JP6362782B2 - X線ナノラジオグラフィ及びナノトモグラフィの方法及び装置 - Google Patents
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Description
2 電子ビーム
3 試料
4 反射粒子及び二次粒子
5 反射粒子及び二次粒子の検出器
6 制動放射X線及び蛍光放射X線
7 イメージング検出器
8 既知の寸法を有するパターン対象物
9 走査型電子顕微鏡を用いたX線ナノラジオグラフィ及びナノトモグラフィのための装置
10 電子ビーム源
11 電子光学系
12 制御ユニット
13 データ記憶モジュール
14 計算モジュール
15 表示モジュール
16 記録モジュール
17 分配モジュール
Claims (5)
- 走査型電子顕微鏡(1)を用いたX線ナノラジオグラフィ及びナノトモグラフィの方法であって、最初に、走査型電子顕微鏡(1)から投射される電子ビーム(2)を試料(3)の表面上の点に誘導することと、さらに、所与の点の反射及び放出パラメータに関するデータを記録することを伴って、少なくとも1つの検出器(5)によって反射粒子及び二次粒子(4)を検出することと、さらに、前記試料(3)の被走査面のすべての点で走査を繰り返すことと、を含む方法において、
前記試料(3)の被走査面上の点に前記電子ビーム(2)が衝突するのと同時に、制動放射X線及び蛍光放射X線(6)が放出されることであって、このとき、前記衝突点は、前記放出される制動放射X線及び蛍光放射X線(6)の焦点でもあることと、
前記試料(3)から発射される前記制動放射X線及び蛍光放射X線(6)を、前記電子ビーム(2)の投射方向における前記試料(3)の先に配置された少なくとも1つのイメージング検出器(7)によって検出することであって、このとき、前記制動放射X線及び/または蛍光放射X線(6)の減弱の像を記録し、すべての焦点の像を記録した後に、コンピュータトモグラフィを用いて、前記試料(3)の内部構造をモデル化する
ことを特徴とする方法。 - 前記電子ビーム(2)の投射方向において非平坦面を有する前記試料(3)の先で、前記試料(3)と前記イメージング検出器(7)との間の領域に、既知の寸法を有する少なくとも1つのパターン対象物(8)を配置し、各々の焦点について、前記試料(3)及び前記既知のパターン対象物(8)の構造を示す前記制動放射X線及び/または蛍光放射X線(6)の減弱の像を記録し、前記パターン対象物(8)での放射X線(6)の減弱の像のサイズから、放射ジオメトリを用いて、前記試料からの該焦点の距離を計算し、その後、すべての焦点の像を記録した後に、前記試料(3)の表面の3Dモデル及び/または前記試料(3)のボリュームの3Dモデルを構築する
請求項1に記載の方法。 - 請求項1または2に記載の走査型電子顕微鏡(1)を用いたX線ナノラジオグラフィ及びナノトモグラフィの方法ための装置(9)であって、
電子ビーム(2)の発生源(10)と、前記電子ビーム(2)を試料(3)の被走査面上の点に集束させるための電子光学系(11)と、反射粒子及び二次粒子(4)を検出するための少なくとも1つの検出器(5)と、で構成された走査型電子顕微鏡(1)を備え、さらに、制御ユニット(12)を備える、装置において、
前記試料(3)の被検出面上の点は、制動放射X線及び蛍光放射X線(6)が放出される焦点であり、前記電子ビーム(2)の投射方向における前記試料(3)の先に、前記試料(3)での前記制動放射X線及び蛍光放射X線の減弱を検出するための少なくとも1つのイメージング検出器(7)が配置されており、前記イメージング検出器は、制御ユニット(12)に接続されている
ことを特徴とする装置。 - 前記制御ユニット(12)は、データ記憶モジュール(13)、計算モジュール(14)、表示モジュール(15)、記録モジュール(16)、及び分配モジュール(17)、からなるモジュール群からの少なくとも1つのモジュールを有する
請求項3に記載の装置。 - 前記試料(3)と前記イメージング検出器(7)との間に、既知の寸法を有する少なくとも1つのパターン対象物(8)が配置されており、前記制御ユニット(12)は、前記制動放射X線及び蛍光放射X線(6)の強度の減弱によって取得された前記試料の像の拡大率を評価するように構成されている
請求項3または4に記載の装置。
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