JP6414839B2 - 光電気混載基板およびその製法 - Google Patents
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Description
図1に示す光電気混載基板を、前記の製法の記載にしたがって作製した。ただし、配線部Bの長さは20cmとした。また、金属補強層として、厚み20μmのステンレス層を設けた。そして、絶縁層の厚みを5μm、アンダークラッド層の厚み(絶縁層の裏面からの厚み)を10μm、コアの厚みを50μm、コアの幅を50μm、オーバークラッド層の厚み(アンダークラッド層の表面からの厚み)を70μmとした。電気配線および導電ダミーパターンの厚みを5μmとした。なお、導電ダミーパターンの斜め格子による絶縁層の表面被覆率は、44%であった。また、長手方向に沿う両縁部に連続して延びる部分の幅〔図4(a)においてQで示す〕は400μmであった。
上記実施例1と基本的な構成は同じにして、図7に示す配置で導電ダミーパターンを形成し、電気配線は形成しなかった。なお、導電ダミーパターンによる絶縁層の表面被覆率は、40%であった。また、長手方向に沿う両縁部に連続して延びる部分の幅(図7においてQ′で示す)は400μmであった。
導電ダミーパターンを設けなかった。それ以外は、上記実施例1と同様にして、光電気混載基板を作製した。
上記実施例1、2および比較例1に用いた発光素子、受光素子と同様の発光素子、受光素子を準備した。すなわち、発光素子は、ULM社製のULM850−10−TT−C0104Uである。受光素子は、Albis optoelectronics社製のPDCA04−70−GSである。そして、上記発光素子から発光された光を直接、上記受光素子で受光した際の光量I0を測定した。つぎに、上記実施例1、2品と比較例1品のそれぞれに対し、配線部Bを1回転させて「輪」を1個作り、左右方向に0.5Nの力で引っ張った状態で固定し、光電気モジュール部A′に設けられた発光素子から発光された光を、光導波路Wのコアを経由して、電気モジュール部Aに設けられた受光素子で受光し、その受光した光量Iを測定した。そして、それらの値から〔−10×log(I/I0)〕を算出し、その値を光挿入損失とした。その結果、実施例1品の光挿入損失は、2.3dBであった。また、実施例2品の光挿入損失は、2.1dBであった。これに対し、比較例1品の光挿入損失は、4.0dBであり、実施例1品の方が、光挿入損失が抑制されており、実施例2品の方が、さらに光挿入損失が抑制されていることがわかった。
上記実施例1、2品と比較例1品のそれぞれに対し、上記光挿入損失の測定時と同様に、配線部Bを1回転させて「輪」を1個作った状態で、左右方向に引っ張った。そして、その引張荷重を増加させていき、配線部Bが破断する際の値(破断強度)を確認した。その結果、実施例1品、実施例2品とも、その破断強度は10Nであり、比較例1品の破断強度は4Nであった。したがって、実施例1品、実施例2品とも、比較例1品に比べて破断強度がはるかに高いことがわかった。
上記実施例1、2品と比較例1品を、それぞれ手に持って変形させたところ、三者のフレキシブル性に殆ど差異はなかった。
2 電気配線
8 コア
10、10′ 光素子
30 導電ダミーパターン
A、A′ 光電気モジュール部
B 配線部
W 光導波路
Claims (7)
- 帯状に延びる絶縁層の少なくとも片端部が、その表面に導電パターンからなる電気配線と光素子とを備える光電気モジュール部に形成され、上記絶縁層の、光電気モジュール部から延びる部分が、その裏面に、光信号伝送用のコアを有し上記光電気モジュール部の光素子に光結合される帯状の光導波路を備えた、フレキシブルな配線部に形成された光電気混載基板であって、上記配線部における絶縁層表面に、上記配線部のフレキシブル性を保ちながらこの部分を補強する導電ダミーパターンが形成されていることを特徴とする光電気混載基板。
- 上記導電ダミーパターンが、配線部における絶縁層表面の、少なくとも長手方向に沿う両縁部に連続的に延びている請求項1記載の光電気混載基板。
- 絶縁層表面に形成された導電ダミーパターンと、絶縁層裏面に形成された光導波路の光信号伝送用のコアとが、絶縁層を挟んで互いに上下に重ならないよう配置されている請求項1または2記載の光電気混載基板。
- 上記導電ダミーパターンが、配線部における絶縁層表面の、長手方向に沿う両縁部に連続的に延びており、上記導電ダミーパターンに挟まれた、絶縁層表面の長手方向に沿う内側部分に、導電パターンからなる電気配線が設けられている請求項2または3記載の光電気混載基板。
- 絶縁層表面の、上記導電ダミーパターンに挟まれて形成された電気配線と、絶縁層裏面に形成された光導波路の光信号伝送用のコアとが、絶縁層を挟んで互いに上下に重ならないよう配置されている請求項4記載の光電気混載基板。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載の光電気混載基板を製造する方法であって、上記光電気モジュール部の電気配線となる導電パターンと、上記配線部を補強するための導電ダミーパターンとを、同時に形成するようにしたことを特徴とする光電気混載基板の製法。
- 請求項4または5記載の光電気混載基板を製造する方法であって、上記光電気モジュール部の電気配線となる導電パターンと、上記配線部を補強するための導電ダミーパターンと、上記導電ダミーパターンに挟まれた電気配線となる導電パターンとを、同時に形成するようにしたことを特徴とする光電気混載基板の製法。
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