ ７１３６（ＩＳＯ １４７８２）規格にてヘイズを測定した。まず、１０ｍｍ角セルに４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンを装入し０点校正を実施した。次いで、ヘイズを測定する対象物を１０ｍｍ角セルに装入してヘイズを測定した。

耐衝撃性（落球試験）：中心厚０．３ｍｍ、直径７５ｍｍ、Ｓ＝−４．７５Ｄ形状のレンズに対し、高さ１２７ｃｍ（５０インチ）の位置からレンズ中心部に８ｇ、１６ｇ、２８ｇ、３３ｇ、４５ｇ、６７ｇ、９５ｇ、１１２ｇ、１７４ｇ、２２６ｇ、５３４ｇの１１種類の重量の異なる鉄球を順に落下させ、レンズが破損するか試験した。１０枚のレンズについて試験を行い、各レンズについて破損しなかった鉄球の重量の最大値を確認し、１０枚のレンズの最大値の平均値を「破損しなかった重量の平均値」として求めた。この平均値により耐衝撃性を評価した。

［実施例１］
２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンと２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンとの混合物２９．１９重量部、ヘキサメチレンジイソシアネート１９．４８重量部、紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ５８３）１．５０重量部、内部離型剤（酸性リン酸エステル、Ｓｔｅｐａｎ社製、商品名ゼレックＵＮ）０．１０重量部を、２０℃にて混合溶解させた。さらに、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）２３．４８重量部を加え、１５℃にて混合溶解させ、第１混合液を得た。
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、触媒として本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で３０分間混合し、第２混合液を得た。得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０３５であった。
そして、第１混合液と第２混合液を、１５℃で混合し、均一溶液とした。この混合溶液を４００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、２５℃〜１２０℃まで２１時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出した。モールド型からの成形体の離型性は良好であった。得られた成形体をさらに１３０℃で２時間アニール処理を行った。
成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は６１ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例２］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で１時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例１と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０１５であった。得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８１ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例３］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で２時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例１と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８３ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例４］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で２４時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例１と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８４ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例５］
２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンと２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンとの混合物２９．１９重量部、ヘキサメチレンジイソシアネート１９．４８重量部、紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ５８３）１．５０重量部、内部離型剤（酸性リン酸エステル、Ｓｔｅｐａｎ社製、商品名ゼレックＵＮ）０．１０重量部を、２０℃にて１時間かけて混合溶解させた。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。さらに、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）２３．４８重量部を加え、１５℃にて混合溶解させ、第１混合液を得た。得られた第１混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、触媒として本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で３０分間混合し、第２混合液を得た。得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０３５であった。
そして、第１混合液と第２混合液を、１５℃で混合し、均一溶液とした。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０３５であった。この混合溶液を４００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、２５℃〜１２０℃まで２１時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出した。モールド型からの成形体の離型性は良好であった。得られた成形体をさらに１３０℃で２時間アニール処理を行った。
成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は６１ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例６］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で１時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例５と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０１５であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０１５であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８１ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例７］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で２時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例５と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８３ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例８］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２７．８５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で２４時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例５と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は８４ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例９］
２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンと２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンとの混合物５０．６重量部、紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ５８３）１．５重量部、内部離型剤（酸性リン酸エステル、Ｓｔｅｐａｎ社製、商品名ゼレックＵＮ）０．１重量部を、２０℃にて２時間かけて混合溶解させた。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。さらに、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）２３．９重量部を加え、１５℃にて混合溶解させ、第１混合液を得た。得られた第１混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２５．５重量部と、触媒として本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０３５重量部とを２５℃で３０分間混合し、第２混合液を得た。得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０３５であった。
そして、第１混合液と第２混合液を、１５℃で混合し、均一溶液とした。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０３５であった。この混合溶液を４００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、２５℃〜１２０℃まで２１時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出した。モールド型からの成形体の離型性は良好であった。得られた成形体をさらに１３０℃で２時間アニール処理を行った。
成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は３４ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例１０］
４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタン２５．５重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０３５重量部とを２５℃で２時間混合し、第２混合液を得た以外は、実施例９と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は３９ｇであった。結果を表１に示す。

［比較例１］
ｍ−キシリレンジイソシアネート５０．７重量部、紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ５８３）１．５重量部、内部離型剤（酸性リン酸エステル、Ｓｔｅｐａｎ社製、商品名ゼレックＵＮ）０．１重量部を、２０℃にて２時間かけて混合溶解させ、第１混合液を得た。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０１であった。
５，７（または４，７または４，８）−ジメルカプトメチル−１，１１−メルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンの混合物であるポリチオール化合物４９．３重量部と、触媒として本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．００８重量部とを２５℃で３０分間混合し、第２混合液を得た。得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０６０であった。
そして、第１混合液と第２混合液を、１５℃で混合し、均一溶液とした。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０７０であった。この混合溶液を４００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、２５℃〜１２０℃まで２１時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出した。モールド型からの成形体の離型性は良好であった。得られた成形体をさらに１３０℃で２時間アニール処理を行った。
成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は２４ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例１１］
５，７（または４，７または４，８）−ジメルカプトメチル−１，１１−メルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンの混合物であるポリチオール化合物４９．３重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．００８重量部とを２５℃で２４時間混合し、第２混合液を得た以外は、比較例１と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０１であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は２７ｇであった。結果を表１に示す。

［比較例２］
２，５−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンと２，６−ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［２．２．１］ヘプタンとの混合物２６．１７重量部、ヘキサメチレンジイソシアネート１７．４６重量部、紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ５８３）１．５０重量部、内部離型剤（酸性リン酸エステル、Ｓｔｅｐａｎ社製、商品名ゼレックＵＮ）０．１０重量部を、２０℃にて１時間かけて混合溶解させ、第１混合液を得た。得られた第１混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。
ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネート）５６．３７重量部と、触媒として本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で３時間混合し、第２混合液を得た。得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．０６０であった。
そして、第１混合液と第２混合液を、１５℃で混合し、均一溶液とした。得られた混合液のヘイズを測定したところ０．０６０であった。この混合溶液を４００Ｐａにて１時間脱泡を行った後、１μｍＰＴＦＥ製フィルターでろ過を行い、ガラスモールドとテープからなるモールド型へ注入した。このモールド型を重合オーブンへ投入、２５℃〜１２０℃まで２１時間かけて徐々に昇温して重合した。重合終了後、オーブンからモールド型を取り出した。モールド型からの成形体の離型性は良好であった。得られた成形体をさらに１３０℃で２時間アニール処理を行った。
成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は６８ｇであった。結果を表１に示す。

［実施例１２］
ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネート）５６．３７重量部と、本荘ケミカル(株)のネスチンＰ（ロット５０６０７，ジメチル錫ジクロリド９９．８％とジブチル錫ジクロリド０．２％の混合物）０．０４重量部とを２５℃で２４時間混合し、第２混合液を得た以外は、比較例２と同様に行った。なお、得られた第２混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、第１混合液と第２混合液を混合して得られた混合液のヘイズを測定したところ０．００であった。また、得られた成形体に対し落球試験を行ったところ、破損しなかった重量の平均値は７４ｇであった。結果を表１に示す。

a1: 4-メルカプトメチル-1,8-ジメルカプト-3,6-ジチアオクタン
a2: ペンタエリスリトールテトラキス（3-メルカプトプロピオネート）
a3: 5,7（または4,7または4,8）-ジメルカプトメチル-1,11-メルカプト-3,6,9-トリチアウンデカンの混合物
b1: ジメチル錫ジクロリド99.8%とジブチル錫ジクロリド0.2%の混合物
c1: 2,5-ビス（イソシアナトメチル）-ビシクロ［2.2.1］ヘプタンと2,6-ビス（イソシアナトメチル）−ビシクロ［2.2.1］ヘプタンとの混合物
c2: ヘキサメチレンジイソシアネート
c3: m-キシリレンジイソシアネート
d1: 紫外線吸収剤（共同薬品社製、商品名バイオソーブ583）
e1: 内部離型剤（酸性リン酸エステル、Stepan社製、商品名ゼレックUN）

この出願は、２０１５年８月６日に出願された日本出願特願２０１５−１５５７１０号、及び２０１５年８月６日に出願された国際出願ＰＣＴ／ＪＰ２０１５／０７２３３２を基礎とする優先権を主張し、その開示の全てをここに取り込む。

Claims (15)

1. （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合し、ヘイズが０．０５以下の光学材料用重合性組成物を得る工程を含み、
   チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の製造方法；
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
2. （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物とを混合する工程と、
   （Ｃ）イソシアネート化合物と、前記工程により得られた混合液と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程と、
   を含み、
   チオール化合物（Ａ）およびスズ化合物（Ｂ）を含む前記混合液のヘイズが０．０５以下であり、チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の製造方法；
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
3. （Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合する工程と、
   前記工程により得られた混合液と、（Ａ）チオール化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程と、
   を含み、
   スズ化合物（Ｂ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）を含む前記混合液のヘイズが０．０５以下であり、チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物の製造方法；
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
4. （Ａ）チオール化合物と、
   （Ｂ）一般式（１）
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
   で表されるスズ化合物と、
   （Ｃ）イソシアネート化合物と、を含み、
   チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかであり、
   ヘイズが０．０５以下である光学材料用重合性組成物。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
5. （Ｃ）イソシアネート化合物と、
   ヘイズが０．０５以下である混合液と、を含み、
   前記混合液は、
   （Ａ）チオール化合物と、
   （Ｂ）一般式（１）
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
   で表されるスズ化合物と、を含み、
   チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
6. （Ａ）チオール化合物と、
   ヘイズが０．０５以下である混合液と、を含み、
   前記混合液は、
   （Ｂ）一般式（１）
   

   

   (一般式（１）中、Ｒ⁴は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ^５を示し、Ｒ^５は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)
   で表されるスズ化合物と、
   （Ｃ）イソシアネート化合物と、を含み、
   チオール化合物（Ａ）およびイソシアネート化合物（Ｃ）が以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである光学材料用重合性組成物。
   組み合わせ（１）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（２）：
   チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
   組み合わせ（３）：
   チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
   組み合わせ（４）：
   チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
   イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
7. レンズ注型用鋳型内に、請求項４〜６のいずれかに記載の光学材料用重合性組成物を注入する工程と、
   前記光学材料用重合性組成物を重合する工程と、
   前記工程により得られた樹脂を前記レンズ注型用鋳型から離型して成形体を得る工程と、を含む、プラスチックレンズの製造方法。
8. 請求項４〜６のいずれかに記載の光学材料用重合性組成物を硬化させてなる成形体。
9. 請求項８に記載の成形体からなる光学材料。
10. 請求項９に記載の光学材料からなるレンズ。
11. 請求項１０に記載のレンズからなる眼鏡レンズ。
12. 請求項１０に記載のレンズと、前記レンズの少なくとも一方の面上に形成されたハードコート層および／または反射防止コート層とを備える、眼鏡レンズ。
13. （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を調製する工程１と、
    前記光学材料用重合性組成物のヘイズを測定する工程２と、
    前記工程２において前記光学材料用重合性組成物のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記光学材料用重合性組成物を再混合して工程２に戻す工程３と、
    を含み、
    チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。
    

    

    (一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
    組み合わせ（１）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（２）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
    組み合わせ（３）：
    チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（４）：
    チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
14. （Ａ）チオール化合物と、（Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物とを混合し混合液を調製する工程ａと、
    前記混合液のヘイズを測定する工程ｂと、
    前記工程ｂにおいて前記混合液のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記混合液を再混合して工程ｂに戻す工程ｃと、
    ヘイズが０．０５以下の前記混合液と（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程ｄと、を含み、
    チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。
    

    

    (一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
    組み合わせ（１）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（２）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
    組み合わせ（３）：
    チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（４）：
    チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
15. （Ｂ）一般式（１）で表されるスズ化合物と、（Ｃ）イソシアネート化合物と、を混合して混合液を調製する工程ｉと、
    前記混合液のヘイズを測定する工程iiと、
    前記工程iiにおいて前記混合液のヘイズが０．０５以下の場合は混合状態が良好と判断し、前記ヘイズが０．０５を超える場合は混合状態が不良と判断して、前記混合液を再混合して工程iiに戻す工程iiiと、
    ヘイズが０．０５以下の前記混合液と（Ａ）チオール化合物と、を混合して光学材料用重合性組成物を得る工程ivと、を含み、
    チオール化合物（Ａ）とイソシアネート化合物（Ｃ）が、以下の組み合わせ（１）〜（４）のいずれかである、光学材料用重合性組成物の混合状態管理方法。
    

    

    (一般式（１）中、Ｒ ⁴ は炭素数１〜８のアルキル基を示し、Ｘはフッ素原子、塩素原子、臭素原子または−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ ^５ を示し、Ｒ ^５ は炭素数１〜１１のアルキル基を示し、ｃは１〜３の整数を示す。)。
    組み合わせ（１）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（２）：
    チオール化合物（Ａ）は、４−メルカプトメチル−１，８−ジメルカプト−３，６−ジチアオクタンおよびペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンを含む。
    組み合わせ（３）：
    チオール化合物（Ａ）は、５，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、４，７−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカン、および４，８−ジメルカプトメチル−１，１１−ジメルカプト−３，６，９−トリチアウンデカンを含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、ｍ−キシリレンジイソシアネートを含む。
    組み合わせ（４）：
    チオール化合物（Ａ）は、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）を含み、
    イソシアネート化合物（Ｃ）は、２，５−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタン、２，６−ビス（イソシアナトメチル）ビシクロ−［２．２．１］−ヘプタンおよび１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを含む。