JP6372247B2 - 貫通電極基板の製造方法および粘着シート - Google Patents
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Description
[貫通電極基板10の構成]
図1は、本発明の第1実施形態における貫通電極基板を説明する上面図である。図2は、本発明の第1実施形態における貫通電極基板の断面構造(図1における断面線A−A’の断面構造)を説明する図である。貫通電極基板10は、基板100、貫通電極161、162、絶縁層210、220、および配線311、312、321、322を備える。基板100には、第1面101側と第2面102側とに貫通した孔(貫通孔151、152)が形成されている。
続いて、貫通電極基板10を製造する方法について、図3〜図6を用いて説明する。
エッチング条件等を調整すればよい。
図7は、本発明の第1実施形態における粘着シートの構造を説明する図である。粘着シート510は、基材となるフィルム515、導電性粘着層512および支持粘着層514を含む。フィルム515の一方の面には導電性粘着層512が配置され、他方の面には支持粘着層514が配置されている。上記の貫通電極基板10の製造方法の例では、導電性粘着層512には基板100が貼り合わされ、支持粘着層514には支持基板610が貼り合わされている。なお、粘着シート510が使用される前には、粘着シート510の両面にセパレータ(剥離ライナー)が配置されていてもよい。
図8は、本発明の第2実施形態における粘着シートの構造を説明する図である。第2実施形態における粘着シート510Aは、導電性粘着層512Aとフィルム515との間に導電層513Aが形成されている。導電層513Aは、例えば、アルミニウム、銅等の金属箔である。導電層513Aはフィルム515の表面全体に形成されている場合に限らず、一部に形成されていてもよい。すなわち、フィルム515の表面の少なくとも一部に導電領域を形成していればよいが、上述した周辺部550に相当する領域を含め、導電領域が孤立して存在する領域をできるだけ少なくすることが望ましい。
図9は、本発明の第3実施形態における粘着シートの構造を説明する図である。第3実施形態における粘着シート510Bは、パターンが形成された粘着層512Bを備えている。この例では、粘着層512Bは、開口部EAが形成されている。開口部EAにおいては、導電層513Bが露出されている。図示していないが、周辺部550に相当する領域においても、同様に導電層513Bが露出されている。なお、粘着層512Bは、上述した導電性粘着層とは異なり、導電性材料が分散されていない。
図10は、本発明の第4実施形態における粘着層付き支持基板の構造を説明する図である。この例における粘着層付き支持基板600は、第1実施形態における粘着シート510における基材(フィルム515)をガラス基板等の支持基板610に置き換えたものであって、粘着シートの一例ともいえる。
図11は、本発明の第5実施形態における粘着層付き支持基板の構造を説明する図である。この例における粘着層付き支持基板600Aは、第2実施形態における粘着シート510Aにおける基材(フィルム515)をガラス基板等の支持基板610に置き換えたものであって、粘着シートの一例ともいえる。支持基板610をガラス基板ではなく、ステンレス基板等の導電性材料で形成された基板とすれば、導電層513Aが存在しなくても同じ効果が得られる。
図12は、本発明の第6実施形態における粘着層付き支持基板の構造を説明する図である。この例における粘着層付き支持基板600Bは、第3実施形態における粘着シート510Bにおける基材(フィルム515)をガラス基板等の支持基板610に置き換えたものであって、粘着シートの一例ともいえる。以下、第6実施形態における粘着層付き支持基板600Bを用いた貫通電極基板の製造方法について説明する。
続いて、上記の各実施形態において説明した粘着シートは、電解めっき処理のシード層の機能を持たせるために、必要な電流を供給するだけでなく導電層の成長速度の分布が少なくなるように、シート抵抗を低減する必要がある。
第1実施形態においては、粘着シート510を貼り付ける前には、貫通孔151、152が形成される前の有底孔150が基板100に形成されていた。そして、粘着シート510および支持基板610を貼り付けた後に、基板100を薄化して有底孔150の底部を開口し、貫通孔151、152を形成した。その結果、貫通孔151、152を通して
粘着シート510の導電性粘着層を露出させた。
第8実施形態においては、上述した貫通電極基板10を用いて製造される半導体装置について説明する。
半導体装置1000が搭載された電気機器の例として、図20(a)にはスマートフォン5000を示し、図20(b)にはノート型パーソナルコンピュータ6000を示した。これらの電気機器は、アプリケーションプログラムを実行して各種機能を実現するCPU等で構成される制御部1100を有する。各種機能には、半導体装置1000からの出力信号を用いる機能が含まれる。
Claims (20)
- 第1面側に開口する有底孔が配置された第1基板の前記第1面に、導電性を有し刺激の印加により粘着力が低下する粘着層、および当該粘着層を介して前記第1基板を支持する第2基板を配置し、
前記第1面に対向する第2面から前記第1基板を薄化することにより、前記有底孔の底部を開口させた貫通孔を形成し、
前記粘着層を介して電流が供給される電解めっき処理によって、前記粘着層から前記貫通孔に導電層を成長させ、
前記粘着層に前記刺激を印加し、
前記粘着層および前記第2基板を前記第1基板から剥がすこと
を含む貫通電極基板の製造方法。 - 前記粘着層は、前記第1基板の端部より外側に拡がった周辺部を有し、
前記電流を供給する電源と前記周辺部とが電気的に接続される請求項1に記載の貫通電極基板の製造方法。 - 前記第2基板は、少なくとも前記粘着層側に導電性を有する請求項1に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 前記粘着層は、厚さ方向の導電率が面内のいずれの方向の導電率よりも高い請求項3に記載の貫通電極基板の製造方法。
- 第1面側に開口する有底孔が配置された第1基板の前記第1面に、開口部を含み刺激の印加により粘着力が低下する粘着層、および当該開口部によって露出される導電領域を含み当該粘着層を介して前記第1基板を支持する第2基板を配置し、
前記第1面に対向する第2面から前記第1基板を薄化することにより、前記有底孔の底部を開口させた貫通孔を形成し、
前記導電領域を介して電流が供給される電解めっき処理によって、前記導電領域から前記貫通孔に導電層を成長させ、
前記粘着層に前記刺激を印加し、
前記粘着層および前記第2基板を前記第1基板から剥がすこと
を含む貫通電極基板の製造方法。 - 基材と、
前記基材上に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
前記基材が接触する面とは反対側の前記粘着層の表面のシート抵抗が0.1Ω/□以上100Ω/□以下となるように前記粘着層に分散された導電性材料と、
を含み、
前記基材は、フィルムであり、
前記基材の前記粘着層が配置された面とは反対側の面に配置された第2粘着層をさらに含む粘着シート。 - 前記導電性材料は、前記シート抵抗が0.1Ω/□以上10Ω/□以下となるように前記粘着層に分散されていることを特徴とする請求項6に記載の粘着シート。
- 基材と、
前記基材上に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
前記基材から離れるほど高密度になるように前記粘着層に分散されている導電性材料と、
を含む粘着シート。 - 表面の少なくとも一部において導電性を有する導電領域を含む基材と、
前記導電領域に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
前記粘着層の厚さ方向の導電率が面内の何れかの方向の導電率よりも高くなるように前記粘着層に分散されている導電性材料と、
を含む粘着シート。 - 基材と、
前記基材上に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
面内で密度に分布を持つように前記粘着層に分散されている導電性材料と、
を含む粘着シート。 - 前記導電性材料の密度が高い領域は、面内において格子状の領域を形成する請求項10に記載の粘着シート。
- 前記粘着層には、前記刺激により当該粘着層に発泡を引き起こすカプセルが分散され、
前記カプセルの殻は、導電性材料を含む樹脂で形成されている請求項6乃至請求項11のいずれかに記載の粘着シート。 - 前記カプセルは、内部に導電性材料を含む溶剤を封入している請求項12に記載の粘着シート。
- 表面の少なくとも一部において導電性を有する導電領域を含む基材と、
前記導電領域の少なくとも一部を露出する開口部を含み、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
を含み、
前記導電領域のうち、少なくとも前記粘着層によって露出された部分には、前記刺激により発泡するカプセルが分散されている粘着シート。 - 前記基材は、フィルムであり、
前記基材の前記粘着層が配置された面とは反対側の面に配置された第2粘着層をさらに含む請求項8乃至請求項14のいずれかに記載の粘着シート。 - 表面の少なくとも一部において導電性を有する導電領域を含む基材と、
前記導電領域の少なくとも一部を露出する開口部を含み、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
を含み、
前記基材は、フィルムであり、
前記基材の前記粘着層が配置された面とは反対側の面に配置された第2粘着層をさらに含む粘着シート。 - 導電性を有する基材と、
前記基材上に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する第1粘着層と、
前記基材の前記粘着層が配置された面とは反対側の面に配置された第2粘着層と、
前記第1粘着層および前記第2粘着層に分散されている導電性材料と、
を含み、
前記基材および前記第2粘着層は、導電性を有し、
前記第1粘着層側から測定したシート抵抗および前記第2粘着層側から測定したシート抵抗は、いずれも、100Ω/□以下である粘着シート。 - 前記基材がガラス基板、シリコン基板、またはステンレス基板を含む請求項8乃至請求項14のいずれかに記載の粘着シート。
- 基材と、
前記基材上に配置され、刺激の印加により粘着力が低下する粘着層と、
前記基材が接触する面とは反対側の前記粘着層の表面のシート抵抗が0.1Ω/□以上100Ω/□以下となるように前記粘着層に分散された導電性材料と、
を含み、
前記基材がガラス基板、シリコン基板、またはステンレス基板を含む粘着シート。 - 前記導電性材料は、前記シート抵抗が0.1Ω/□以上10Ω/□以下となるように前記粘着層に分散されていることを特徴とする請求項19に記載の粘着シート。
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