JP6373204B2 - 電子回路作成用シート - Google Patents
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Description
(基材の作成)
カナディアンスタンダードフリーネス(CSF)530mlに叩解したL−BKP(広葉樹さらしクラフトパルプ)100質量部を水中に分散したパルプスラリーに対して、填料としてタルク(Tライト83:太平タルク社製)5質量部、硫酸バンド1.0質量部、酸性ロジンサイズ剤(AL−1200:星光PMC社製)0.25質量部、カチオン化澱粉(ネオタック40T:日本食品加工社製)1.0質量部を添加して分散し、原料スラリーを得た。得られた原料スラリーを用いて長網式抄紙機を用いて抄造し、紙匹を得た。その後、酸化澱粉(MS#3800:日本食品加工社製)を前記紙匹の両面に乾燥塗布量が片面あたり1.0g/m2となるようにサイズプレスで塗布し、乾燥させて、坪量170g/m2の上質紙を得た。
顔料としてシリカ(ニップジェルAZ−410、平均粒子径4.0μm、細孔容積1.8cm3/g、東ソー・シリカ社製)100質量部と、結着剤としてポリビニルアルコール(PVA117:クラレ社製)20質量部及びエチレン−酢酸ビニル(ポリゾールEVA AD−10:昭和高分子社製)50質量部からなる固形分濃度20質量%の中間層用塗料を得た。続いて、この中間層用塗料をエアーナイフコーターで絶乾塗工量が10g/m2となるように前記上質紙の片面に塗工し、乾燥して中間層を塗設した。
次いで、微小粒子としてコロイダルシリカ(スノーテックスAK、一次粒子径10〜15nm:日産化学工業社製)100質量部と、結着剤としてポリビニルアルコール(9−88:クラレ社製)3質量部とアクリル樹脂(AC−501:DIC社製)1質量部と、帯電防止剤として四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)3質量部とを水中に分散してミキサーで撹拌し、固形分濃度20%の塗工層用の塗工液を得た。この塗工層用の塗工液を前記中間層の上にバーコーターで絶乾塗工量が5g/m2となるように塗工し、塗工膜を設けた。次いで、凝固液として、凝固剤であるホウ酸を1%及びホウ酸ナトリウムを1%含む水溶液(凝固液の濃度は2.0%)を、前記塗工膜が湿潤状態にあるうちに、絶乾塗布量が1g/m2となるように塗工膜に塗布して塗工膜の凝固処理を行ったのち、凝固処理を行った塗工膜が湿潤状態にあるうちに表面温度105℃のキャストドラムに圧着して乾燥させ、電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)の添加量を0.1質量部とした以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)の添加量を70質量部とした以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)3質量部を、ポリアミジン系高分子(SC−700M:ハイモ社製)3質量部に変更した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)3質量部を、硫酸マグネシウム3質量部に変更した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)3質量部を、ポリアミン系高分子(ジェットフィックス38A:里田化工社製)3質量部に変更した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、コロイダルシリカ(スノーテックスAK、一次粒子径10〜15nm:日産化学工業社製)100質量部に換えて、アルミナ(TM−300:大明化学工業社製、BET比表面積220m2/g)55質量部と、ベーマイト(C06:大明化学工業社製、BET比表面積16m2/g)45質量部とを添加した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、コロイダルシリカ(スノーテックスAK、一次粒子径10〜15nm:日産化学工業社製)100質量部に換えて、気相法シリカ(HDK N20:ワッカー社製、BET比表面積200m2/g)100質量部を添加した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、コロイダルシリカ(スノーテックスAK、一次粒子径10〜15nm:日産化学工業社製)の添加量を40質量部とし、更に、気相法シリカ(HDK N20:ワッカー社製)60質量部を添加した以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例9において、凝固液を、ホウ酸を1%、ホウ酸ナトリウムを1%、コロイダルシリカ(スノーテックス20L、一次粒子径40〜50nm:日産化学工業社製)1%を含む水溶液(凝固液の濃度は3.0%)とした以外は実施例9と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、帯電防止剤である四級アンモニウム塩系高分子(HP−271A:センカ社製)を添加しなかった以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1において、 コロイダルシリカ(スノーテックスAK、一次粒子径10〜15nm:日産化学工業社製)を添加しなかった以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
実施例1の塗工層の形成において、塗工層用の塗工液を中間層の上にバーコーターで絶乾塗工量が5g/m2となるように塗工して塗工膜を設けた後、凝固液による塗工膜の凝固処理とキャストドラムによる乾燥を行わず、105℃のエアドライヤーで塗工膜を乾燥させて塗工層を設けた以外は実施例1と同様にして電子回路作成用シートを作製した。
電子回路作成用シートの塗工層の表面抵抗率を測定した。塗工層の表面抵抗率は超絶縁計(SM−8220:日置電機社製)にて測定した。1.0×107MΩ(MΩ=106Ω)を超えると、静電気の影響を受けやすく、ゴミやホコリが付着しやすくなり、結果的に電子回路の安定的な導電性発現に劣る。
(2)導電安定性評価:
電子回路作成用シートの塗工層表面に、銀粒子を導電性主成分とした導電性インクを詰めたペン(導電性インクマーカー(Silver Ink Marker):AgIC社製)を使って手書きで回路図を描画した。回路図の描画は、描画線の長さ10cmあたり約2秒の速さで行い、重ね書きをせずに描画した。描画後、23℃×50%rhの室温条件で1時間放置し、その後、一日毎に掃除用のハタキ(ささっとはたきNEO:LEC社製)で回路図の表面を3回なぞり、微弱な静電気が発生するようにする作業を7日間続けた。その後に前記回路に市販のコイン型リチウム電池(型番CR2032)と市販の青色LED(青色発光ダイオード)を繋げた。LEDが発光するか否かで以下の様に評価した。
○:LEDが発光し、静電気が生じても安定した導電性を発揮できる。合格。
△:LEDは発光するが、不安定であり、導電性が安定しない。不合格。
×:LEDが発光せず、導電性が発現していない。不合格。
Claims (6)
- 導電性インクを使用して電子回路を描画するための電子回路作成用シートであって、
基材の少なくとも片面に、微小粒子と結着剤と帯電防止剤とを含有する塗工層が設けられ、かつ前記基材が紙であり、
前記微小粒子が、シリカ、アルミナ、ベーマイトから選ばれる1種以上であり、
かつ、前記塗工層がキャストコート層であり、かつ前記塗工層の表面抵抗率が8.2×10 3 〜8.0×10 6 MΩであることを特徴とする電子回路作成用シート。 - 帯電防止剤が、硫酸マグネシウム、四級アンモニウム塩系高分子、ポリアミジン系高分子、ポリアミン系高分子から選ばれる1種以上である、請求項1に記載の電子回路作成用シート。
- 前記シリカが気相法シリカ及び/又は一次粒子径が5〜100nmであるコロイダルシリカであることを特徴とする請求項1または2に記載の電子回路作成用シート。
- 導電性インクを使用して電子回路を描画するための電子回路作成用シートの製造方法であって、
基材としての紙の少なくとも片面に、シリカ、アルミナ、ベーマイトから選ばれる1種以上の微小粒子と結着剤と帯電防止剤とを含有する塗工液を塗工する工程と、
該塗工液を塗工して得られた塗工膜を、塗工膜が湿潤している状態で鏡面体に圧着し、乾燥させて塗工層を得る工程と、
を有することを特徴とする前記塗工層の表面抵抗率が8.2×10 3 〜8.0×10 6 MΩである電子回路作成用シートの製造方法。 - 前記塗工層を得る工程において、前記塗工液の塗工後に塗工膜が湿潤状態にあるうちに、前記塗工膜を凝固させる成分を含有する凝固液を前記塗工膜に塗布又は含浸させ、その後鏡面体に圧着し、乾燥させて塗工層を得ることを特徴とする請求項4に記載の電子回路作成用シートの製造方法。
- 帯電防止剤が、硫酸マグネシウム、四級アンモニウム塩系高分子、ポリアミジン系高分子、ポリアミン系高分子から選ばれる1種以上である、請求項4または5に記載の電子回路作成用シートの製造方法。
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