KR102082059B1 - 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료용 중합성 조성물 - Google Patents

광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료용 중합성 조성물 Download PDF

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Abstract

본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은, (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물을 혼합하는 공정을 포함하고, 상기 공정에서 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈가 0.05 이하인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.

Description

광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료용 중합성 조성물
본 발명은 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료용 중합성 조성물에 관한 것이다.
플라스틱 렌즈는, 무기 렌즈에 비하여 고굴절률, 고아베수이고, 경량이며 깨지기 어렵고, 염색이 가능하기 때문에 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 광학 재료에 급속하게 보급되고 있다.
특히 안경 렌즈는 그의 용도로부터, (1) 고굴절률일 것, (2) 저분산(고아베수)일 것과 같은 광학적 성능에 더해, (3) 내열성이 우수할 것, (4) 내충격성이 우수할 것, (5) 염색이 용이할 것, (6) 절삭 가공 등의 가공성이 우수할 것 등 많은 기능이 요구되고 있으며, 지금까지도 다양한 렌즈용 수지 소재가 개발되어 사용되고 있다.
그 중에서도 대표적인 예로서, 폴리티오우레탄계 수지를 들 수 있고, 소정의 단량체로 이루어지는 중합성 조성물이 개시되어 있다(특허문헌 1 내지 4).
일본 특허 공개 (평)2-270859호 공보 일본 특허 공개 (평)3-124722호 공보 일본 특허 공개 (평)7-252207호 공보 국제 공개 제2007/020817호 팸플릿
그러나, 이들 특허문헌에 기재된 폴리티오우레탄계 수지로 이루어지는 성형체는, 내충격성에 있어서 개선의 여지가 있었다. 또한, 내충격성이 개선된 중합성 조성물을 알아냈다고 해도, 중합성 조성물을 공업적으로 다량으로 조제하고, 플라스틱 안경 렌즈를 공업적으로 복수 제조한 경우, 내충격성이 안정적으로 발현되지 않는 경우가 있어, 그 결과, 플라스틱 안경 렌즈의 제품 수율이 저하되는 등의 과제가 있었다.
본 발명자들은, 상기한 과제를 해결하기 위하여 예의 검토한 결과, 중합성 조성물을 조제할 때에 있어서의 단량체 성분과 촉매의 혼합액이나 중합성 조성물 자체의 소정의 물성값과 수지 성형체의 내충격성 사이에 관계가 있음을 알아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
본 발명은 이하에 나타낼 수 있다.
[1] (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
Figure 112018005981433-pct00001
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
[2] (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물을 혼합하는 공정과,
(C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물과, 상기 공정에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정
을 포함하고,
(A) 성분 및 (B) 성분을 포함하는 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
Figure 112018005981433-pct00002
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
[3] (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물을 혼합하는 공정과,
상기 공정에 의해 얻어진 혼합액과, (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정
을 포함하고,
(B) 성분 및 (C) 성분을 포함하는 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
Figure 112018005981433-pct00003
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
[4] 이소시아네이트 화합물 (C)가, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,5-펜타메틸렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[5] 티올 화합물 (A)가, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스머캅토메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트)로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법.
[6] (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과,
(B) 일반식 (1)
Figure 112018005981433-pct00004
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
로 표현되는 주석 화합물과,
(C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물을 포함하고,
헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물.
[7] (C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물과,
헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 포함하고,
상기 혼합액은,
(A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과,
(B) 일반식 (1)
Figure 112018005981433-pct00005
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
로 표현되는 주석 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
[8] (A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물과,
헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 포함하고,
상기 혼합액은,
(B) 일반식 (1)
Figure 112018005981433-pct00006
(일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
로 표현되는 주석 화합물과,
(C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물.
[9] 이소시아네이트 화합물 (C)가, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,5-펜타메틸렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [6] 내지 [8] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[10] 이소시아네이트 화합물 (C)가, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [9]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[11] 티올 화합물 (A)가, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스머캅토메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트) 및 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트)로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [6] 내지 [10] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[12] 티올 화합물 (A)가, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는, [11]에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물.
[13] 렌즈 주형용(注型用) 주형(鑄型) 내에, [6] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주입하는 공정과,
상기 광학 재료용 중합성 조성물을 중합하는 공정과,
상기 공정에 의해 얻어진 수지를 상기 렌즈 주형용 주형으로부터 이형하여 성형체를 얻는 공정을 포함하는, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
[14] [6] 내지 [12] 중 어느 하나에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 성형체.
[15] [14]에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
[16] [15]에 기재된 광학 재료로 이루어지는 렌즈.
[17] [16]에 기재된 렌즈로 이루어지는 안경 렌즈.
[18] [16]에 기재된 렌즈와, 상기 렌즈의 적어도 한쪽의 면 위에 형성된 하드 코팅층 및/또는 반사 방지 코팅층을 구비하는, 안경 렌즈.
[19] [1] 내지 [5] 중 어느 하나에 기재된 제조 방법에 있어서의 공정을 포함하는, 광학 재료용 중합성 조성물의 혼합 상태 관리 방법.
본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법에 의하면, 단량체 성분과 촉매인 주석 화합물과의 혼합액이나 중합성 조성물 자체의 헤이즈를 관리함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 얻는 것이 가능한 광학 재료용 중합성 조성물을 제공할 수 있다. 특히, 대규모 생산에 있어서, 내충격성이 우수한 성형체의 원료가 되는 중합성 조성물을 안정되게 얻을 수 있어, 제조 안정성이 우수한 중합성 조성물의 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물은 소정의 헤이즈를 갖고 있는 점에서, 내충격성이 우수한 성형체를 안정적으로 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율이 향상된다.
이하, 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법 및 광학 재료용 중합성 조성물을, 제1 내지 제3 실시 형태에 의해 설명한다. 또한, 본 발명의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은, 광학 재료용 중합성 조성물의 혼합 상태 관리 방법이라고 표현할 수도 있다.
<제1 실시 형태>
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은,
(A) 머캅토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 티올 화합물(이하, 티올 화합물 (A))과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물(이하, 주석 화합물 (B))과, (C) 이소시아나토기를 2개 이상 갖는 1종 이상의 이소시아네이트 화합물(이하, 이소시아네이트 화합물 (C))을 혼합하는 공정을 포함한다. 그리고, 당해 공정에 있어서, 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈를 0.05 이하로 할 수 있다.
당해 제조 방법으로서는, 구체적으로는, 이하에 나타내는 바와 같은, 공정 a1 및 공정 a2를 포함하는 제조 방법 a, 또는 공정 b1 및 공정 b2를 포함하는 제조 방법 b를 들 수 있다.
제조 방법 a
공정 a1: 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)를 혼합한다.
공정 a2: 이소시아네이트 화합물 (C)와, 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
제조 방법 b
공정 b1: 이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)를 혼합한다.
공정 b2: 티올 화합물 (A)와, 공정 b1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
먼저, 제조 방법 a에 대하여 설명한다.
(제조 방법 a)
제조 방법 a는 하기의 공정을 포함한다.
공정 a1: 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)를 혼합한다.
공정 a2: 이소시아네이트 화합물 (C)와, 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
[공정 a1]
먼저, 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)의 혼합액을 얻는다.
(티올 화합물 (A))
티올 화합물 (A)는, 분자 내에 2 이상의 머캅토기를 갖는 화합물이며, 예를 들어 지방족 티올 화합물, 방향족 티올 화합물 등을 들 수 있다.
지방족 티올 화합물로서는, 예를 들어 메탄디티올, 1,2-에탄디티올, 1,2-프로판디티올, 1,3-프로판디티올, 1,4-부탄디티올, 1,5-펜탄디티올, 1,6-헥산디티올, 1,2-시클로헥산디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메틸시클로헥산-2,3-디티올, 1,2-디머캅토프로필메틸에테르, 2,3-디머캅토프로필메틸에테르, 비스(2-머캅토에틸)에테르, 테트라키스(머캅토메틸)메탄, 비스(머캅토메틸)술피드, 비스(머캅토메틸)디술피드, 비스(머캅토에틸)술피드, 비스(머캅토에틸)디술피드, 비스(머캅토메틸티오)메탄, 비스(2-머캅토에틸티오)메탄, 1,2-비스(머캅토메틸티오)에탄, 1,2-비스(2-머캅토에틸티오)에탄, 1,3-비스(머캅토메틸티오)프로판, 1,3-비스(2-머캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(머캅토메틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(2-머캅토에틸티오)프로판, 1,2,3-트리스(3-머캅토프로필티오)프로판, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 테트라키스(머캅토메틸티오메틸)메탄, 테트라키스(2-머캅토에틸티오메틸)메탄, 비스(2,3-디머캅토프로필)술피드, 2,5-비스머캅토메틸-1,4-디티안, 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 2,3-디머캅토-1-프로판올(3-머캅토프로피오네이트), 3-머캅토-1,2-프로판디올비스(2-머캅토아세테이트), 3-머캅토-1,2-프로판디올디(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 디트리메틸올프로판테트라키스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 디트리메틸올프로판테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올에탄트리스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올에탄트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 디펜타에리트리톨헥사(2-머캅토아세테이트), 펜타에리트리톨디(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사(3-머캅토프로피오네이트), 글리세린디(2-머캅토아세테이트), 글리세린트리스(2-머캅토아세테이트), 글리세린디(3-머캅토프로피오네이트), 글리세린트리스(3-머캅토프로피오네이트), 1,4-시클로헥산디올비스(2-머캅토아세테이트), 1,4-시클로헥산디올비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시메틸술피드비스(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸술피드비스(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시에틸술피드(2-머캅토아세테이트), 히드록시에틸술피드(3-머캅토프로피오네이트), 히드록시메틸디술피드(2-머캅토아세테이트), 히드록시메틸디술피드(3-머캅토프로피오네이트), 티오글리콜산비스(2-머캅토에틸에스테르), 티오디프로피온산비스(2-머캅토에틸에스테르), N,N', N"-트리스(β-머캅토프로필카르보닐옥시에틸)이소시아누레이트 등을 들 수 있다.
방향족 티올 화합물로서는, 예를 들어 1,2-디머캅토벤젠, 1,3-디머캅토벤젠, 1,4-디머캅토벤젠, 1,2-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토메틸)벤젠, 1,2-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,4-비스(머캅토에틸)벤젠, 1,2,3-트리머캅토벤젠, 1,2,4-트리머캅토벤젠, 1,3,5-트리머캅토벤젠, 1,2,3-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,2,4-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토메틸)벤젠, 1,2,3-트리스(머캅토에틸)벤젠, 1,3,5-트리스(머캅토에틸)벤젠, 1,2,4-트리스(머캅토에틸)벤젠, 2,5-톨루엔디티올, 3,4-톨루엔디티올, 1,4-나프탈렌디티올, 1,5-나프탈렌디티올, 2,6-나프탈렌디티올, 2,7-나프탈렌디티올, 1,2,3,4-테트라머캅토벤젠, 1,2,3,5-테트라머캅토벤젠, 1,2,4,5-테트라머캅토벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(머캅토메틸)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(머캅토메틸)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(머캅토메틸)벤젠, 1,2,3,4-테트라키스(머캅토에틸)벤젠, 1,2,3,5-테트라키스(머캅토에틸)벤젠, 1,2,4,5-테트라키스(머캅토에틸)벤젠, 2,2'-디머캅토비페닐, 4,4'-디머캅토비페닐 등을 들 수 있다.
이들 예시 화합물 중 지방족 티올 화합물이 바람직하고, 그 중에서도
4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스머캅토메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트)로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물이 보다 바람직하고,
펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄, 2,5-비스머캅토메틸-1,4-디티안, 1,1,3,3-테트라키스(머캅토메틸티오)프로판, 4,6-비스(머캅토메틸티오)-1,3-디티안, 2-(2,2-비스(머캅토메틸티오)에틸)-1,3-디티에탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물이 더욱 바람직하고,
펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물이 특히 바람직하다.
(주석 화합물 (B))
주석 화합물 (B)는, 하기 일반식 (1)로 표현할 수 있다.
Figure 112018005981433-pct00007
일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, 바람직하게는 탄소수 1 내지 4의 알킬기이다. X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, 바람직하게는 염소 원자이다. R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다.
주석 화합물 (B)로서는, 디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디옥틸주석디클로라이드 등의 디알킬주석할로겐화물류, 디메틸주석디아세테이트, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥타노에이트, 디부틸주석디라우레이트, 디옥틸주석디라우레이트 등의 디알킬주석디카르복실레이트류를 들 수 있다.
이들 중 실온에서 고체인 것으로서는, 디메틸주석디클로라이드, 디부틸주석디클로라이드, 디옥틸주석디클로라이드, 디메틸주석디아세테이트, 디부틸주석디아세테이트, 디부틸주석디옥타노에이트를 들 수 있고, 실온에서 액체인 것으로서 디부틸주석디라우레이트 등을 들 수 있다. 본 실시 형태에 있어서, 실온에서 액체인 주석 화합물 (B)를 사용한 경우에, 얻어지는 수지 성형체의 내충격성이 보다 향상되는 경향이 있다.
디알킬주석할로겐화물류에는, 모노알킬주석할로겐화물류, 트리알킬주석할로겐화물류를 포함하고 있어도 된다. 디알킬주석디카르복실레이트류에는, 모노알킬주석트리카르복실레이트화물류, 트리알킬주석카르복실레이트화물류를 포함하고 있어도 된다.
이들 중에서도, 디알킬주석할로겐화물류가 바람직하고, C1 내지 C8의 탄소수의 알킬기를 갖는 디알킬주석할로겐화물류가 더욱 바람직하고, C1 내지 C4의 탄소수의 알킬기를 갖는 디알킬주석할로겐화물류가 특히 바람직하다. 구체적으로는, 디부틸주석디클로라이드, 디메틸주석디클로라이드이다.
주석 화합물 (B)는, 티올 화합물 (A) 100중량부에 대하여 0.018 내지 1.080중량부, 바람직하게는 0.035 내지 0.750중량부, 보다 바람직하게는 0.050 내지 0.400중량부로 사용할 수 있다.
주석 화합물 (B)와 티올 화합물 (A)의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
[공정 a2]
계속하여, 이소시아네이트 화합물 (C)와, 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
(이소시아네이트 화합물 (C))
이소시아네이트 화합물 (C)는, 분자 내에 2 이상의 이소시아나토기를 갖는 화합물이며, 예를 들어 지환족 이소시아네이트, 지방족 이소시아네이트, 방향족 이소시아네이트, 복소환 이소시아네이트 등을 들 수 있다. 이소시아네이트 화합물 (C)는, 이들의 이량체, 삼량체, 뷰렛체 및 예비중합체를 포함할 수 있다.
지환족 이소시아네이트로서는, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 시클로헥산디이소시아네이트, 메틸시클로헥산디이소시아네이트, 디시클로헥실디메틸메탄이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 3,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 3,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,8-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸, 4,9-비스(이소시아나토메틸)트리시클로데칸 등을 들 수 있고, 적어도 1종을 사용할 수 있다.
지방족 이소시아네이트로서는, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,4,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,5-펜타메틸렌디이소시아네이트, 리신디이소시아나토메틸에스테르, 리신트리이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, α,α,α',α'-테트라메틸크실릴렌디이소시아네이트, 비스(이소시아나토메틸)나프탈렌, 1,3,5-트리스(이소시아나토메틸)벤젠, 비스(이소시아나토메틸)술피드, 비스(이소시아나토에틸)술피드, 비스(이소시아나토메틸)디술피드, 비스(이소시아나토에틸)디술피드, 비스(이소시아나토메틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)메탄, 비스(이소시아나토에틸티오)에탄, 비스(이소시아나토메틸티오)에탄 등을 들 수 있다.
방향족 이소시아네이트로서는, 톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트 등을 들 수 있고, 톨릴렌디이소시아네이트는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 이소시아네이트이다. 톨릴렌디이소시아네이트로서는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 또는 2,4-톨릴렌디이소시아네이트와 2,6-톨릴렌디이소시아네이트의 혼합물 등을 들 수 있다.
복소환 이소시아네이트로서는, 2,5-디이소시아나토티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)티오펜, 2,5-디이소시아나토테트라히드로티오펜, 2,5-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 3,4-비스(이소시아나토메틸)테트라히드로티오펜, 2,5-디이소시아나토-1,4-디티안, 2,5-비스(이소시아나토메틸)-1,4-디티안, 4,5-디이소시아나토-1,3-디티올란, 4,5-비스(이소시아나토메틸)-1,3-디티올란 등을 들 수 있다.
이소시아네이트 화합물 (C)로서는, 2,4-톨릴렌디이소시아네이트, 2,6-톨릴렌디이소시아네이트, 4,4'-디페닐메탄디이소시아네이트, 1,3-페닐렌디이소시아네이트, 1,4-페닐렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,5-펜타메틸렌디이소시아네이트, m-크실릴렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는 것이 바람직하고,
1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물을 포함하는 것이 더욱 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서는, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 및 m-크실릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 환상 구조를 갖는 이소시아네이트 화합물과, 환상 구조를 갖지 않는 탄소수 4 내지 11의 지방족 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것이 바람직하다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 1종 이상의 환상 구조를 갖는 이소시아네이트 화합물과, 환상 구조를 갖지 않는 탄소수 4 내지 11의 지방족 이소시아네이트 화합물을 병용하는 것이 보다 바람직하다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 및 m-크실릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트의 조합, 티올 화합물 (A)로서 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트의 조합, 티올 화합물 (A)로서 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 포함하는 것이 보다 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서는, 티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)는, 이하의 조합 (1) 내지 (4)로 하는 것이 바람직하고, 조합 (1) 및 (2)가 보다 바람직하고, 조합 (1)이 특히 바람직하다.
·조합 (1)
티올 화합물 (A): 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)
이소시아네이트 화합물 (C): 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물, 및 헥사메틸렌디이소시아네이트
·조합 (2)
티올 화합물 (A): 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)
이소시아네이트 화합물 (C): 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물
·조합 (3)
티올 화합물 (A): 5,7(또는 4,7 또는 4,8)-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물
이소시아네이트 화합물 (C): 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물
·조합 (4)
티올 화합물 (A): 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)
이소시아네이트 화합물 (C): 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물, 및 헥사메틸렌디이소시아네이트
또한, 공정 a2에 있어서, 공정 a1에서 사용한 티올 화합물 (A)와 동일하거나 또는 상이한 티올 화합물 (D)를 별도 첨가해도 된다. 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액과 티올 화합물 (D)를 혼합한 후에 이소시아네이트 화합물 (C)를 혼합할 수 있거나, 이소시아네이트 화합물 (C)와 티올 화합물 (D)의 혼합액을 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액에 첨가할 수 있거나, 혹은 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액과 이소시아네이트 화합물 (C)를 혼합한 후에 티올 화합물 (D)를 첨가할 수도 있다.
티올 화합물 (D)로서는, 티올 화합물 (A)와 동일하게 분자 내에 2 이상의 머캅토기를 갖는 화합물이며, 예를 들어 지방족 티올 화합물, 방향족 티올 화합물 등을 들 수 있다. 구체적인 화합물로서는, 공정 a1의 설명에서 열기한 대로이다.
티올 화합물 (D)로서는, 분자 내에 적어도 하나 이상의 에스테르 결합을 갖는 지방족 폴리티올 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 분자 내에 에스테르 결합을 갖는 지방족 폴리티올 화합물로서는, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨디(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨헥사(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨펜타(3-머캅토프로피오네이트), 디펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트), 펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-머캅토프로피오네이트), 트리메틸올프로판트리스(2-머캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 디에틸렌글리콜비스(3-머캅토프로피오네이트), 에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트), 디에틸렌글리콜비스(2-머캅토아세테이트)가 바람직하고, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 및 펜타에리트리톨트리스(3-머캅토프로피오네이트)가 보다 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서, 이소시아네이트 화합물 (C)에 있어서의 이소시아나토기의 합계량에 대한, 티올 화합물 (A) 및 티올 화합물 (D)에 있어서의 머캅토기의 합계량의 몰 비율은 0.8 내지 1.2의 범위 내이며, 바람직하게는 0.85 내지 1.15의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1의 범위 내이다. 상기 범위 내에서, 광학 재료, 특히 안경용 플라스틱 렌즈 재료로서 적합하게 사용되는 성형체를 얻을 수 있다.
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물에는, 얻어지는 성형체의 광학 물성, 내충격성, 비중 등의 여러 물성의 조절 및 중합성 조성물의 각 성분의 취급성의 조정을 목적으로, 개질제를 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서 첨가할 수 있다.
개질제로서는, 예를 들어 에피술피드 화합물, 알코올 화합물, 아민 화합물, 에폭시 화합물, 유기산 및 그의 무수물, (메트)아크릴레이트 화합물 등을 포함하는 올레핀 화합물 등을 들 수 있다. 수산기를 포함하지 않는 경우는, 렌즈 중합 시의 불균일의 발생, 염색성의 관점에서 바람직하다.
본 실시 형태에 있어서, 광학 재료용 중합성 조성물에는, 목적에 따라 공지의 성형법과 동일하게, 내부 이형제, 쇄연장제, 가교제, 광 안정제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 착색 방지제, 유용 염료, 충전제, 밀착성 향상제 등의 다양한 첨가제를 첨가해도 된다.
내부 이형제로서는, 산성 인산에스테르를 사용할 수 있다. 산성 인산에스테르로서는, 인산모노에스테르, 인산디에스테르를 들 수 있고, 각각 단독 또는 2종류 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 화합물 (A), 화합물 (B) 및 화합물 (C), 또한 필요에 따라, 화합물 (D) 및 기타 첨가제를 포함한다.
공정 a2에 있어서, 공정 a1에 의해 얻어진 혼합액, 이소시아네이트 화합물 (C), 필요에 따라 티올 화합물 (D), 또한 기타 첨가제를 혼합하여 중합성 조성물을 조제하는 경우의 온도는 통상 25℃ 이하에서 행하여진다. 중합성 조성물의 가용 시간의 관점에서, 더욱 저온으로 하면 바람직한 경우가 있다. 단, 내부 이형제, 첨가제의 중합성 조성물 등에 대한 용해성이 양호하지 않은 경우는, 미리 가온하여, 중합성 조성물, 개질제 등에 용해시키는 것도 가능하다.
얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다.
광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈를 지표로서 관리함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 안정되게 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율이 향상된다. 특히, 대규모 생산에 있어서, 내충격성이 우수한 성형체의 원료가 되는 중합성 조성물을 안정되게 얻을 수 있어, 제조 안정성이 우수한 중합성 조성물의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 사용함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.
또한, 중합성 조성물의 헤이즈가 상기 범위를 초과하는 경우는, 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다. 헤이즈에 영향을 주는 원인 물질은 명확하지는 않지만, 티올 화합물 (A) 및/또는 주석 화합물 (B) 유래의 극미량의 불순물의 존재가 상정된다. 당해 조작에 의해, 중합성 조성물의 불순물의 양을 저감시킬 수 있어, 결과적으로 헤이즈가 내려간다고 생각된다.
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는 여과에 의해 저감시키는 것이 곤란하여, 여과 공정 전에 있어서 상기 범위 내에 포함된다. 여과 공정으로서는, 예를 들어 1㎛ PTFE제 필터로 여과하는 공정 등을 들 수 있다.
중합성 조성물의 헤이즈가 소정값 이하가 된 경우에는, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물로서 사용할 수 있다.
(제조 방법 b)
제조 방법 b는 하기의 공정을 포함한다.
공정 b1: 이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)를 혼합한다.
공정 b2: 티올 화합물 (A)와, 공정 b1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
[공정 b1]
이소시아네이트 화합물 (C) 및 주석 화합물 (B)는, 제조 방법 a와 동일한 화합물을 사용할 수 있다.
주석 화합물 (B)는, 이소시아네이트 화합물 (C) 100중량부에 대하여 0.010 내지 0.620중량부, 바람직하게는 0.020 내지 0.430중량부, 보다 바람직하게는 0.030 내지 0.230중량부로 사용할 수 있다.
이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
[공정 b2]
본 공정에 있어서는, 티올 화합물 (A)와, 공정 b1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
티올 화합물 (A)는, 제조 방법 a와 동일한 화합물을 사용할 수 있고, 또한 티올 화합물 (D)를 포함하여 티올 화합물 (A)로서 사용할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물에는, 공정 a2에 기재된 그 밖의 성분을 첨가할 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 및 m-크실릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 조합, 티올 화합물 (A)로서 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄을 포함하는 것이 바람직하다.
티올 화합물 (A)와, 공정 b1에 의해 얻어진 혼합액의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다.
광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈를 지표로서 관리함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 안정되게 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율이 향상된다. 특히, 대규모 생산에 있어서, 내충격성이 우수한 성형체의 원료가 되는 중합성 조성물을 안정되게 얻을 수 있어, 제조 안정성이 우수한 중합성 조성물의 제조 방법을 제공할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 사용함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율을 향상시킬 수 있다.
또한, 중합성 조성물의 헤이즈가 상기 범위를 초과하는 경우는, 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다. 헤이즈에 영향을 주는 원인 물질은 명확하지는 않지만, 티올 화합물 (A) 및/또는 주석 화합물 (B) 유래의 극미량의 불순물의 존재가 상정된다. 당해 조작에 의해, 중합성 조성물의 불순물의 양을 저감시킬 수 있어, 결과적으로 헤이즈가 내려간다고 생각된다.
또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는 여과에 의해 저감시키는 것이 곤란하여, 여과 공정 전에 있어서 상기 범위 내에 포함된다. 여과 공정으로서는, 예를 들어 1㎛ PTFE제 필터로 여과하는 공정 등을 들 수 있다.
중합성 조성물의 헤이즈가 소정값 이하가 된 경우에는, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물로서 사용할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 이소시아네이트 화합물 (C)에 있어서의 이소시아나토기의 합계량에 대한, 티올 화합물 (A)에 있어서의 머캅토기의 합계량의 몰 비율은 0.8 내지 1.2의 범위 내이며, 바람직하게는 0.85 내지 1.15의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1의 범위 내이다. 상기 범위 내에서, 광학 재료, 특히 안경용 플라스틱 렌즈 재료로서 적합하게 사용되는 성형체를 얻을 수 있다.
<제2 실시 형태>
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은 이하의 공정을 포함한다.
공정 c1: 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)를 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 얻는다.
공정 c2: 이소시아네이트 화합물 (C)와, 공정 c1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
[공정 c1]
먼저, 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)의 혼합액을 얻는다. 공정 c1은, 제1 실시 형태에 있어서의 제조 방법 a의 공정 a1과 동일하게 실시할 수 있다.
또한, 티올 화합물 (A) 및 주석 화합물 (B)는, 제1 실시 형태의 제조 방법 a와 동일한 화합물을 사용할 수 있다.
주석 화합물 (B)는, 티올 화합물 (A) 100중량부에 대하여, 0.018 내지 1.080중량부, 바람직하게는 0.035 내지 0.750중량부, 보다 바람직하게는 0.050 내지 0.400중량부로 사용할 수 있다.
주석 화합물 (B)와 티올 화합물 (A)의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
얻어진 혼합액의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다. 헤이즈가 당해 범위에 있는 혼합액은, 공정 c2에 사용할 수 있다. 또한, 공정 c2에 있어서 당해 혼합액에 첨가되는, 이소시아네이트 화합물 (C) 또는 이소시아네이트 화합물 (C)에 그 밖의 성분을 용해시킨 용액의 헤이즈는 거의 0이며, 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈에 큰 영향을 미치지 않는 점에서, 당해 혼합액의 헤이즈를 관리하는 것이 중요해진다.
당해 혼합물의 헤이즈를 지표로서 관리함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 안정되게 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율이 향상된다. 특히, 대규모 생산에 있어서, 내충격성이 우수한 성형체의 원료가 되는 중합성 조성물을 안정되게 얻을 수 있어, 제조 안정성이 우수한 중합성 조성물의 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 혼합액의 헤이즈가 상기 범위를 초과하는 경우는, 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다. 헤이즈에 영향을 주는 원인 물질은 명확하지는 않지만, 티올 화합물 (A) 및/또는 주석 화합물 (B) 유래의 극미량의 불순물의 존재가 상정된다. 당해 조작에 의해, 혼합액의 불순물의 양을 저감시킬 수 있어, 결과적으로 헤이즈가 내려간다고 생각된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, 혼합액의 헤이즈는 여과에 의해 상기 범위 내로 저감하는 것이 곤란하다. 여과로서는, 예를 들어 1㎛ PTFE제 필터를 사용한 여과 등을 들 수 있다.
혼합액의 헤이즈가 소정값 이하가 된 경우에는, 그 혼합액을 공정 c2에 사용할 수 있다.
[공정 c2]
공정 c1에 의해 얻어진 혼합액과, 이소시아네이트 화합물 (C)를 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 조제한다. 공정 c2는 제1 실시 형태에 있어서의 제조 방법 a의 공정 a2와 동일하게 실시할 수 있다. 이소시아네이트 화합물 (C)는, 제1 실시 형태의 제조 방법 a와 동일한 화합물을 들 수 있다. 또한, 티올 화합물 (D)를 사용할 수 있고, 제1 실시 형태의 제조 방법 a와 동일한 화합물을 들 수 있다.
공정 c1에 의해 얻어진 혼합액과, 이소시아네이트 화합물 (C)의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
또한, 이소시아네이트 화합물 (C) 또는 이소시아네이트 화합물 (C)에 그 밖의 성분을 용해시킨 용액의 헤이즈는 거의 0이며, 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈에 큰 영향을 미치는 것은 아니지만, 본 공정의 결과, 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈가 상기 범위를 초과한 경우에는, 더 혼합하여 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다.
즉, 본 실시 형태에 있어서의 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 이소시아네이트 화합물 (C)에 있어서의 이소시아나토기의 합계량에 대한, 티올 화합물 (A) 및 티올 화합물 (D)에 있어서의 머캅토기의 합계량의 몰 비율은 0.8 내지 1.2의 범위 내이며, 바람직하게는 0.85 내지 1.15의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1의 범위 내이다. 상기 범위 내에서, 광학 재료, 특히 안경용 플라스틱 렌즈 재료로서 적합하게 사용되는 성형체를 얻을 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 및 m-크실릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 조합, 티올 화합물 (A)로서 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄을 포함하는 것이 바람직하고, 또한 티올 화합물 (D)를 첨가하는 경우는, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 사용하는 것이 바람직하다.
<제3 실시 형태>
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법은 이하의 공정을 포함한다.
공정 d1: 이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)를 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 얻는다.
공정 d2: 티올 화합물 (A)와, 공정 d1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
이하, 각 공정에 대하여 설명한다.
[공정 d1]
먼저, 이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)의 혼합액을 얻는다. 공정 d1은, 제1 실시 형태에 있어서의 제조 방법 b의 공정 b1과 동일하게 행할 수 있다.
이소시아네이트 화합물 (C) 및 주석 화합물 (B)는, 제1 실시 형태의 제조 방법 a와 동일한 화합물을 들 수 있다.
주석 화합물 (B)는, 이소시아네이트 화합물 (C) 100중량부에 대하여 0.010 내지 0.620중량부, 바람직하게는 0.020 내지 0.430중량부, 보다 바람직하게는 0.030 내지 0.230중량부로 사용할 수 있다.
이소시아네이트 화합물 (C)와 주석 화합물 (B)의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
얻어진 혼합액의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다. 헤이즈가 당해 범위에 있는 혼합액은, 공정 d2에 사용할 수 있다. 또한, 공정 d2에 있어서 당해 혼합액에 첨가되는, 티올 화합물 (A) 또는 티올 화합물 (A)에 그 밖의 성분을 용해시킨 용액의 헤이즈는 거의 0이며, 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈에 큰 영향을 미치지 않는 점에서, 당해 혼합액의 헤이즈를 관리하는 것이 중요해진다.
당해 혼합물의 헤이즈를 지표로서 관리함으로써, 내충격성이 우수한 성형체를 안정되게 얻을 수 있어, 광학 재료 등의 제품의 수율이 향상된다. 특히, 대규모 생산에 있어서, 내충격성이 우수한 성형체의 원료가 되는 중합성 조성물을 안정되게 얻을 수 있어, 제조 안정성이 우수한 중합성 조성물의 제조 방법을 제공할 수 있다.
또한, 혼합액의 헤이즈가 상기 범위를 초과하는 경우는, 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다. 헤이즈에 영향을 주는 원인 물질은 명확하지는 않지만, 극미량의 불순물의 존재가 상정된다. 당해 조작에 의해, 혼합액의 불순물의 양을 저감시킬 수 있어, 결과적으로 헤이즈가 내려간다고 생각된다. 또한, 본 실시 형태에 있어서, 혼합액의 헤이즈는 여과에 의해 상기 범위 내로 저감하는 것이 곤란하다. 여과로서는, 예를 들어 1㎛ PTFE제 필터를 사용한 여과 등을 들 수 있다.
혼합액의 헤이즈가 소정값 이하가 된 경우에는, 그 혼합액을 공정 d2에 사용할 수 있다.
[공정 d2]
본 공정에 있어서는, 티올 화합물 (A)와, 공정 d1에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는다.
티올 화합물 (A)는, 제1 실시 형태에 있어서의 제조 방법 a와 동일한 화합물을 사용할 수 있고, 또한 티올 화합물 (D)를 포함하여 티올 화합물 (A)로서 사용할 수 있다. 또한, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물에는, 제1 실시 형태에 있어서의 제조 방법 a의 공정 a2에 기재된 그 밖의 성분을 첨가할 수 있다.
티올 화합물 (A)와, 공정 d1에 의해 얻어진 혼합액의 혼합 조건은 특별히 한정되지 않지만, 실온(25℃)에 있어서, 건조 공기하 또는 불활성 가스 분위기하에서 행할 수 있다.
또한, 티올 화합물 (A) 또는 티올 화합물 (A)에 그 밖의 성분을 용해시킨 용액의 헤이즈는 거의 0이며, 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈에 큰 영향을 미치는 것은 아니지만, 본 공정의 결과, 얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈가 상기 범위를 초과한 경우에는, 더 혼합하여 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다.
즉, 본 실시 형태에 있어서의 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다.
본 실시 형태에 있어서, 이소시아네이트 화합물 (C)에 있어서의 이소시아나토기의 합계량에 대한, 티올 화합물 (A)에 있어서의 머캅토기의 합계량의 몰 비율은 0.8 내지 1.2의 범위 내이며, 바람직하게는 0.85 내지 1.15의 범위 내이며, 더욱 바람직하게는 0.9 내지 1.1의 범위 내이다. 상기 범위 내에서, 광학 재료, 특히 안경용 플라스틱 렌즈 재료로서 적합하게 사용되는 성형체를 얻을 수 있다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 이소시아네이트 화합물 (C)로서, 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 1,3-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(이소시아나토메틸)시클로헥산 및 m-크실릴렌디이소시아네이트로부터 선택되는 1종 이상의 화합물과, 헥사메틸렌디이소시아네이트의 조합, 티올 화합물 (A)로서 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 및 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄을 포함하는 것이 바람직하다.
<성형체 및 용도>
본 실시 형태에 있어서, 폴리티오우레탄 수지로 이루어지는 성형체의 제조 방법은 특별히 한정되지 않지만, 바람직한 제조 방법으로서 주형 중합을 들 수 있다. 주형 중합의 예로서, 2개의 성형 몰드가 개스킷 또는 테이프 등으로 유지된 주형용 주형 내에 중합성 조성물을 주입한다. 이때, 얻어지는 플라스틱 렌즈에 요구되는 물성에 따라서는, 필요에 따라, 감압 하에서의 탈포 처리나 가압, 감압 등의 여과 처리 등을 행하는 것이 바람직한 경우가 많다.
중합 조건에 대해서는, 중합성 조성물, 촉매의 종류와 사용량, 몰드의 형상 등에 따라 크게 조건이 상이하기 때문에 한정되는 것은 아니지만, 대략, -50 내지 150℃의 온도에서 1 내지 50시간에 걸쳐 행하여진다. 5 내지 150℃의 온도 범위에서 유지 또는 서서히 승온하여, 경화시키는 것이 바람직하지만, 적합하게 설정이 가능하다.
그리고, 중합 경화에 의해 얻어진 수지를 주형용 주형으로부터 이형하여 성형체가 얻어진다.
본 실시 형태의 성형체는, 필요에 따라 어닐 등의 처리를 행해도 된다. 처리 온도는 통상 50 내지 150℃의 사이에서 행하여지지만, 바람직하게는 90 내지 140℃에서 행하는 것이며, 보다 바람직하게는 100 내지 130℃에서 행하는 것이다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물은, 주형 중합 시의 몰드를 바꿈으로써 다양한 형상의 성형체로서 얻을 수 있다. 본 실시 형태의 성형체는, 원하는 형상으로 하고, 필요에 따라 형성되는 코팅층이나 다른 부재 등을 구비함으로써, 다양한 광학 재료로서 사용할 수 있다.
본 실시 형태의 성형체는, 높은 굴절률 및 높은 투명성을 구비하고, 안경 렌즈, 카메라 렌즈, 발광 다이오드(LED), 프리즘, 광 파이버, 정보 기록 기판, 필터, 발광 다이오드 등의 광학용 성형체로서, 이들 광학 재료에 사용하는 것이 가능하다. 특히, 안경 렌즈, 카메라 렌즈 등의 렌즈, 발광 다이오드 등의 광학 재료로서 적합하다.
본 실시 형태의 성형체는, 필요에 따라, 편면 또는 양면에 코팅층을 실시하여 사용해도 된다. 코팅층으로서는, 하드 코팅층, 반사 방지막층, 방담 코팅막층, 방오염층, 발수층, 프라이머층, 포토크로믹층 등을 들 수 있다. 이들 코팅층은 각각 단독으로 사용할 수도 복수의 코팅층을 다층화하여 사용할 수도 있다. 양면에 코팅층을 실시하는 경우, 각각의 면에 동일한 코팅층을 실시해도, 다른 코팅층을 실시해도 된다.
본 실시 형태의 안경 렌즈는, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 경화시켜 얻어지는 성형체(렌즈)의 적어도 한쪽의 면 위에 형성된 하드 코팅층 및/또는 반사 방지 코팅층을 구비할 수 있다. 또한, 상기한 다른 층을 구비할 수도 있다. 또한, 특정한 티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)로부터 얻어지는 안경 렌즈에서는, 기재층과 하드 코팅층 또는 반사 방지 코팅층 사이에 프라이머층을 갖지 않아도, 내충격성이 우수한 경우가 있다. 즉, 기재층의 한쪽 면 위에 하드 코팅층 및/또는 반사 방지 코팅층을 직접 형성할 수 있다. 프라이머층을 설치할 필요가 없기 때문에, 안경 렌즈의 생산성이 향상된다.
하드 코팅층은, 본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 경화시켜 얻어지는 성형체(렌즈)의 적어도 한쪽의 면 위에 설치되고, 렌즈 표면에 내찰상성, 내마모성, 내습성, 내온수성, 내열성, 내광성 등의 기능을 부여하는 것을 목적으로 한 코팅층이다. 하드 코팅층은, 규소, 티타늄, 지르코늄, 주석, 알루미늄, 텅스텐, 안티몬의 원소군으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물과, 알킬기, 알릴기, 알콕시기, 메타크릴옥시기, 아크릴옥시기, 에폭시기, 아미노기, 이소시아나토기, 머캅토기로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 관능기를 갖는 실란 화합물 및 그의 가수분해물을 함유하는 조성물로부터 얻어진다.
하드 코팅 조성물에는 경화를 촉진할 목적으로 경화제가 포함되어도 된다. 경화제의 구체예로서는, 무기, 유기산, 아민, 금속 착체, 유기산 금속염, 금속 염화물 등을 들 수 있다. 하드 코팅 조성물의 조제에는 용매를 사용해도 된다. 용매의 구체예로서는, 물, 알코올류, 에테르류, 케톤류, 에스테르류 등을 들 수 있다.
하드 코팅층은, 성형체 표면에, 하드 코팅 조성물을 스핀 코팅, 딥 코팅 등 공지의 도포 방법으로 도포한 후, 경화하여 형성된다. 경화 방법으로서는, 열 경화, 자외선이나 가시광선 등의 에너지선 조사에 의한 경화 방법 등을 들 수 있다. 가열 경화하는 경우는 80 내지 120℃에서 1 내지 4시간 실시하는 것이 바람직하다. 간섭 줄무늬의 발생을 억제하기 위하여, 하드 코팅층의 굴절률은, 성형체와의 굴절률의 차가 ±0.1의 범위에 있는 것이 바람직하다.
하드 코팅층을 부여하기 전에, 기재의 표면은 하기 조건 (a) 내지 (d)를 만족하도록 알칼리 수용액으로 초음파 세정되어 있는 것이 바람직하다.
(a) 알칼리 수용액이 5 내지 40％의 수산화나트륨 또는 수산화칼륨 수용액,
(b) 알칼리 수용액의 처리 온도가 30 내지 60℃,
(c) 처리 시간이 3 내지 5분간,
(d) 초음파의 주파수가 20 내지 30㎑.
알칼리 수용액으로 세정한 후는 증류수나 이소프로판올 등의 알코올류 등으로 세정하고, 50℃ 내지 80℃의 범위에서 5분 내지 20분, 성형체의 표면을 건조해도 된다.
본 실시 형태의 중합성 조성물로부터 얻어지는 성형체는 알칼리 내성이 우수하여, 알칼리 수용액으로 세정한 후에도 백탁 등의 발생이 억제된다.
반사 방지층이란, 성형체(렌즈)의 적어도 한쪽의 면 위에 설치되고, 공기와 성형체의 굴절률 차로부터 발생하는 반사율을 내려, 플라스틱 렌즈 표면의 광 반사를 대폭 저감시켜 투과율을 높이는 것을 목적으로 한 코팅층이다. 본 실시 형태에 있어서의 반사 방지층은, 산화규소를 함유하는 저굴절률막층과, 산화티타늄, 산화지르코늄, 산화알루미늄, 산화아연, 산화세륨, 산화안티몬, 산화주석, 산화탄탈륨으로부터 선택되는 1종 이상의 금속 산화물을 함유하는 고굴절률막층으로 이루어지고, 각각의 층은 단층 또는 다층 구조여도 된다.
반사 방지층이 다층 구조인 경우, 5 내지 7층이 적층되어 있는 것이 바람직하다. 막 두께로서는, 100 내지 300㎚가 바람직하고, 150 내지 250㎚가 더욱 바람직하다. 다층 반사 방지층을 형성하는 방법으로서는, 진공 증착법, 스퍼터링법, 이온 플레이팅법, 이온 빔 어시스트법, CVD법 등을 들 수 있다.
반사 방지막층 위에는, 필요에 따라 방담 코팅막층, 방오염층, 발수층을 형성시켜도 된다. 방담 코팅층, 방오염층, 발수층을 형성하는 방법으로서는, 반사 방지 기능에 악영향을 초래하는 것이 아니면, 그 처리 방법, 처리 재료 등에 대해서는 특별히 한정되지 않고, 공지의 방담 코팅 처리 방법, 방오염 처리 방법, 발수 처리 방법, 재료를 사용할 수 있다. 예를 들어, 방담 코팅, 방오염 처리 방법에서는, 표면을 계면 활성제로 덮는 방법, 표면에 친수성의 막을 부가하여 흡수성으로 하는 방법, 표면을 미세한 요철로 덮어 흡수성을 높이는 방법, 광 촉매 활성을 이용하여 흡수성으로 하는 방법, 초발수성 처리를 실시하여 물방울의 부착을 방지하는 방법 등을 들 수 있다. 또한, 발수 처리 방법에서는, 불소 함유 실란 화합물 등을 증착이나 스퍼터에 의해 발수 처리층을 형성하는 방법이나, 불소 함유 실란 화합물을 용매에 용해한 뒤, 코팅하여 발수 처리층을 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
이들 코팅층은 각각 자외선으로부터 렌즈나 눈을 지킬 목적으로 자외선 흡수제, 적외선으로부터 눈을 지킬 목적으로 적외선 흡수제, 렌즈의 내후성을 향상시킬 목적으로 광 안정제나 산화 방지제, 렌즈의 패션성을 높일 목적으로 염료나 안료, 또한 포토크로믹 염료나 포토크로믹 안료, 대전 방지제, 기타, 렌즈의 성능을 높이기 위한 공지의 첨가제를 병용해도 된다. 도포에 의한 코팅을 행하는 층에 관해서는 도포성의 개선을 목적으로 한 각종 레벨링제를 사용해도 된다.
본 실시 형태의 광학 재료용 중합성 조성물을 사용한 플라스틱 렌즈는 패션성이나 포토크로믹성의 부여 등을 목적으로 하여, 목적에 따른 색소를 사용하여 염색하여 사용해도 된다. 렌즈의 염색은 공지의 염색 방법으로 실시 가능한데, 통상 이하에 나타내는 방법으로 실시된다.
일반적으로는, 사용하는 색소를 용해 또는 균일하게 분산시킨 염색액 중에 소정의 광학면으로 마무리된 렌즈 생지를 침지(염색 공정)한 후, 필요에 따라 렌즈를 가열하여 색소를 고정화(염색 후 어닐 공정)하는 방법이다. 염색 공정에 사용되는 색소는 공지의 색소라면 특별히 한정되지 않지만, 통상은 유용 염료 혹은 분산 염료가 사용된다. 염색 공정에서 사용되는 용제는 사용하는 색소가 용해 가능하거나 혹은 균일하게 분산 가능한 것이면 특별히 한정되지 않는다. 이 염색 공정에서는, 필요에 따라 염색액에 색소를 분산시키기 위한 계면 활성제나, 염색을 촉진하는 캐리어를 첨가해도 된다.
염색 공정은, 색소 및 필요에 따라 첨가되는 계면 활성제를 물 또는 물과 유기 용매의 혼합물 중에 분산시켜 염색욕을 조제하고, 이 염색욕 중에 광학 렌즈를 침지하고, 소정 온도에서 소정 시간 염색을 행한다. 염색 온도 및 시간은, 원하는 착색 농도에 따라 변동되는데, 통상 120℃ 이하에서 수 분 내지 수십 시간 정도이면 되고, 염색욕의 염료 농도는 0.01 내지 10중량％로 실시된다. 또한, 염색이 곤란한 경우는 가압하에서 행해도 된다.
필요에 따라 실시되는 염색 후 어닐 공정은, 염색된 렌즈 생지에 가열 처리를 행하는 공정이다. 가열 처리는, 염색 공정에서 염색된 렌즈 생지의 표면에 남은 물을 용제 등으로 제거하거나, 용매를 풍건하거나 한 후에, 예를 들어 대기 분위기의 적외선 가열로, 혹은 저항 가열로 등의 노 중에 소정 시간 체류시킨다. 염색 후 어닐 공정은, 염색된 렌즈 생지의 색 빠짐을 방지함(색 빠짐 방지 처리)과 함께, 염색 시에 렌즈 생지의 내부에 침투된 수분의 제거가 행하여진다. 본 실시 형태에서는, 알코올 화합물을 포함하지 않는 경우는 염색 후의 불균일이 적다.
본 실시 형태에 있어서는, 편광 필름의 적어도 한쪽의 면에, 본 실시 형태의 중합성 조성물을 경화시켜 얻어지는 성형체를 적층함으로써, 편광 렌즈를 얻을 수도 있다. 제조 방법은 특별히 한정되지 않고 공지의 방법을 채용할 수 있다. 편광 필름으로서는, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 열 가소성 폴리에스테르, 폴리비닐알코올 등을 들 수 있다.
이상, 본 발명의 실시 형태에 대하여 설명했지만, 이들은 본 발명의 예시이며, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 범위에서, 상기 이외의 다양한 구성을 채용할 수 있다.
예를 들어, 제1 실시 형태에 있어서, 티올 화합물 (A)와 주석 화합물 (B)와 이소시아네이트 화합물 (C)를 일괄적으로 혼합할 수도 있다.
얻어진 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈는, JIS K 7136(ISO 14782)에 준거하여 측정되며, 0.05 이하, 바람직하게는 0.03 이하, 보다 바람직하게는 0.025 이하, 더욱 바람직하게는 0.015 이하, 특히 바람직하게는 0.01 이하로 할 수 있다.
또한, 중합성 조성물의 헤이즈가 상기 범위를 초과하는 경우는, 혼합 시간이나 교반 속도의 조정 등의 조작에 의해 헤이즈를 상기 범위가 되도록 조정할 수 있다.
제1 내지 제3 실시 형태에 있어서는, 티올 화합물 (A) 또는 이소시아네이트 화합물 (C)의 어느 것에, 전량의 주석 화합물 (B)를 혼합하는 형태를 설명했지만, 일부의 주석 화합물 (B)를 티올 화합물 (A)에 첨가하고, 나머지의 주석 화합물 (B)를 이소시아네이트 화합물 (C)에 첨가해도 된다.
또한, 티올 화합물 (A)로서 2종 이상의 티올 화합물을 사용하는 경우에는, 적어도 1종의 티올 화합물에 주석 화합물 (B)를 첨가할 수 있다.
또한, 본 실시 형태에 있어서는, 주석 화합물 (B)와 티올 화합물 (A) 또는 이소시아네이트 화합물 (C)의 마스터 배치를 조제하고, 다른 화합물과 혼합함으로써, 주석 화합물 (B)를 다른 화합물과 혼합할 수도 있다.
실시예
이하, 본 발명을 실시예에 기초하여 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 이들 실시예에 한정되는 것은 아니다. 또한, 헤이즈, 내충격성은 이하의 방법에 의해 측정했다.
헤이즈(Haze): 닛폰 덴쇼쿠 고교사제 Haze Meter NDH2000을 사용하여 JIS K 7136(ISO 14782) 규격으로 헤이즈를 측정했다. 먼저, 한변이 10㎜인 사각형의 셀에 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄을 장입하여 0점 교정을 실시했다. 계속하여, 헤이즈를 측정하는 대상물을 한변이 10㎜인 사각형의 셀에 장입하여 헤이즈를 측정했다.
내충격성(낙구 시험): 중심 두께 0.3㎜, 직경 75㎜, S=-4.75D 형상의 렌즈에 대하여, 높이 127㎝(50인치)의 위치로부터 렌즈 중심부에 8g, 16g, 28g, 33g, 45g, 67g, 95g, 112g, 174g, 226g, 534g의 11종류의 중량이 상이한 철구를 순서대로 낙하시켜, 렌즈가 파손되는지 시험했다. 10매의 렌즈에 대하여 시험을 행하고, 각 렌즈에 대하여 파손되지 않은 철구의 중량의 최댓값을 확인하여, 10매의 렌즈의 최댓값의 평균값을 「파손되지 않은 중량의 평균값」으로서 구했다. 이 평균값에 의해 내충격성을 평가했다.
[실시예 1]
2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물 29.19중량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트 19.48중량부, 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583) 1.50중량부, 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN) 0.10중량부를, 20℃에서 혼합 용해시켰다. 또한, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 23.48중량부를 첨가하고, 15℃에서 혼합 용해시켜, 제1 혼합액을 얻었다.
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 촉매로서 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 30분간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻었다. 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.035였다.
그리고, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 15℃에서 혼합하여 균일 용액으로 했다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행한 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 행하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃ 내지 120℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출했다. 몰드형으로부터의 성형체의 이형성은 양호했다. 얻어진 성형체를 130℃에서 2시간 더 어닐 처리를 행했다.
성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 61g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 2]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 1시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.015였다. 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 81g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 3]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 2시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 83g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 4]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 24시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 1과 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 84g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 5]
2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물 29.19중량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트 19.48중량부, 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583) 1.50중량부, 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN) 0.10중량부를, 20℃에서 1시간에 걸쳐 혼합 용해시켰다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 23.48중량부를 첨가하고, 15℃에서 혼합 용해시켜, 제1 혼합액을 얻었다. 얻어진 제1 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다.
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 촉매로서 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 30분간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻었다. 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.035였다.
그리고, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 15℃에서 혼합하여 균일 용액으로 했다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.035였다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행한 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 행하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃ 내지 120℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출했다. 몰드형으로부터의 성형체의 이형성은 양호했다. 얻어진 성형체를 130℃에서 2시간 더 어닐 처리를 행했다.
성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 61g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 6]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 1시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 5와 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.015였다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.015였다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 81g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 7]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 2시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 5와 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 83g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 8]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 27.85중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 24시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 5와 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 84g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 9]
2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물 50.6중량부, 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583) 1.5중량부, 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN) 0.1중량부를, 20℃에서 2시간에 걸쳐 혼합 용해시켰다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트) 23.9중량부를 첨가하고, 15℃에서 혼합 용해시켜, 제1 혼합액을 얻었다. 얻어진 제1 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다.
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 25.5중량부와, 촉매로서 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.035중량부를 25℃에서 30분간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻었다. 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.035였다.
그리고, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 15℃에서 혼합하여 균일 용액으로 했다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.035였다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행한 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 행하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃ 내지 120℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출했다. 몰드형으로부터의 성형체의 이형성은 양호했다. 얻어진 성형체를 130℃에서 2시간 더 어닐 처리를 행했다.
성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 34g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 10]
4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 25.5중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.035중량부를 25℃에서 2시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 실시예 9와 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 39g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 1]
m-크실릴렌디이소시아네이트 50.7중량부, 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583) 1.5중량부, 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN) 0.1중량부를, 20℃에서 2시간에 걸쳐 혼합 용해시켜, 제1 혼합액을 얻었다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.01이었다.
5,7(또는 4,7 또는 4,8)-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물인 폴리티올 화합물 49.3중량부와, 촉매로서 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.008중량부를 25℃에서 30분간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻었다. 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.060이었다.
그리고, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 15℃에서 혼합하여 균일 용액으로 했다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.070이었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행한 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 행하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃ 내지 120℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출했다. 몰드형으로부터의 성형체의 이형성은 양호했다. 얻어진 성형체를 130℃에서 2시간 더 어닐 처리를 행했다.
성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 24g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 11]
5,7(또는 4,7 또는 4,8)-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물인 폴리티올 화합물 49.3중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.008중량부를 25℃에서 24시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 비교예 1과 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.01이었다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 27g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 2]
2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물 26.17중량부, 헥사메틸렌디이소시아네이트 17.46중량부, 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583) 1.50중량부, 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN) 0.10중량부를, 20℃에서 1시간에 걸쳐 혼합 용해시켜, 제1 혼합액을 얻었다. 얻어진 제1 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다.
펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토프로피오네이트) 56.37중량부와, 촉매로서 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 3시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻었다. 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.060이었다.
그리고, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 15℃에서 혼합하여 균일 용액으로 했다. 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.060이었다. 이 혼합 용액을 400Pa에서 1시간 탈포를 행한 후, 1㎛ PTFE제 필터로 여과를 행하여, 유리 몰드와 테이프로 이루어지는 몰드형에 주입했다. 이 몰드형을 중합 오븐에 투입, 25℃ 내지 120℃까지 21시간에 걸쳐 서서히 승온하여 중합했다. 중합 종료 후, 오븐으로부터 몰드형을 취출했다. 몰드형으로부터의 성형체의 이형성은 양호했다. 얻어진 성형체를 130℃에서 2시간 더 어닐 처리를 행했다.
성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 68g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[실시예 12]
펜타에리트리톨테트라키스(2-머캅토프로피오네이트) 56.37중량부와, 혼조 케미컬(주)의 네스틴 P(로트 50607, 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물) 0.04중량부를 25℃에서 24시간 혼합하여, 제2 혼합액을 얻은 것 이외는, 비교예 2와 동일하게 행했다. 또한, 얻어진 제2 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 제1 혼합액과 제2 혼합액을 혼합하여 얻어진 혼합액의 헤이즈를 측정한바 0.00이었다. 또한, 얻어진 성형체에 대하여 낙구 시험을 행한바, 파손되지 않은 중량의 평균값은 74g이었다. 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure 112018005981433-pct00008
a1: 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄
a2: 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)
a3: 5,7(또는 4,7 또는 4,8)-디머캅토메틸-1,11-머캅토-3,6,9-트리티아운데칸의 혼합물
b1: 디메틸주석디클로라이드 99.8％와 디부틸주석디클로라이드 0.2％의 혼합물
c1: 2,5-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄과 2,6-비스(이소시아나토메틸)-비시클로[2.2.1]헵탄의 혼합물
c2: 헥사메틸렌디이소시아네이트
c3: m-크실릴렌디이소시아네이트
d1: 자외선 흡수제(쿄도야쿠힌사제, 상품명 바이오소브 583)
e1: 내부 이형제(산성 인산에스테르, Stepan사제, 상품명 제렉크 UN)
이 출원은, 2015년 8월 6일에 출원된 일본 출원 특원 제2015-155710호 및 2015년 8월 6일에 출원된 국제 출원 PCT/JP2015/072332를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시된 전부를 여기에 원용한다.

Claims (22)

  1. (A) 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아네이트 화합물을 혼합하여, 헤이즈가 0.05 이하인 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정을 포함하고,
    티올 화합물 (A)와 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
    Figure 112019020080497-pct00009

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  2. (A) 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물을 혼합하는 공정과,
    (C) 이소시아네이트 화합물과, 상기 공정에 의해 얻어진 혼합액을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정
    을 포함하고,
    티올 화합물 (A) 및 주석 화합물 (B)를 포함하는 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하이고, 티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
    Figure 112019020080497-pct00010

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  3. (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아네이트 화합물을 혼합하는 공정과,
    상기 공정에 의해 얻어진 혼합액과, (A) 티올 화합물을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정
    을 포함하고,
    주석 화합물 (B) 및 이소시아네이트 화합물 (C)를 포함하는 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하이고, 티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 제조 방법;
    Figure 112019020080497-pct00011

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. (A) 티올 화합물과,
    (B) 일반식 (1)
    Figure 112019020080497-pct00012

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
    로 표현되는 주석 화합물과,
    (C) 이소시아네이트 화합물을 포함하고,
    티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나이며,
    헤이즈가 0.05 이하인, 광학 재료용 중합성 조성물.
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  7. (C) 이소시아네이트 화합물과,
    헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 포함하고,
    상기 혼합액은,
    (A) 티올 화합물과,
    (B) 일반식 (1)
    Figure 112019020080497-pct00013

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
    로 표현되는 주석 화합물을 포함하고,
    티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물.
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  8. (A) 티올 화합물과,
    헤이즈가 0.05 이하인 혼합액을 포함하고,
    상기 혼합액은,
    (B) 일반식 (1)
    Figure 112019020080497-pct00014

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다)
    로 표현되는 주석 화합물과,
    (C) 이소시아네이트 화합물을 포함하고,
    티올 화합물 (A) 및 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물.
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 렌즈 주형용(注型用) 주형(鑄型) 내에, 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 주입하는 공정과,
    상기 광학 재료용 중합성 조성물을 중합하는 공정과,
    상기 공정에 의해 얻어진 수지를 상기 렌즈 주형용 주형으로부터 이형하여 성형체를 얻는 공정을 포함하는, 플라스틱 렌즈의 제조 방법.
  14. 제6항 내지 제8항 중 어느 한 항에 기재된 광학 재료용 중합성 조성물을 경화시켜 이루어지는 성형체.
  15. 제14항에 기재된 성형체로 이루어지는 광학 재료.
  16. 제15항에 기재된 광학 재료로 이루어지는 렌즈.
  17. 제16항에 기재된 렌즈로 이루어지는 안경 렌즈.
  18. 제16항에 기재된 렌즈와, 상기 렌즈의 적어도 한쪽의 면 위에 형성된 하드 코팅층 및/또는 반사 방지 코팅층을 구비하는, 안경 렌즈.
  19. 삭제
  20. (A) 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아네이트 화합물을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 조제하는 공정 1과,
    상기 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈를 측정하는 공정 2와,
    상기 공정 2에 있어서 상기 광학 재료용 중합성 조성물의 헤이즈가 0.05 이하인 경우는 혼합 상태가 양호하다고 판단하고, 상기 헤이즈가 0.05를 초과하는 경우는 혼합 상태가 불량하다고 판단하여, 상기 광학 재료용 중합성 조성물을 재혼합하여 공정 2에 되돌리는 공정 3을 포함하고,
    티올 화합물 (A)와 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 혼합 상태 관리 방법;
    Figure 112019080756639-pct00016

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  21. (A) 티올 화합물과, (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물을 혼합하여 혼합액을 조제하는 공정 a와,
    상기 혼합액의 헤이즈를 측정하는 공정 b와,
    상기 공정 b에 있어서 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하인 경우는 혼합 상태가 양호하다고 판단하고, 상기 헤이즈가 0.05를 초과하는 경우는 혼합 상태가 불량하다고 판단하여, 상기 혼합액을 재혼합하여 공정 b에 되돌리는 공정 c와,
    헤이즈가 0.05 이하인 상기 혼합액과 (C) 이소시아네이트 화합물을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정 d를 포함하고,
    티올 화합물 (A)와 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 혼합 상태 관리 방법;
    Figure 112019080756639-pct00017

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
  22. (B) 일반식 (1)로 표현되는 주석 화합물과, (C) 이소시아네이트 화합물을 혼합하여 혼합액을 조제하는 공정 i과,
    상기 혼합액의 헤이즈를 측정하는 공정 ii와,
    상기 공정 ii에 있어서 상기 혼합액의 헤이즈가 0.05 이하인 경우는 혼합 상태가 양호하다고 판단하고, 상기 헤이즈가 0.05를 초과하는 경우는 혼합 상태가 불량하다고 판단하여, 상기 혼합액을 재혼합하여 공정 ii에 되돌리는 공정 iii과,
    헤이즈가 0.05 이하인 상기 혼합액과, (A) 티올 화합물을 혼합하여 광학 재료용 중합성 조성물을 얻는 공정 iv를 포함하고,
    티올 화합물 (A)와 이소시아네이트 화합물 (C)가 이하의 조합 (1)~(4) 중 어느 하나인, 광학 재료용 중합성 조성물의 혼합 상태 관리 방법;
    Figure 112019080756639-pct00018

    (일반식 (1) 중 R4는 탄소수 1 내지 8의 알킬기를 나타내고, X는 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 또는 -O-C(=O)-R5를 나타내고, R5는 탄소수 1 내지 11의 알킬기를 나타내고, c는 1 내지 3의 정수를 나타낸다).
    조합 (1):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (2):
    티올 화합물 (A)는 4-머캅토메틸-1,8-디머캅토-3,6-디티아옥탄 및 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄을 포함한다.
    조합 (3):
    티올 화합물 (A)는 5,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸 및 4,8-디머캅토메틸-1,11-디머캅토-3,6,9-트리티아운데칸을 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 m-크실릴렌디이소시아네이트를 포함한다.
    조합 (4):
    티올 화합물 (A)는 펜타에리트리톨테트라키스(3-머캅토프로피오네이트)를 포함하고,
    이소시아네이트 화합물 (C)는 2,5-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄, 2,6-비스(이소시아나토메틸)비시클로-[2.2.1]-헵탄 및 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트를 포함한다.
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