JP6407355B2 - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Description
まず、本発明の実施の形態1による半導体装置の構成について説明する。
図9は、本発明の実施の形態2による半導体装置1の裏面電極4部分の断面の一例を示す図である。
まず、本発明の実施の形態3による半導体装置の構成について説明する。
Claims (7)
- 半導体基板と、
前記半導体基板上に、第1金属電極、第2金属電極、および第3金属電極を順に積層して形成した金属電極と、
はんだを介して前記金属電極と接合された回路基板と、
を備え、
前記第1金属電極は、TiまたはTi合金であり、
前記第2金属電極は、NiまたはNi合金であり、
前記第3金属電極は、Agと、Pd、Ni、Mg、Zn、Nd、Sn、およびBiのうちの少なくとも1以上とのAgを主成分とする合金であり、
前記第3金属電極におけるSnの含有量は、10wt%から20wt%であることを特徴とする、半導体装置。 - 半導体基板と、
前記半導体基板上に、第1金属電極、第2金属電極、および第3金属電極を順に積層して形成した金属電極と、
はんだを介して前記金属電極と接合された回路基板と、
を備え、
前記第1金属電極は、TiまたはTi合金であり、
前記第2金属電極は、NiまたはNi合金であり、
前記第3金属電極は、Agと、Pd、Ni、Mg、Zn、Nd、Sn、およびBiのうちの少なくとも1以上との合金であり、
前記第2金属電極と前記第3金属電極との間にAgからなる金属膜をさらに備えることを特徴とする、半導体装置。 - 前記半導体基板における前記金属電極を形成する主面側の層は、n型半導体層であることを特徴とする、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記第3金属電極におけるSnの含有量は、0.1wt%から20wt%であることを特徴とする、請求項2または3に記載の半導体装置。
- (a)半導体基板を準備する工程と、
(b)前記半導体基板の表面上に表面電極を形成する工程と、
(c)前記半導体基板の裏面上に、第1金属電極、第2金属電極、および第3金属電極を順に積層して裏面電極を形成する工程と、
(d)前記表面電極にプローブを接触させて大気中において0℃から180℃までの温度範囲で電気特性検査を行う工程と、
を備え、
前記工程(c)において、
前記第1金属電極は、TiまたはTi合金であり、
前記第2金属電極は、NiまたはNi合金であり、
前記第3金属電極は、Agと、Pd、Ni、Cu、Mg、Zn、Nd、Sn、およびBiのうちの少なくとも1以上との合金であり、
前記第2金属電極と前記第3金属電極との間にAgからなる金属膜をさらに備え、
前記工程(d)の後、
(e)前記裏面電極と回路基板とを、はんだを介して接合する工程をさらに備えることを特徴とする、半導体装置の製造方法。 - (a)半導体基板を準備する工程と、
(b)前記半導体基板上に、第1金属電極、第2金属電極、および第3金属電極を順に積層して金属電極を形成する工程と、
を備え、
前記工程(b)において、
前記第1金属電極は、TiまたはTi合金であり、
前記第2金属電極は、NiまたはNi合金であり、
前記第3金属電極は、Agと、Pd、Ni、Cu、Mg、Zn、Nd、Sn、およびBiのうちの少なくとも1以上との合金であり、
前記第2金属電極と前記第3金属電極との間にAgからなる金属膜をさらに形成し、
(c)はんだを介して前記金属電極と回路基板とを接合する工程をさらに備えることを特徴とする、半導体装置の製造方法。 - (a)半導体基板を準備する工程と、
(b)前記半導体基板上に、第1金属電極、第2金属電極、および第3金属電極を順に積層して金属電極を形成する工程と、
を備え、
前記工程(b)において、
前記第1金属電極は、TiまたはTi合金であり、
前記第2金属電極は、NiまたはNi合金であり、
前記第3金属電極は、Agと、Pd、Ni、Mg、Zn、Nd、Sn、およびBiのうちの少なくとも1以上とのAgを主成分とする合金であり、
前記第3金属電極におけるSnの含有量は、10wt%から20wt%であり、
(c)はんだを介して前記金属電極と回路基板とを接合する工程をさらに備えることを特徴とする、半導体装置の製造方法。
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