CN107622990B - 一种触控基板及其制作方法、显示装置 - Google Patents

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Abstract

本发明实施例公开了一种触控基板及其制作方法、显示装置，该触控基板包括：基底和设置在基底上的触控走线层；其中，触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。

Description

一种触控基板及其制作方法、显示装置
技术领域
本发明实施例涉及触控显示技术领域，具体涉及一种触控基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的飞速发展，触摸屏应用越来越广泛，依照感应方式的不同，触摸屏大致可以分为电阻式、电容式、红外线式、声波式四类。其中电容式目前的市场用量最大，其他技术短期内恐很难赶上，已成为触摸屏市场上的主流和未来发展的趋势。
目前，电容式触摸屏包括触控电极和触控走线层，其中，触控电极设置在阵列基板或彩膜基板上，触控走线层分布在触摸屏四周，每个触控电极均需与触控走线层相连。
在实际使用中，本申请的发明人研究发现，现有的电容式触摸屏中的触控走线层占用了较大区域，不能满足窄边框产品的设计要求。
发明内容
为了解决上述技术问题，本发明实施例提供了一种触控基板及其制作方法、显示装置，以解决现有的触摸屏不能满足窄边框产品的设计要求的缺陷。
在一个方面，本发明实施例提供了一种触控基板，一种触控基板，包括：基底和设置在所述基底上的触控走线层；
其中，所述触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案。
可选地，所述触控走线层包括：第一金属层、透明导电层和第二金属层；
所述第一金属层和所述第二金属层包括多个镂空图案；
所述透明导电层和所述第二金属层依次设置在所述第一金属层远离所述基底的一侧。
可选地，还包括：绝缘层和触控层；所述触控层通过绝缘层过孔与所述触控走线层连接；
所述绝缘层设置在所述触控走线层远离所述基底的一侧。
可选地，所述镂空图案包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种。
可选地，所述第一金属层和所述第二金属层的线宽为4-6微米。
可选地，所述透明导电层的材料为氧化铟锡。
可选地，所述绝缘层的材料为负性光刻胶，所述触控层的材料为氧化铟锡。
在另一方面，本发明实施例还提供一种显示装置，包括触控基板。
在又一方面，本发明实施例还提供一种触控基板的制作方法，包括：
提供一基底；
在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层。
可选地，所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层，具体包括：
在基底上沉积第一金属薄膜；
通过构图工艺形成包括多个金属线形成的镂空图案的第一金属层；
在第一金属层上沉积第一透明导电薄膜；
通过构图工艺形成透明导电层；
在透明导电层上沉积第二金属薄膜；
通过构图工艺，形成包括多个金属线形成的镂空图案的第二金属层。
可选地，所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层之后，所述方法还包括：
在所述触控走线层上涂覆绝缘薄膜；
通过刻蚀处理形成绝缘层。
可选地，所述通过刻蚀处理形成绝缘层之后，所述方法还包括：
在绝缘层上形成过孔。
可选地，所述在绝缘层上形成过孔之后，所述方法还包括：
在绝缘层上沉积第二透明导电薄膜；
通过构图工艺形成触控层。
本发明实施例提供一种触控基板及其制作方法、显示装置，该触控基板，包括：基底和设置在基底上的触控走线层；其中，触控走线层包括：多个金属线形成的镂空图案，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层的宽度较小，减小了触控走线层占用区域，即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。
附图说明
附图用来提供对本发明技术方案的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本申请的实施例一起用于解释本发明的技术方案，并不构成对本发明技术方案的限制。
图1为本发明实施例一提供的触控基板的一个结构示意图；
图2为本发明实施例一提供的触控基板的另一结构示意图；
图3为本发明实施例二提供的触控基板的一个结构示意图；
图4为本发明实施例二提供的触控基板的另一结构示意图；
图5为本发明实施例三提供的触控基板的制作方法的流程图；
图6A为本发明实施例三提供的触控基板的制作方法的示意图一；
图6B为本发明实施例三提供的触控基板的制作方法的示意图二；
图6C为本发明实施例三提供的触控基板的制作方法的示意图三；
图7A为本发明实施例四提供的触控基板的制作方法的示意图一；
图7B为本发明实施例四提供的触控基板的制作方法的示意图二；
图7C为本发明实施例四提供的触控基板的制作方法的示意图三；
图7D为本发明实施例四提供的触控基板的制作方法的示意图四。
具体实施方式
为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白，下文中将结合附图对本发明的实施例进行详细说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互任意组合。
除非另做定义，此处使用的技术术语或者科学术语应当为本发明所述领域内具有一般技能的人士所理解的通常意义。本发明专利申请书名数以及权利要求书中使用的“第一”、“第二”以及类似的词语并不表示任何顺序、数量或者重要性，而只是用来区分不同的组成部分。同样，“一个”或者“一”等类似词语也不表示数量限制，而是表示存在至少一个。
目前，现有的触摸屏包括：触控区域和边框区域，其中，触控区域中设置有多个触控电极，设置在触摸屏四周的边框区域中设置有与触控电极的输入端连接的多条触控走线层，每个触控电极均要与触控走线层相连。
现以5.5寸触摸屏为例，说明触摸屏的边框区域的分布。边框区域共1.1mm，具体包括：触控走线层0.6mm、外围地线距边距离0.2mm和盖板0.3mm。其中，盖板为了防止触控走线层外漏，造成视觉上触控走线层可见问题。
经本申请的发明人研究发现，现有的触控走线层一般采用条状实心金属走线，但因相关设备的精度需求，使得现有技术无法将触控走线层的线宽做到极窄。一般来说，现有单条触控走线层宽度为20-30微米，这就导致分布在触摸屏四周的多条触控走线层需占用较大区域，现有的触摸屏必须设置盖板以解决视觉上触控走线层可见问题，进而使得现有的触摸屏无法满足窄边框产品的设计需求。
为解决由于触控走线层可见导致的现有触摸屏无法满足窄边框产品的设计需求的技术问题，本发明实施例提供了一种触控基板及其制作方法、显示装置。
实施例一
图1为本发明实施例一提供的触控基板的一个结构示意图，如图1所示，本发明实施例提供的触控基板，包括：基底10和设置在基底10上的触控走线层；触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案。
可选地，基底10可以为柔性基底，也即所采用的基底的材料为柔性材料，例如聚酰亚胺等，基底10也可以玻璃、塑料等材料，本发明对此不作任何限定。
可选地，触控走线层包括：第一金属层21；第一金属层21包括多个金属线形成的镂空图案210。
可选地，第一金属层21的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，可以使得触控走线层具有良好的导电性，本发明对此不作任何限定。
可选地，第一金属层21的线宽为4-6微米。
可选地，镂空图案210包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种，也即触控走线层上的各个镂空图案可以全部相同，也可以是全部不同，也可以是部分相同，本发明对此不作任何限定，图1是以触控走线层的部分镂空图案的相同为例进行说明的。
具体的，触控基板包括：触控区域和边框区域，其中，触控走线层设置在边框区域，触控区域不包括金属走线层，仅在边框区域形成触控走线层，从而避免了金属消影的问题。需要说明的是，触控电极通过触控走线层连接至柔性印刷电路板上。
具体的，触控走线层中的各个镂空图案沿触控走线层的延伸方向排列，其中，排列方式可以包括：依次排列或者错位排列，需要说明的是，各个镂空图案是间隔设置的，两相邻的镂空图案之间间距根据具体情况可以限定，且沿触控走线层的延伸方向依次设置的镂空图案的图形可以相同，也可以不同。优选设置图案相同的镂空图案，可以方便触控走线层的制备。
本发明实施例提供的触控基板包括：基底和设置在基底上的触控走线层；其中，触控走线层包括：多个金属线形成的镂空图案，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层的宽度较小，减小了触控走线层占用区域，即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。
可选地，图2为本发明实施例一提供的触控基板的另一结构示意图，如图2所示，该触控基板还包括：绝缘层30和触控层40。
具体的，触控层40通过绝缘层30过孔与触控走线层连接；绝缘层30设置在触控走线层远离基底10的一侧。
可选地，绝缘层30的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
可选地，触控层40的材料为氧化铟锡。
本发明实施例通过在触控走线层上增加绝缘层和触控层，能够实现分布在显示屏四周的触控走线层不仅视觉不可见，而且还能够实现触控功能，进一步地，达到了显示屏在视觉上和触控上无边框的效果，满足了窄边框的产品设计需求。
实施例二
图3为本发明实施例二提供的触控基板的一个结构示意图，如图3所示，本发明实施例提供的触控基板，包括：基底10和设置在基底10上的触控走线层；触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案。
其中，基底10可以为柔性基底，也即所采用的基底的材料为柔性材料，例如聚酰亚胺等，基底10也可以玻璃、塑料等材料，本发明对此不作任何限定。
可选地，触控走线层包括：第一金属层21、透明导电层22和第二金属层23。
第一金属层21和第二金属层23包括多个金属线形成的镂空图案；透明导电层22和第二金属层23依次设置在第一金属层21远离基底10的一侧。
可选地，第一金属层21的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，第二金属层23的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，需要了解的是，第一金属层21和第二金属层23的材料可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
本实施例中的触控走线层包括第一金属层和第二金属层可以使得触控走线层具有良好的导电性，本发明对此不作任何限定。
可选地，第一金属层21的线宽为4-6微米，第二金属层23的线宽为4-6微米。需要了解的是，第一金属层21的线宽和第二金属层23的线宽可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
可选地，透明导电层22的材料为氧化铟锡。
本发明实施例采用第一金属层、透明导电层和第二金属层的三层结构的触控走线层，能够改善因触控走线层变细带来触控走线层阻值升高问题。
可选地，镂空图案包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种，也即触控走线层上的各个镂空图案可以全部相同，也可以是全部不同，也可以是部分相同，本发明对此不作任何限定，图3是以触控走线层的部分镂空图案的相同为例进行说明的。
具体的，触控基板包括：触控区域和边框区域，其中，触控走线层设置在边框区域，触控区域不包括金属走线层，仅在边框区域形成触控走线层，从而避免了金属消影的问题。需要说明的是，触控电极通过触控走线层连接至柔性印刷电路板上。
具体的，触控走线层中的各个镂空图案沿触控走线层的延伸方向排列，其中，排列方式可以包括：依次排列或者错位排列，需要说明的是，各个镂空图案是间隔设置的，两相邻的镂空图案之间间距根据具体情况可以限定，且沿触控走线层的延伸方向依次设置的镂空图案的图形可以相同，也可以不同。优选设置图案相同的镂空图案，可以方便触控走线层的制备。
本发明实施例提供的触控基板包括：基底和设置在基底上的触控走线层；其中，触控走线层包括：多个金属线形成的镂空图案，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层的宽度较小，减小了触控走线层占用区域，即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。
可选地，图4为本发明实施例二提供的触控基板的另一结构示意图，如图4所示，该触控基板还包括：绝缘层30和触控层40。
具体的，触控层40通过绝缘层30过孔与触控走线层连接；绝缘层30设置在触控走线层远离基底10的一侧。
可选地，绝缘层30的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
可选地，触控层40的材料为氧化铟锡。
本发明实施例通过在触控走线层上增加绝缘层和触控层，能够实现分布在显示屏四周的触控走线层不仅视觉不可见，而且还能够实现触控功能，进一步地，达到了显示屏在视觉上和触控上无边框的效果，满足了窄边框的产品设计需求。
实施例三
基于实施例一的发明构思，图5为本发明实施例三提供的触控基板的制作方法的流程图，如图5所示，该触控基板的制作方法具体包括以下步骤：
步骤100、提供一基底。
可选地，基底可以为柔性基底，也即所采用的基底的材料为柔性材料，例如聚酰亚胺等，基底也可以玻璃、塑料等材料，本发明对此不作任何限定。
步骤200、在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层。
具体的，步骤200具体包括：在基底上沉积第一金属薄膜；通过构图工艺形成包括多个金属线形成的镂空图案的第一金属层。
可选地，第一金属薄膜的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，可以使得触控走线层具有良好的导电性，本发明对此不作任何限定。
具体的，采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第一金属薄膜。
可选地，第一金属层的线宽为4-6微米。
可选地，镂空图案包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种，也即触控走线层上的各个镂空图案可以全部相同，也可以是全部不同，也可以是部分相同，本发明对此不作任何限定。
具体的，构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和剥离。需要了解的是，构图工艺采用的是现有技术形成触控走线层的掩膜板，也就是说，本发明实施例提供的制作方法，并未增加掩膜板数量，也即并未增加制作工艺的复杂度。
具体的，触控走线层中的各个镂空图案沿触控走线层的延伸方向排列，其中，排列方式可以包括：依次排列或者错位排列，需要说明的是，各个镂空图案是间隔设置的，两相邻的镂空图案之间间距根据具体情况可以限定，且沿触控走线层的延伸方向依次设置的镂空图案的图形可以相同，也可以不同。优选设置图案相同的镂空图案，可以方便触控走线层的制备。
本发明实施例提供的触控基板的制作方法，包括：提供一基底，在基底上沉积具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层的宽度较小，减小了触控走线层占用区域，即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。
可选地，本发明实施例提供的触控基板的制作方法，在步骤200之后，该方法还包括：触控走线层上涂覆绝缘薄膜；通过刻蚀处理形成绝缘层。
可选地，绝缘层的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
可选地，在通过刻蚀处理形成绝缘层之后，该方法还包括：在绝缘层上形成过孔。
可选地，在绝缘层上形成过孔之后，该方法还包括：在绝缘层上沉积第二透明导电薄膜；通过构图工艺形成触控层。
可选地，第二透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
本发明实施例通过在触控走线层上增加绝缘层和触控层，能够实现分布在显示屏四周的触控走线层不仅视觉不可见，而且还能够实现触控功能，进一步地，达到了显示屏在视觉上和触控上无边框的效果，满足了窄边框的产品设计需求。
下面结合图6A-图6C，进一步地具体描述本发明实施例三提供的触控基板的制作方法。其中，构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、剥离等工艺步骤。
步骤301、提供一基底10，并在基底10上沉积第一金属薄膜210，具体如图6A所示。
具体的，采用CVD工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第一金属薄膜。
其中，基底10可以为柔性基底，也即所采用的基底的材料为柔性材料，例如聚酰亚胺等，基底也可以玻璃、塑料等材料。
可选地，第一金属薄膜210的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属。
步骤302、通过构图工艺对第一金属薄膜210进行处理，形成具有镂空图案的第一金属层21，具体如图6B所示。
可选地，第一金属层21的线宽为4-6微米。
步骤303、在第一金属层21上涂覆绝缘薄膜，通过刻蚀处理形成绝缘层30，并在绝缘层30上形成过孔，具体如图6C所示。
可选地，绝缘薄膜的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
步骤304、在绝缘层30上沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控层40，具体如图2所示。
具体的，采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第二透明导电薄膜。
可选地，第二透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
实施例四
基于实施例二的发明构思，本发明实施例提供一种触控基板的制作方法的流程图，该触控基板的制作方法具体包括以下步骤：
步骤100、提供一基底。
可选地，基底可以为柔性基底，也即所采用的基底的材料为柔性材料，例如聚酰亚胺等，基底也可以玻璃、塑料等材料，本发明对此不作任何限定。
步骤200、在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层。
具体的，步骤200具体包括：在基底上沉积第一金属薄膜；通过构图工艺形成包括多个金属线形成的镂空图案的第一金属层；在第一金属层上沉积第一透明导电薄膜；通过构图工艺形成透明导电层；在透明导电层上沉积第二金属薄膜；通过构图工艺，形成包括多个金属线形成的镂空图案的第二金属层。
可选地，第一金属薄膜的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，第二金属薄膜的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，需要了解的是，第一金属薄膜和第二金属薄膜的材料可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
具体的，采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第一金属薄膜、第一透明导电薄膜和第二金属薄膜。
可选地，第一金属层的线宽为4-6微米，第二金属层的线宽为4-6微米。需要了解的是，第一金属层的线宽和第二金属层的线宽可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
可选地，第一透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
本发明实施例采用第一金属层、透明导电层和第二金属层的三层结构的触控走线层，能够改善因触控走线层变细带来触控走线层阻值升高问题。
可选地，镂空图案包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种，也即触控走线层上的各个镂空图案可以全部相同，也可以是全部不同，也可以是部分相同，本发明对此不作任何限定。
具体的，构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀和剥离。需要了解的是，构图工艺采用的是现有技术形成触控走线层的掩膜板，也就是说，本发明实施例提供的制作方法，并未增加掩膜板数量，也即并未增加制作工艺的复杂度。
具体的，触控走线层中的各个镂空图案沿触控走线层的延伸方向排列，其中，排列方式可以包括：依次排列或者错位排列，需要说明的是，各个镂空图案是间隔设置的，两相邻的镂空图案之间间距根据具体情况可以限定，且沿触控走线层的延伸方向依次设置的镂空图案的图形可以相同，也可以不同。优选设置图案相同的镂空图案，可以方便触控走线层的制备。
本发明实施例提供的触控基板的制作方法，包括：提供一基底，在基底上沉积具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层，本发明实施例的技术方案中的触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案，使得触控走线层的宽度较小，减小了触控走线层占用区域，即使外漏，人眼几乎无法分辨，解决视觉上触控走线层可见的问题，使得在触控屏上不需设置盖板来防止触控走线层外漏，实现了触控屏的窄边框的设计要求。
可选地，本发明实施例提供的触控基板的制作方法，在步骤200之后，该方法还包括：触控走线层上涂覆绝缘薄膜；通过刻蚀处理形成绝缘层。
可选地，绝缘层的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
可选地，在通过刻蚀处理形成绝缘层之后，该方法还包括：在绝缘层上形成过孔。
可选地，在绝缘层上形成过孔之后，该方法还包括：在绝缘层上沉积第二透明导电薄膜；通过构图工艺形成触控层。
可选地，第二透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
本发明实施例通过在触控走线层上增加绝缘层和触控层，能够实现分布在显示屏四周的触控走线层不仅视觉不可见，而且还能够实现触控功能，进一步地，达到了显示屏在视觉上和触控上无边框的效果，满足了窄边框的产品设计需求。
下面结合图7A-图7D，进一步地具体描述本发明实施例四提供的触控基板的制作方法。其中，构图工艺包括：光刻胶涂覆、曝光、显影、刻蚀、剥离等工艺步骤。
步骤401、提供一基底10，并在基底10上形成包括具有镂空图案的第一金属层21。
具体的，步骤401与实施例三中提供的步骤301和步骤302相同，在此不再赘述。
步骤402、在第一金属层21上沉积第一透明导电薄膜220，并覆盖整个基底10，具体如图7A所示。
具体的，采用CVD工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第一透明导电薄膜。
可选地，第一透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
步骤403、通过构图工艺对第一透明导电薄膜220进行处理形成透明导电层22，具体如图7B所示。
步骤404、在透明导电层22上沉积第二金属薄膜，通过构图工艺形成第二金属层23，具体如图7C所示。
可选地，第二金属薄膜的材料可以是铜、铁、铝和钼等金属，需要了解的是，第一金属薄膜和第二金属薄膜的材料可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
可选地，第二金属层的线宽为4-6微米。需要了解的是，第一金属层的线宽和第二金属层的线宽可以相同，也可以不同，本发明对此不作任何限定。
步骤405、在第二金属层23上涂覆绝缘薄膜，通过刻蚀处理形成绝缘层30，并在绝缘层30上形成过孔，具体如图7D所示。
可选地，绝缘薄膜的材料为有机OC材料，OC材料可以为负性光刻胶。
步骤406、在绝缘层30上沉积第二透明导电薄膜，通过构图工艺形成触控层40，具体如图4所示。
具体的，采用化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition，简称CVD)工艺、蒸镀工艺或者溅射工艺沉积第二透明导电薄膜。
可选地，第二透明导电薄膜的材料为氧化铟锡。
实施例五
基于上述实施例的发明构思，本发明实施例提供了一种显示装置。该显示装置包括触控基板。
其中，触控基板为实施例一和实施例三中提供的触控基板，其实现原理和实现效果类似，在此不再赘述。
具体的，显示装置可以为：手机、平板电脑、电视机、显示器、笔记本电脑、数码相框、导航仪等任何具有显示功能的产品或部件。
在本发明实施例的描述中，需要理解的是，术语“中部”、“上”、“下”、“前”、“后”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本发明的限制。
在本发明实施例的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本发明中的具体含义。
虽然本发明所揭露的实施方式如上，但所述的内容仅为便于理解本发明而采用的实施方式，并非用以限定本发明。任何本发明所属领域内的技术人员，在不脱离本发明所揭露的精神和范围的前提下，可以在实施的形式及细节上进行任何的修改与变化，但本发明的专利保护范围，仍须以所附的权利要求书所界定的范围为准。

Claims (6)

1.一种触控基板，其特征在于，包括：基底和设置在所述基底上的触控走线层；其中，所述触控走线层包括多个金属线形成的镂空图案；
所述触控走线层包括：第一金属层、透明导电层和第二金属层；
所述第一金属层和所述第二金属层包括多个镂空图案，所述多个镂空图案间隔设置，所述多个镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列；
所述透明导电层和所述第二金属层依次设置在所述第一金属层远离所述基底的一侧；
所述触控基板还包括：绝缘层和触控层；
所述触控层通过绝缘层过孔与所述触控走线层连接；
所述绝缘层设置在所述触控走线层远离所述基底的一侧；
所述绝缘层的材料为负性光刻胶，所述触控层的材料为氧化铟锡。
2.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述镂空图案包括：三角形、四边形、六边形、圆形或椭圆形中任意一种或多种。
3.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述第一金属层和所述第二金属层的线宽为4-6微米。
4.根据权利要求1所述的触控基板，其特征在于，所述透明导电层的材料为氧化铟锡。
5.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1-4任一所述的触控基板。
6.一种触控基板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基底；
在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层，所述多个金属线形成的镂空图案间隔设置，所述多个金属线形成的镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列；
所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层，具体包括：
在基底上沉积第一金属薄膜；
通过构图工艺形成包括多个金属线形成的镂空图案的第一金属层，所述多个金属线形成的镂空图案间隔设置，所述多个金属线形成的镂空图案沿所述触控走线层的延伸方向依次排列；
在第一金属层上沉积第一透明导电薄膜；
通过构图工艺形成透明导电层；
在透明导电层上沉积第二金属薄膜；
通过构图工艺，形成包括多个金属线形成的镂空图案的第二金属层；
所述在基底上形成具有多个金属线形成的镂空图案的触控走线层之后，所述方法还包括：
在所述触控走线层上涂覆绝缘薄膜；
通过刻蚀处理形成绝缘层；
所述通过刻蚀处理形成绝缘层之后，所述方法还包括：
在绝缘层上形成过孔；
所述在绝缘层上形成过孔之后，所述方法还包括：
在绝缘层上沉积第二透明导电薄膜；
通过构图工艺形成触控层；
所述绝缘层的材料为负性光刻胶，所述触控层的材料为氧化铟锡。
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