JP6373708B2 - プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - Google Patents
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Description
<1.1 スパッタリング装置の構成>
図1は、実施形態に係るスパッタリング装置10の概略構成を示す側面図である。図2は、高周波アンテナ80の例を示す側面図である。以下に、図1、図2を参照しつつ、スパッタリング装置10の構成について説明する。
図4は、本実施形態における処理の一例を示すフロー図である。以下では、図4を参照しつつ、処理の流れについて説明する。特に、ステップST1は成膜処理の前段階に行われる設定工程に相当し、ステップST2〜ST4はプラズマ処理工程に相当する。
スパッタ成膜処理で基板74の主面に均質な成膜を行うためには、チャンバー11内における反応性ガスの分布が基板74の幅方向(Y方向)に沿って均一であることが望ましい。
以上、本発明の実施の形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
19 スパッタガス供給部
20、22a、22b 開口部
21 反応性ガス供給部
21a 第1供給部
21b 第2供給部
74 基板
111 分光器
190a、190b 反応性ガス供給源
191 スパッタガス供給源
192 流量コントローラ
193 流量コントローラ
200 制御部
Claims (10)
- プラズマが生成される処理空間にガスを供給しつつ、前記処理空間内を搬送方向に沿って搬送される基材に対してプラズマ処理を実行するプラズマ処理装置であって、
前記処理空間内で前記搬送方向に沿って前記基材を搬送する搬送部と、
予め設定された一定の第1供給量で少なくとも1つの第1開口部から前記処理空間内に前記ガスを供給する少なくとも1つの第1供給部と、
第2供給量で少なくとも1つの第2開口部から前記処理空間内に前記ガスを供給する少なくとも1つの第2供給部と、
前記処理空間のうち中央側に存在する前記ガスの量を測定し、その測定結果に応じて前記処理空間における前記ガスの分布が均一になるようにフィードバック制御を行って、前記プラズマ処理中における前記第2供給量を調整する調整部と、
前記処理空間内にプラズマを生成するプラズマ生成部と、
を備え、
前記少なくとも1つの第1供給部からの前記ガスの供給量は、前記少なくとも1つの第2供給部だけから前記ガスを供給した場合に前記処理空間において生じるガス密度の空間的な密度差をキャンセルする条件に基づいて設定され、
前記処理空間のうち前記基材の主面に平行な面内で前記搬送方向と直交する幅方向に沿って、前記少なくとも1つ前記第1開口部と前記少なくとも1つの第2開口部とが交互に配されることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1に記載のプラズマ処理装置であって、
前記第1開口部は前記基材の前記主面のうちプラズマ処理の対象とならない非処理領域に向けて開口し、前記第2開口部は前記基材の前記主面のうちプラズマ処理の対象となる処理領域に向けて開口することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1または請求項2に記載のプラズマ処理装置であって、
前記基材は矩形状であり、前記基材の前記幅方向の長さが700mm(ミリメートル)以上であることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記ガスは酸素であり、
前記プラズマ処理では、前記処理空間内でアルミニウムターゲットをスパッタし、当該アルミニウムターゲットに対向する前記基材上に酸化アルミニウムを成膜することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載のプラズマ処理装置であって、
前記調整部は、前記第2供給量をプラズマエミッションモニター(PEM)法により調整することを特徴とするプラズマ処理装置。 - プラズマが生成される処理空間にガスを供給しつつ、前記処理空間内を搬送方向に沿って搬送される基材に対してプラズマ処理を実行するプラズマ処理方法であって、
少なくとも1つの第1開口部から前記処理空間に前記ガスを供給する際の第1供給量を設定する設定工程と、
前記プラズマ処理を実行するプラズマ処理工程と、
を備え、
前記プラズマ処理工程は、
少なくとも1つの第1供給部が前記少なくとも1つの第1開口部から一定の前記第1供給量で前記処理空間内に前記ガスを供給する第1供給工程と、
少なくとも1つの第2供給部が少なくとも1つの第2開口部から第2供給量で前記処理空間内に前記ガスを供給する第2供給工程と、
前記処理空間のうち中央側に存在する前記ガスの量を測定し、その測定結果に応じて前記処理空間における前記ガスの分布が均一になるようにフィードバック制御を行って前記第2供給量を調整する調整工程と、
前記処理空間内にプラズマを生成するプラズマ生成工程と、
前記処理空間内で前記搬送方向に沿って前記基材を搬送する搬送工程と、
を有し、
前記少なくとも1つの第1供給部からの前記ガスの供給量は、前記少なくとも1つの第2供給部だけから前記ガスを供給した場合に前記処理空間において生じるガス密度の空間的な密度差をキャンセルする条件に基づいて設定され、
前記処理空間のうち前記基材の主面に平行な面内で前記搬送方向と直交する幅方向に沿って、前記少なくとも1つの第1開口部と前記少なくとも1つの第2開口部とが交互に配されることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6に記載のプラズマ処理方法であって、
前記第1開口部は前記基材の前記主面のうちプラズマ処理の対象とならない非処理領域に向けて開口し、前記第2開口部は前記基材の前記主面のうちプラズマ処理の対象となる処理領域に向けて開口することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6または請求項7に記載のプラズマ処理方法であって、
前記基材は矩形状であり、前記基材の前記幅方向の長さが700mm(ミリメートル)以上であることを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6ないし請求項8のいずれかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記ガスは酸素であり、
前記プラズマ処理工程では、前記処理空間内でアルミニウムターゲットをスパッタし、当該アルミニウムターゲットに対向する前記基材上に酸化アルミニウムを成膜することを特徴とするプラズマ処理方法。 - 請求項6ないし請求項9のいずれかに記載のプラズマ処理方法であって、
前記調整工程では、前記第2供給量をプラズマエミッションモニター(PEM)法により調整することを特徴とするプラズマ処理方法。
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