JP6439202B2 - エンボスフォイルの装飾用区画を転写する方法 - Google Patents
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- Decoration By Transfer Pictures (AREA)
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- Shaping Of Tube Ends By Bending Or Straightening (AREA)
Description
a)エンボスフォイルを用意する工程;
b)装飾用区画の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込みを少なくとも一つ、転写層に型打ちする工程(Einstanzen);
c)基材上に装飾用区画のエンボス加工する工程;
d)装飾用区画でエンボス加工された基材から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程
を含むことである。
a)エンボスフォイルを用意する工程;
b)装飾用区画の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込みを少なくとも一つ、転写層に型打ちする工程;
c)基材上へ接着剤を塗布する、またはエンボスフォイル上へ接着剤を塗布する工程、
d)エンボスフォイルと基材とを重ね合わせる工程、
e)接着剤を硬化または乾燥させる工程、
f)装飾用区画でエンボス加工された基材から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程
を含むことである。
a)エンボスフォイルを用意する工程;
b)装飾用区画の周縁部から間隔を置いた線状切込みを少なくとも一つ、転写層および接着剤層に型打ちする工程;
c)基材へ装飾用区画をエンボス加工する工程;
d)装飾用区画でエンボス加工された基材から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程
を含む、本発明による方法を実施するための打抜き・エンボス加工装置2の第一の一例示的実施形態を示す。
a)エンボスフォイルを用意する工程;
b)装飾用区画の周縁部から間隔を置いた線状切込みを少なくとも一つ、転写層に型打ちする工程;
c)基材上への接着剤を塗布する、またはエンボスフォイル上へ接着剤を塗布する工程、
d)エンボスフォイルと基材とを重ね合わせる工程、
e)接着剤を硬化または乾燥させる工程、
f)装飾用区画でエンボス加工された基材から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程
を含む、常温エンボス加工法を実施するための打抜き・エンボス加工装置3を示す。
1r 残余エンボスフォイル
2 打抜き・エンボス加工装置(ホットエンボス加工)
3 打抜き・エンボス加工装置(常温エンボス加工)
11 キャリアフォイル
12 剥離層
13 転写層
14 接着剤層
15 線状切込み
15a 互いに間隔を置いた切込み
15b 互いに間隔を置かない切込み
15s 型打ち領域
16 装飾用区画
16s 装飾用区画の境界線
21 繰り出しローラ
22 丸打抜き機
22’ インプレッションシリンダ
23 基材
24 エンボスシリンダ
24’ エンボススタンプ
25 装飾用区画が貼付された基材
26 巻き上げローラ
27 ガイドローラ
31 接着剤塗布装置
32 乾燥ステーション
Claims (13)
- エンボスローラ(24)またはエンボススタンプ(24’)を利用してエンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を備える方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
c)基材(23)上に装飾用区画(16)をエンボス加工する工程と、
d)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイル(1r)を剥離させる工程と、
を含み、
前記工程b)において、エンボスフォイル(1)の向かい合う周縁部間に延在し、かつ装飾用区画(16)を包囲する開放式切込み(15)を転写層(13)に型打ちし、
前記エンボスフォイルが0.5〜2.5mmの幅を有する型打ち領域(15s)を含み、
前記切込み(15)が、0.05mm〜0.5mmの平均幅を有し、
前記切込み(15)が、転写層(13)を20%から100%の間で切断する、ことを特徴とする方法。 - エンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を有する方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)基材(23)上へ接着剤を塗布するかあるいはエンボスフォイル(1)上へ接着剤を塗布する工程と、
c)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
d)エンボスフォイルと基材とを重ね合わせる工程と、
e)接着剤を硬化または乾燥させる工程と、
f)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程と、
を含み、
前記工程c)において、エンボスフォイル(1)の向かい合う周縁部間に延在し、かつ装飾用区画(16)を包囲する開放式切込み(15)を転写層(13)に型打ちし、
前記エンボスフォイルが0.5〜2.5mmの幅を有する型打ち領域(15s)を含み、
前記切込み(15)が、0.05mm〜0.5mmの平均幅を有し、
前記切込み(15)が、転写層(13)を20%から100%の間で切断する、ことを特徴とする方法。 - 前記エンボスフォイル(1)が2〜40個の切込み(15)が導入された一つの型打ち領域(15s)を含むことを特徴とする請求項1または2に記載の方法。
- 一つの型打ち領域(15s)が3〜4個の切込み(15)が導入された型打ち領域(15s)であることを特徴とする請求項3に記載の方法。
- 隣接する切込み(15)が一定の間隔を有することを特徴とする請求項3または4に記載の方法。
- 切込み(15)が、転写層(13)を完全に切断するが、転写層(13)に面したキャリアフォイル(11)表面の前で終了することを特徴とする請求項1〜5のいずれか一つに記載の方法。
- 前記工程c)の後に、半抜きされた転写層の破断が、剥離の瞬間、またはその直後またはその直前に設定されることを特徴とする請求項1に記載の方法。
- 前記工程e)の後に、半抜きされた転写層の破断が、剥離の瞬間、またはその直後またはその直前に設定されることを特徴とする請求項2に記載の方法。
- 前記型打ちする工程において、複数の切込み(15)を型打ちし、当該複数の切込み(15)が一つの型打ち領域(15s)を形成することを特徴とする請求項1〜8のいずれか一つに記載の方法。
- エンボスローラ(24)またはエンボススタンプ(24’)を利用してエンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、
エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を備える方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
c)基材(23)上に装飾用区画(16)をエンボス加工する工程と、
d)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイル(1r)を剥離させる工程と、
を含み、
前記工程b)において、複数の切込み(15)を型打ちし、当該複数の切込み(15)が一つの型打ち領域(15s)を形成し、隣接する切り込みが異なる間隔を有することを特徴とする方法。 - エンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を有する方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
c)基材(23)上へ接着剤を塗布する、またはエンボスフォイル(1)上へ接着剤を塗布する工程と、
d)エンボスフォイルと基材とを重ね合わせる工程と、
e)接着剤を硬化または乾燥させる工程と、
f)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程と、
を含み、
前記工程b)において、複数の切込み(15)を型打ちし、当該複数の切込み(15)が一つの型打ち領域(15s)を形成し、隣接する切り込みが異なる間隔を有することを特徴とする方法。 - エンボスローラ(24)またはエンボススタンプ(24’)を利用してエンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、
エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を備える方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
c)基材(23)上に装飾用区画(16)をエンボス加工する工程と、
d)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイル(1r)を剥離させる工程と、
を含み、
前記工程b)において、エンボスフォイル(1)の向かい合う周縁部間に延在し、装飾用区画(16)を包囲する開放式切込みを転写層(13)に型打ちすること、または前記工程b)において、複数の切込み(15)を型打ちし、当該複数の切込み(15)が一つの型打ち領域(15s)を形成し、
前記型打ち領域(15s)が0.5〜2.5mmの幅を有し、
前記切込み(15)が、0.05mm〜0.5mmの平均幅を有し、
前記切込み(15)が、転写層(13)を20%から100%の間で切断する、ことを特徴とする方法。 - エンボスフォイル(1)の装飾用区画(16)を基材(23)上に転写する方法であって、
エンボスフォイル(1)が、キャリアフォイル(11)と、そのキャリアフォイル(11)上に配置された転写層(13)と、を有する方法において、
a)エンボスフォイル(1)を用意する工程と、
b)基材(23)上へ接着剤を塗布する、またはエンボスフォイル(1)上へ接着剤を塗布する工程と、
c)装飾用区画(16)の周縁部から2mm以下隔たり、線状切込みとして形成された切込み(15)を少なくとも一つ、転写層(13)に型打ちする工程と、
d)エンボスフォイルと基材とを重ね合わせる工程と、
e)接着剤を硬化または乾燥させる工程と、
f)装飾用区画(16)でエンボス加工された基材(25)から、残余エンボスフォイルを剥離させる工程と、
を含み、
前記工程c)において、エンボスフォイル(1)の向かい合う周縁部間に延在し、装飾用区画(16)を包囲する開放式切込みを転写層(13)に型打ちすること、または前記工程b)において、複数の切込み(15)を型打ちし、当該複数の切込み(15)が一つの型打ち領域(15s)を形成し、
前記型打ち領域(15s)が0.5〜2.5mmの幅を有し、
前記切込み(15)が、0.05mm〜0.5mmの平均幅を有し、
前記切込み(15)が、転写層(13)を20%から100%の間で切断する、ことを特徴とする方法。
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