JP6335882B2 - 積層フィルムの製造方法 - Google Patents
積層フィルムの製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6335882B2 JP6335882B2 JP2015508065A JP2015508065A JP6335882B2 JP 6335882 B2 JP6335882 B2 JP 6335882B2 JP 2015508065 A JP2015508065 A JP 2015508065A JP 2015508065 A JP2015508065 A JP 2015508065A JP 6335882 B2 JP6335882 B2 JP 6335882B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- film
- island
- peeling
- release film
- adhesive film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J123/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J123/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09J123/10—Homopolymers or copolymers of propene
- C09J123/14—Copolymers of propene
- C09J123/142—Copolymers of propene at least partially crystalline copolymers of propene with other olefins
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L21/6835—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L21/6836—Wafer tapes, e.g. grinding or dicing support tapes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J123/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers
- C09J123/02—Adhesives based on homopolymers or copolymers of unsaturated aliphatic hydrocarbons having only one carbon-to-carbon double bond; Adhesives based on derivatives of such polymers not modified by chemical after-treatment
- C09J123/18—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms
- C09J123/20—Homopolymers or copolymers of hydrocarbons having four or more carbon atoms having four to nine carbon atoms
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
- C09J7/40—Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners
- C09J7/405—Adhesives in the form of films or foils characterised by release liners characterised by the substrate of the release liner
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/70—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components formed in or on a common substrate or of parts thereof; Manufacture of integrated circuit devices or of parts thereof
- H01L21/77—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate
- H01L21/78—Manufacture or treatment of devices consisting of a plurality of solid state components or integrated circuits formed in, or on, a common substrate with subsequent division of the substrate into plural individual devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
- C09J2203/326—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for bonding electronic components such as wafers, chips or semiconductors
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
- C09J2301/20—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself
- C09J2301/204—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the structural features of the adhesive itself the adhesive coating being discontinuous
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2221/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof covered by H01L21/00
- H01L2221/67—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L2221/683—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
- H01L2221/68304—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support
- H01L2221/68327—Apparatus for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using temporarily an auxiliary support used during dicing or grinding
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Adhesive Tapes (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
- Dicing (AREA)
- Lining Or Joining Of Plastics Or The Like (AREA)
Description
[2] 前記第一の剥離部が、前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2と、前記周縁部A1と前記周縁部B2とを連結する連結部Cとを含み、かつ前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1とを含まない、[1]に記載の積層フィルムの製造方法。
[3] 前記第一の剥離部は、前記離型フィルムの長尺方向に沿って、前記周縁部A1、前記連結部Cおよび前記周縁部B2の順に剥離されるものであり、かつ前記第一の剥離部を構成する前記連結部Cは、前記島状粘着フィルムAの前記剥離方向下端部を含む、[2]に記載の積層フィルムの製造方法。
[4] 前記連結部Cは、前記離型フィルムの長尺方向に対して斜めに延びている、[2]または[3]に記載の積層フィルムの製造方法。
[5] 前記複数の島状粘着フィルムの中心を結ぶ線は、前記離型フィルムの長尺方向と平行である、[1]〜[4]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[6] 前記積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第二の剥離部を得る工程と、前記第二の剥離部を、前記離型フィルムから剥離する工程と、をさらに含み、前記第二の剥離部が、前記第一の剥離部の前記離型フィルムの幅方向他端側に設けられ、前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2の外側に隣接して設けられた外周部B2’と、前記周縁部A2と前記外周部B2’とを連結する連結部C2とを含む、[2]、[3]、または[4]に記載の積層フィルムの製造方法。
[7] 前記積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第三の剥離部を得る工程と、前記第三の剥離部を、前記離型フィルムから剥離する工程と、をさらに含み、前記第三の剥離部が、前記第一の剥離部の前記離型フィルムの幅方向一端側に設けられ、前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1の外側に隣接して設けられた外周部A1’と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1と、前記外周部A1’と前記周縁部B1とを連結する連結部C1とを含む、[2]、[3]、[4]または[6]に記載の積層フィルムの製造方法。
[8] 前記島状粘着フィルムは、円形状を有する、[1]〜[7]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[9] 前記積層フィルムは、複数の島状粘着フィルムの外周を囲み、かつ前記離型フィルムの長尺方向に沿って連続的に設けられたサイド部をさらに含む、[1]〜[8]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[10] 前記離型フィルムと前記島状粘着フィルムとのピール強度が、1〜35g/50mmである、[1]〜[9]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[11] 前記島状粘着フィルムは、半導体ウエハに貼り付けられる、[1]〜[10]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[12] 前記島状粘着フィルムは、拡張性基材層を含み、23℃における引張弾性率が100〜500MPaである1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と、プロピレン・α−オレフィン共重合体(b1)を含み、23℃における引張弾性率が8〜500MPaであるプロピレン系エラストマー組成物(B)とを含み、前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の含有量は、前記1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の合計100重量部に対して30〜70重量部である、[1]〜[11]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[13] 前記島状粘着フィルムは、前記離型フィルムと接する面に設けられた粘着剤層をさらに含み、前記粘着剤層の、SUS−304−BA板の表面に貼着されて60分間放置した後、前記SUS−304−BA板の表面から剥離されるときの、JIS Z0237に準拠して測定される粘着力が0.1〜10N/25mmである、[1]〜[12]のいずれかに記載の積層フィルムの製造方法。
[15] 長尺状の離型フィルムと、前記離型フィルム上に設けられ、長尺方向に沿って互いに隣接する島状粘着フィルムAと島状粘着フィルムBとを含む複数の島状粘着フィルムとを有する積層フィルムであって、前記島状粘着フィルムAと前記島状粘着フィルムBとの間に設けられた前記離型フィルムの露出部を有し、前記露出部の離型フィルムの表面は、前記離型フィルムの長尺方向に対して斜め方向に延びた切り込み痕を有する、積層フィルム。
[16] 前記露出部は、少なくとも前記島状粘着フィルムAの、前記離型フィルムの長尺方向一端と前記島状粘着フィルムBの、前記離型フィルムの長尺方向他端の一方または両方を含む、[14]または[15]に記載の積層フィルム。
[17] 前記複数の島状粘着フィルムの中心を結ぶ線は、前記離型フィルムの長尺方向と平行である、[14]〜[16]のいずれかに記載の積層フィルム。
[18] 前記島状粘着フィルムは、円形状を有する、[14]〜[17]のいずれかに記載の積層フィルム。
[19] 前記離型フィルムと前記島状粘着フィルムとのピール強度が、1〜35g/50mmである、[14]〜[18]のいずれかに記載の積層フィルム。
[20] 前記島状粘着フィルムは、半導体ウエハに貼り付けられる、[14]〜[19]のいずれかに記載の積層フィルム。
[21] 前記島状粘着フィルムは、拡張性基材層を含み、23℃における引張弾性率が100〜500MPaである1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と、プロピレン・α−オレフィン共重合体(b1)を含み、23℃における引張弾性率が8〜500MPaであるプロピレン系エラストマー組成物(B)とを含み、前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の含有量は、前記1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の合計100重量部に対して30〜70重量部である、[14]〜[20]のいずれかに記載の積層フィルム。
[22] 前記島状粘着フィルムは、前記離型フィルムと接する面に粘着剤層をさらに含み、前記粘着剤層の、SUS−304−BA板の表面に貼着されて60分間放置した後、前記SUS−304−BA板の表面から剥離されるときの、JIS Z0237に準拠して測定される粘着力が0.1〜10N/25mmである、[14]〜[21]のいずれかに記載の積層フィルム。
[23] [14]〜[22]のいずれかに記載の積層フィルムから、離型フィルムを少なくとも一部剥ぎとり、島状粘着フィルムの少なくとも一部を露出させる工程と、半導体ウエハに、前記少なくとも一部を露出させた島状粘着フィルムを貼り付ける工程とを含む、半導体装置の製造方法。
[24] 前記半導体ウエハをダイシングして半導体チップを得る工程と、前記島状粘着フィルムを拡張して、前記半導体チップをピックアップする工程と、を含む、[23]に記載の半導体装置の製造方法。
本発明の長尺状の積層フィルムは、長尺状の離型フィルムと、その上に設けられた複数の島状粘着フィルムとを含み、必要に応じて、複数の島状粘着フィルムの外側に設けられた一対のサイド部をさらに含みうる。本発明の長尺状の積層フィルムは、後述する積層フィルムの製造方法により得られる。
図1Aは、本発明の長尺状の積層フィルムの第一の実施形態を示す平面図である。図1Bは、図1AのA−A線断面図である。図1Aに示されるように、長尺状の積層フィルム10は、長尺状の離型フィルム11と、その上に設けられた複数の島状粘着フィルム13Aおよび13Bと、島状粘着フィルム13Aおよび13Bの外側を囲み、離型フィルム11の長尺方向に沿って設けられた一対のサイド部15−1および15−2とを含む。
図3Aは、本発明の長尺状の積層フィルムの第二の実施形態1の一例を示す平面図である。図3Bは、図3AのA−A線断面図である。図3Aに示されるように、長尺状の積層フィルム20は、長尺状の離型フィルム21と、その上に設けられた複数の島状粘着フィルム23Aおよび23Bと、島状粘着フィルム23Aおよび23Bの外側を囲み、離型フィルム21の長尺方向に沿って設けられた一対のサイド部25−1および25−2とを含む。
図4Bは、本発明の長尺状の積層フィルムの第二の実施形態2の一例を示す平面図である。図4Bに示されるように、長尺状の積層フィルム20''は、隣り合う一方の露出部27c''の延びる方向と、他方の露出部27c''の延びる方向とが、互いに同じであり、かつ露出部27c''における離型フィルム21表面の切り込み痕(点線部分)が1本である以外は図3Aとほぼ同様に構成されている。
島状粘着フィルム13Aおよび13Bは、拡張性を有する基材層を少なくとも含み、必要に応じて粘着剤層や低摩擦層、中間層などをさらに含みうる。
拡張性を有する基材層は、1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と、プロピレン系エラストマー組成物(B)とを含む。
拡張性を有する基材層に含まれる1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)は、1−ブテンを主な構成成分として含む重合体である。1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)におけるα−オレフィンは、1−ブテン以外の炭素数2〜10のα−オレフィンでありうる。炭素数2〜10のα−オレフィンの例には、エチレン、プロピレン、1−ペンテン、1−ヘキセン、1−ヘプテン、1−オクテン、1−ノネン、1−デセン等が含まれ、好ましくはエチレン、プロピレンである。1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)に含まれるα−オレフィンは、1種類であってもよいし、2種類以上を組み合わせものであってもよい。1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)に含まれる1−ブテン含有量は80モル%以上が好ましく、90モル%以上がより好ましい。80モル%未満では十分な拡張性が得られない。
拡張性を有する基材層に含まれるプロピレン系エラストマー組成物(B)は、プロピレン・α−オレフィン共重合体(b1)を主成分として含み、好ましくはポリプロピレン(b2)をさらに含む。
粘着剤層は、公知の粘着剤で構成されてよく、特に限定されないが、例えばゴム系、アクリル系およびシリコーン系等の粘着剤のほか、スチレン系エラストマーやオレフィン系エラストマーなど熱可塑性エラストマーで構成されうる。
中間層は、半導体ウエハの凹凸吸収性を有する層である。後述するように、中間層は、例えば基材層と粘着剤層との間に設けられる層としてもよく、また、粘着剤層の機能を兼ね備える層としてもよい。
低摩擦層は、必要に応じて、基材層の粘着剤層とは反対側の面に配置されうる。即ち、島状粘着フィルムを拡張する方法として、島状粘着フィルムの周縁部をリングフレームで固定しておき、島状粘着フィルムの中央部下側から、拡張機のステージを押し上げる方法がある。この際、島状粘着フィルムのステージと接する側の面の摩擦が大きいと、ステージ上でフィルムが滑り難くなり、ステージと接するフィルム部分を拡張しにくいことがある。島状粘着フィルムが、ステージと接する側の表面に配置された低摩擦層を有することで、拡張機のステージを滑りやすくし、島状粘着フィルムをより均一に拡張できる。
島状粘着フィルム13Aおよび13Bは、特に制限されず、拡張性を有する基材層の単層物であってもよいし、基材層と他の層との積層物であってもよい。基材層と他の層との積層物の例には、基材層と粘着剤層、もしくは基材層と中間層の少なくとも2層からなるフィルム;基材層と中間層と粘着剤層とがこの順に積層された3層からなるフィルム;基材層、粘着剤層および中間層の他に、低摩擦層などをさらに有する4層以上のフィルムであってもよい。
1)島状粘着フィルムを、離型フィルムに約2kgゴムロールで圧力を加えながら貼り付けた後、幅50mmに切り取って試験片を得る。得られた試験片を、温度23℃、相対湿度50%の一定環境下に30分間置く。
2)次いで、試験片の島状粘着フィルムと離型フィルムとをそれぞれクリップで固定し、180°方向に、剥離速度300mm/分で引き剥がす際の力を測定する。このピール強度の測定を2回行い、得られたピール強度の平均値を「ピール強度」(g/50mm)とする。
本発明の積層フィルムの製造方法は、1)長尺状の離型フィルムと長尺状の粘着フィルムとを含む長尺状の積層体を得る工程と、2)積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第一の剥離部を得る工程と、3)第一の剥離部を前記離型フィルムから剥離する工程とを含む。
前述の第一の実施形態の積層フィルム(例えば図1Aで示される積層フィルム)は、1)長尺状の離型フィルムと長尺状の粘着フィルムとを含む長尺状の積層体を得る工程と、2)積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第一の剥離部を得る工程と、3)第一の剥離部を離型フィルムから剥離する工程とを経て得ることができる。
長尺状の離型フィルムと、長尺状の粘着フィルムとを含む長尺状の積層体を得る。
次いで、得られた長尺状の積層体の粘着フィルムを所定の形状にプリカットして(切り込みを入れて)、切り込み線で囲まれた第一の剥離部を得る。
1)島状粘着フィルムAの離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1と、島状粘着フィルムBの離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2と、前述の周縁部A1と前述の周縁部B2とを連結する連結部Cとを含み、かつ島状粘着フィルムAの離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と島状粘着フィルムBの離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1とを含まないか(後述の図8および9A参照);あるいは
2)島状粘着フィルムAの離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1と、島状粘着フィルムBの離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1と、前述の周縁部A1と前述の周縁部B1とを連結する連結部Cとを含み、かつ島状粘着フィルムAの離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と島状粘着フィルムBの離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2とを含まないことを特徴とする(後述の図9Bおよび9C参照)。
前記2)のプリカット工程で得られた第一の剥離部を、離型フィルム11から剥離する。剥離する方法は、特に制限されないが、例えば図7に示されるように、プリカット工程で得られた第一の剥離部37を、巻き取りローラ38で巻き取って、離型フィルム11から剥離する方法が含まれる。
本発明の第二の実施形態1の積層フィルム(例えば図3Aおよび図4Aで示される積層フィルム)は、前記1)〜3)の工程に加えて、4−1)前記1)の積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第二および第三の剥離部を得る工程(後述の図10および図11A参照)と、5−1)第二および第三の剥離部を、離型フィルムから剥離する工程とをさらに経て得ることができる。
図10は、本発明の第二の実施形態における第二および第三の剥離部の形状の一例であって、図8の第一の剥離部と対応する第二および第三の剥離部を説明する平面図である。
前記4−1)のプリカット工程で得られた第二および第三の剥離部を、例えば前記3)の工程と同様にして、離型フィルム21から剥離する。
また、本発明の第二の実施形態2の積層フィルム(例えば図4Bおよび図4Cで示される積層フィルム)は、前記1)〜3)の工程に加えて、4−2)前記1)の積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第二の剥離部を得る工程(後述の図11Bおよび図11C参照)と、5−2)第二の剥離部を、離型フィルムから剥離する工程とをさらに経て得ることができる。
図11Bは、前述の図9Bの第一の剥離部に対応する第二の剥離部の一例を示す平面図である。図11Bに示されるように、第二の剥離部39''は、図9Bに示される第一の剥離部37''と対応する形状に設けられている。そして、第二の剥離部39''は、島状粘着フィルム23Aの、離型フィルムの幅方向他端側の周縁部39A2''と、島状粘着フィルム23Bの、離型フィルムの幅方向他端側の周縁部39B2''と、それらを連結する連結部39C2''とを含む。
前記4−2)のプリカット工程で得られた第二の剥離部を、例えば前記3)の工程と同様にして、離型フィルム21から剥離する。
本発明の半導体装置の製造方法は、1)本発明の積層フィルムから離型フィルムを少なくとも一部剥ぎとり、島状粘着フィルムの少なくとも一部を露出させる工程と、2)半導体ウエハに、露出させた島状粘着フィルムを貼り付ける工程とを含む。
前述で得られた島状粘着フィルム付き半導体ウエハをダイシング(切断)して、半導体チップ(半導体素子)を得る。切断手段は、特に制限されず、ダイシングソーやレーザー等であってよい。
次いで、複数の半導体チップが配置された島状粘着フィルムを拡張(エキスパンド)する。島状粘着フィルムをエクスパンド(拡張)する手段は、特に制限されず、島状粘着フィルムの裏面を支持する拡張機のステージを上昇させる方法や、島状粘着フィルム面と平行な方向に引っ張る(拡張する)方法などが含まれる。
1)低摩擦層の原料
エボリューSP2040にシリコーン樹脂(東レ・ダウ・コーニングシリコーン社製:商品名 BY27−002)を5wt%混合した混合物を準備した。
1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A1)として、三井化学(株)製 タフマーBL4000を準備した。
1)測定サンプルとして、例えば初期長さ140mm、幅10mm、厚み75〜100μmのサンプルフィルムを準備した。
2)そして、測定温度25℃、チャック間距離100mm、引張速度50mm/minで引張試験を行い、サンプルの伸びの変化量(mm)を測定した。
3)得られたS−S曲線(応力−ひずみ曲線)の初期の立ち上がりの部分に接線を引き、その接線の傾きをサンプルフィルムの断面積で割って得られる値を引張弾性率とした。
三井化学(株)製タフマーP0275(登録商標)を準備した。
(粘着剤A)
以下のようにして、UV硬化型粘着剤Aを調製した。即ち、アクリル酸エチル48重量部、アクリル酸−2−エチルヘキシル27重量部、アクリル酸メチル20重量部、メタクリル酸グリシジル5重量部、および重合開始剤としてベンゾイルパーオキサイド0.5重量部を混合した。これを、トルエン65重量部、酢酸エチル50重量部が入った窒素置換フラスコ中に、撹拌しながら80℃で5時間かけて滴下し、さらに5時間撹拌して反応させた。反応終了後、この溶液を冷却し、これにキシレン25重量部、アクリル酸2.5重量部、およびテトラデシルベンジルアンモニウムクロライド1.5重量部を加え、空気を吹き込みながら80℃で10時間反応させ、光重合性炭素−炭素二重結合が導入されたアクリル酸エステル共重合体溶液を得た。この溶液に、共重合体(固形分)100重量部に対して光開始剤としてベンゾイン7重量部、イソシアネート系架橋剤(三井化学(株)製、商品名:オレスターP49−75S)2重量部、1分子内に光重合性炭素−炭素二重結合を2個以上有する低分子量化合物としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(東亞合成(株)製、商品名:アロニックスM−400)15重量部を添加し、UV硬化型粘着剤Aを得た。
イソシアネート系架橋剤(三井化学(株)製、商品名:オレスターP49−75S)の添加量を2.5重量部とした以外は、粘着剤Aと同様にして粘着剤Bを得た。
(粘着剤C)
イソシアネート系架橋剤(三井化学(株)製、商品名:オレスターP49−75S)の添加量を3重量部とした以外は、粘着剤Aと同様にして粘着剤Cを得た。
離型フィルムA:帝人社製ピューレックスA54(厚み38μm)
離型フィルムB:三井化学東セロ社製SP−PET L31(厚み31μm)
(製造例1)
前述の低摩擦層、基材層および中間層の各原料を、フルフライト型のスクリューを有する各押出機に投入し、溶融混練させた。基材層、中間層および低摩擦層の各原料の溶融物を、多層ダイ内で積層させて共押出し成形した。押出温度は、230℃とした。それにより、低摩擦層/基材層/中間層の3層フィルムを得た。
粘着剤層の種類または離型フィルムの種類を、表1または2に示されるように変更した以外は製造例1と同様にして積層体を得た。
得られた積層体の粘着剤層の粘着力を、JIS Z0237に記載の粘着シート試験方法に準拠して、温度23℃、相対湿度50%の環境下にて測定した。具体的には、得られた積層体を、幅25mmの試験片とした。この試験片から離型フィルムを剥離し、露出した粘着剤層を、SUS−BA板に約2kgゴムロールで圧力を加えながら貼り付けて、温度23℃、相対湿度50%の一定環境下に60分間置いた。次いで、この試験片を、180°方向に剥離速度300mm/分でSUS−BA板から引き剥がす際の粘着力を測定した。この粘着力の測定を2回行い、平均値を「粘着力」(N/25mm)とした。
得られた島状粘着フィルムと離型フィルムのピール強度を、JIS Z0237に記載の粘着シート試験方法に準拠して、温度23℃、相対湿度50%の環境下にて測定した。具体的には、
1)得られた島状粘着フィルムを、離型フィルムに約2kgゴムロールで圧力を加えながら貼り付けた後、幅50mmに切り取って試験片とした。得られた試験片を、温度23℃、相対湿度50%の一定環境下に30分間置いた。
2)次いで、試験片の島状粘着フィルムと離型フィルムとをそれぞれクリップで固定し、180°方向に、剥離速度300mm/分で引き剥がす際の力を測定した。このピール強度の測定を2回行い、得られたピール強度の平均値を「ピール強度」(g/50mm)とした。
(実施例1)
製造例1で得られた長尺状の積層体を、プリカット加工用の平面刃具を有するマグネットシリンダにて、図10に示されるような形状にプリカット加工し、第一、第二および第三の剥離部をそれぞれ得た。そして、第一、第二および第三の剥離部を剥離除去して、図3Aに示されるような積層フィルムを得た。複数の島状粘着フィルムの中心を結ぶ線は、離型フィルムの長尺方向に平行とした。
製造例1で得られた長尺状の積層体を、製造例2〜6で得られた長尺状の積層体に変更した以外は実施例1と同様にして積層フィルムを得た。
製造例1で得られた長尺状の積層体を、図16に示されるような従来の形状にプリカット加工し、剥離部を得た以外は実施例1と同様にして積層フィルムを得た。
製造例1で得られた長尺状の積層体を、製造例2〜6で得られた長尺状の積層体に変更した以外は比較例1と同様にして積層フィルムを得た。
積層フィルムの粘着フィルムを、実施例1〜6では、ローラ1回転毎に2枚の円形状にプリカット加工し;比較例1〜6では、ローラ1回転毎に1枚の円形状にプリカット加工しながら、連続的に10枚の円形状にプリカット加工した。次いで、剥離部を除去した後の剥離状態を、以下の基準で評価した。
○:10枚とも、剥離不良が生じなかった
△:1枚以上3枚未満で、剥離不良が生じた
×:3枚以上で、剥離不良が生じた
株式会社ディスコ製DFM−2800を用いて、積層フィルムのウエハへの貼り付け性(頭出しのしやすさ)を評価した。頭出しとは、積層フィルムにおいて、離型フィルムから島状粘着フィルムを剥離することである。
○:10枚とも、頭出しができ、ウエハへの貼り付け不良が生じなかった。
×:1枚以上で、頭出しできず、ウエハへの貼り付け不良が生じた。
20、20’、20''、20''' 積層フィルム
11、21 離型フィルム
13 (長尺状の)粘着フィルム
13A、13B、23A、23B 島状粘着フィルム
15−1、15−1’、15−1''、15−1''' サイド部
15−2、15−2’、15−2''、15−2''' サイド部
17、17a、17b、17c 露出部
25−1、25−1’、25−1''、25−1''' サイド部
25−2、25−2’、25−2''、25−2''' サイド部
27、27a、27b、27c 露出部
30 積層体
33 プリカット用の平面刃具
35 マグネットシリンダ
37 第一の剥離部
37A1、37B2 (第一の剥離部における)周縁部
37C (第一の剥離部における)連結部
W 連結部37Cの幅
w 周縁部37A1の幅
L 連結部37Cの長さ
39 第二の剥離部
39A2 (第二の剥離部における)周縁部
39B2 (第二の剥離部における)外周部
39C2 (第二の剥離部における)連結部
41 第三の剥離部
41A1 (第三の剥離部における)外周部
41B1 (第三の剥離部における)周縁部
41C1 (第三の剥離部における)連結部
41、55 搬送ローラ
43 マウント部
40 積層フィルムのロール体
45 ステージ
47 半導体ウエハ
49 リングフレーム
51 楔状の部材
53 貼り付けローラ
131 粘着剤層
133 中間層
135 基材層
137 低摩擦層
θ なす角
X 領域
a1、a2、a4、b1、b2、b3 (島状粘着フィルムの)頂点
O (島状粘着フィルムの)中心
Claims (11)
- 長尺状の離型フィルムと、前記離型フィルム上に設けられ、長尺方向に沿って互いに隣接する島状粘着フィルムAと島状粘着フィルムBとを含む複数の島状粘着フィルムとを有する積層フィルムの製造方法であって、
前記長尺状の離型フィルムと長尺状の粘着フィルムとを有する長尺状の積層体を得る工程と、
前記積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第一の剥離部を得る工程と、
前記第一の剥離部を、前記離型フィルムから剥離する工程と、
前記積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第二の剥離部を得る工程と、
前記第二の剥離部を、前記離型フィルムから剥離する工程と、
を含み、
前記第一の剥離部が、
前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2と、前記周縁部A1と前記周縁部B2とを連結する連結部Cとを含み、かつ前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1とを含まず、
前記第二の剥離部が、
前記第一の剥離部の前記離型フィルムの幅方向他端側に設けられ、前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部A2と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向他端側の周縁部B2の外側に隣接して設けられた外周部B2’と、前記周縁部A2と前記外周部B2’とを連結する連結部C2とを含む、積層フィルムの製造方法。 - 前記積層体に含まれる粘着フィルムをプリカットして、切り込み線で囲まれた第三の剥離部を得る工程と、
前記第三の剥離部を、前記離型フィルムから剥離する工程と、
をさらに含み、
前記第三の剥離部が、前記第一の剥離部の前記離型フィルムの幅方向一端側に設けられ、前記島状粘着フィルムAの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部A1の外側に隣接して設けられた外周部A1’と、前記島状粘着フィルムBの前記離型フィルムの幅方向一端側の周縁部B1と、前記外周部A1’と前記周縁部B1とを連結する連結部C1とを含む、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。 - 前記第一の剥離部は、前記離型フィルムの長尺方向に沿って、前記周縁部A1、前記連結部Cおよび前記周縁部B2の順に剥離されるものであり、かつ
前記第一の剥離部を構成する前記連結部Cは、前記島状粘着フィルムAの前記剥離方向下端部を含む、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。 - 前記連結部Cは、前記離型フィルムの長尺方向に対して斜めに延びている、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記複数の島状粘着フィルムの中心を結ぶ線は、前記離型フィルムの長尺方向と平行である、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記島状粘着フィルムは、円形状を有する、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記積層フィルムは、前記複数の島状粘着フィルムの外周を囲み、かつ前記離型フィルムの長尺方向に沿って連続的に設けられたサイド部をさらに含む、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記離型フィルムと前記島状粘着フィルムとのピール強度が、1〜35g/50mmである、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記島状粘着フィルムは、半導体ウエハに貼り付けられる、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
- 前記島状粘着フィルムは、拡張性基材層を含み、
23℃における引張弾性率が100〜500MPaである1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と、
プロピレン・α−オレフィン共重合体(b1)を含み、23℃における引張弾性率が8〜500MPaであるプロピレン系エラストマー組成物(B)と
を含み、
前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の含有量は、前記1−ブテン・α−オレフィン共重合体(A)と前記プロピレン系エラストマー組成物(B)の合計100重量部に対して30〜70重量部である、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。 - 前記島状粘着フィルムは、前記離型フィルムと接する面に設けられた粘着剤層をさらに含み、
前記粘着剤層の、SUS−304−BA板の表面に貼着されて60分間放置した後、前記SUS−304−BA板の表面から剥離されるときの、JIS Z0237に準拠して測定される粘着力が0.1〜10N/25mmである、請求項1に記載の積層フィルムの製造方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013064553 | 2013-03-26 | ||
JP2013064553 | 2013-03-26 | ||
PCT/JP2014/001710 WO2014156127A1 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-25 | 積層フィルムの製造方法、積層フィルムおよびそれを用いた半導体装置の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014156127A1 JPWO2014156127A1 (ja) | 2017-02-16 |
JP6335882B2 true JP6335882B2 (ja) | 2018-05-30 |
Family
ID=51623140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015508065A Active JP6335882B2 (ja) | 2013-03-26 | 2014-03-25 | 積層フィルムの製造方法 |
Country Status (9)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9475962B2 (ja) |
EP (1) | EP2980176B1 (ja) |
JP (1) | JP6335882B2 (ja) |
KR (1) | KR101817408B1 (ja) |
CN (1) | CN105073931B (ja) |
MY (1) | MY175783A (ja) |
PH (1) | PH12015502200B1 (ja) |
TW (1) | TWI624525B (ja) |
WO (1) | WO2014156127A1 (ja) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20160137506A (ko) * | 2014-03-26 | 2016-11-30 | 린텍 가부시키가이샤 | 수지막 형성용 시트 적층체 |
JP6490459B2 (ja) * | 2015-03-13 | 2019-03-27 | 古河電気工業株式会社 | ウェハ固定テープ、半導体ウェハの処理方法および半導体チップ |
KR101636069B1 (ko) * | 2015-12-08 | 2016-07-11 | 주식회사 라파스 | 마이크로구조체 제조방법 |
KR102440363B1 (ko) * | 2017-08-11 | 2022-09-05 | 삼성전자주식회사 | 필름 프레임, 디스플레이 기판 제조 시스템 및 디스플레이 기판 제조 방법 |
WO2019131556A1 (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日東電工株式会社 | 積層体の製造方法 |
KR20200094083A (ko) * | 2017-12-28 | 2020-08-06 | 닛토덴코 가부시키가이샤 | 적층체의 제조 방법 |
WO2019130616A1 (ja) * | 2017-12-28 | 2019-07-04 | 日東電工株式会社 | 積層体の製造方法 |
JP6790025B2 (ja) * | 2018-05-31 | 2020-11-25 | 古河電気工業株式会社 | 電子デバイス加工用テープおよび電子デバイス加工用テープの製造方法 |
JP7223582B2 (ja) * | 2019-01-25 | 2023-02-16 | リンテック株式会社 | シート製造装置およびシート製造方法 |
KR20220116457A (ko) * | 2019-12-18 | 2022-08-23 | 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 | 접착 필름 및 이를 제조하기 위한 방법 |
KR20220152328A (ko) * | 2020-05-22 | 2022-11-15 | 미쓰이 가가쿠 토세로 가부시키가이샤 | 점착성 적층 필름 및 전자 장치의 제조 방법 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0321645U (ja) * | 1989-06-30 | 1991-03-05 | ||
US5035741A (en) * | 1989-10-13 | 1991-07-30 | Safer, Inc. | Fatty acid based emulsifiable concentrate having herbicidal activity |
JP3021645U (ja) * | 1995-08-12 | 1996-02-27 | リンテック株式会社 | 半導体製造工程用粘着シート |
JP4372912B2 (ja) | 1999-09-29 | 2009-11-25 | 大日本印刷株式会社 | フレキシブルアンビルダイによるハーフカット方法 |
KR100468748B1 (ko) * | 2002-07-12 | 2005-01-29 | 삼성전자주식회사 | 프리컷 다이싱 테이프와 범용 다이싱 테이프를 웨이퍼에 마운팅할 수 있는 다이싱 테이프 부착 장비 및 이를포함하는 인라인 시스템 |
JP4128058B2 (ja) | 2002-09-24 | 2008-07-30 | 三井化学株式会社 | 粘着フィルム及びその使用方法 |
JP2005255909A (ja) * | 2004-03-12 | 2005-09-22 | Hitachi Chem Co Ltd | 接着シート及びそれを用いた半導体装置の製造方法、並びに半導体装置 |
JP4677758B2 (ja) * | 2004-10-14 | 2011-04-27 | 日立化成工業株式会社 | ダイボンドダイシングシート及びその製造方法、並びに、半導体装置の製造方法 |
JP4876451B2 (ja) | 2005-06-27 | 2012-02-15 | 日立化成工業株式会社 | 接着シート |
JP2009188323A (ja) * | 2008-02-08 | 2009-08-20 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ウエハ加工用テープ |
JP5867921B2 (ja) * | 2008-05-14 | 2016-02-24 | エルジー・ケム・リミテッド | 粘着シート及びこれを利用した半導体ウェーハ裏面研削方法 |
JP2010192856A (ja) | 2009-02-20 | 2010-09-02 | Furukawa Electric Co Ltd:The | ウエハ加工用フィルム |
US8728910B2 (en) | 2010-09-30 | 2014-05-20 | Mitsui Chemicals, Inc. | Expandable film, dicing film, and method of producing semiconductor device |
JP2013001774A (ja) * | 2011-06-15 | 2013-01-07 | Hitachi Chemical Co Ltd | 接着シート及び半導体装置 |
JP5158907B1 (ja) * | 2012-04-02 | 2013-03-06 | 古河電気工業株式会社 | 接着シート |
-
2014
- 2014-03-25 EP EP14775730.6A patent/EP2980176B1/en active Active
- 2014-03-25 WO PCT/JP2014/001710 patent/WO2014156127A1/ja active Application Filing
- 2014-03-25 JP JP2015508065A patent/JP6335882B2/ja active Active
- 2014-03-25 MY MYPI2015703337A patent/MY175783A/en unknown
- 2014-03-25 KR KR1020157026156A patent/KR101817408B1/ko active IP Right Grant
- 2014-03-25 CN CN201480017966.4A patent/CN105073931B/zh active Active
- 2014-03-25 US US14/780,092 patent/US9475962B2/en active Active
- 2014-03-26 TW TW103111264A patent/TWI624525B/zh active
-
2015
- 2015-09-21 PH PH12015502200A patent/PH12015502200B1/en unknown
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
TW201444944A (zh) | 2014-12-01 |
US20160053137A1 (en) | 2016-02-25 |
WO2014156127A1 (ja) | 2014-10-02 |
CN105073931B (zh) | 2017-03-08 |
EP2980176A4 (en) | 2016-11-23 |
US9475962B2 (en) | 2016-10-25 |
MY175783A (en) | 2020-07-08 |
KR20150121149A (ko) | 2015-10-28 |
PH12015502200A1 (en) | 2016-02-01 |
KR101817408B1 (ko) | 2018-01-10 |
EP2980176A1 (en) | 2016-02-03 |
PH12015502200B1 (en) | 2016-02-01 |
CN105073931A (zh) | 2015-11-18 |
TWI624525B (zh) | 2018-05-21 |
EP2980176B1 (en) | 2018-02-21 |
JPWO2014156127A1 (ja) | 2017-02-16 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6335882B2 (ja) | 積層フィルムの製造方法 | |
JP4945014B1 (ja) | 拡張性フィルム、ダイシングフィルム、および半導体装置の製造方法 | |
JP6159163B2 (ja) | 粘着シート | |
KR20120030964A (ko) | 다이싱ㆍ다이 본드 필름, 다이싱ㆍ다이 본드 필름의 제조 방법 및 반도체 장치의 제조 방법 | |
JP6423242B2 (ja) | ダイシングフィルムおよび半導体装置の製造方法 | |
KR20210088767A (ko) | 수지막 형성용 시트 적층체 | |
TWI642717B (zh) | 切割膜片 | |
TWI507336B (zh) | Adhesive sheet | |
JP4947564B2 (ja) | 半導体ウエハ加工用粘着シート | |
TWI504720B (zh) | Adhesive sheet | |
KR101908390B1 (ko) | 반도체 가공시트용 기재필름, 반도체 가공시트 및 반도체 장치의 제조방법 | |
TW201346001A (zh) | 切割用黏著片 | |
KR20170018904A (ko) | 다이싱 시트용 기재 필름 및 다이싱 시트 | |
KR20140035502A (ko) | 접착 시트 | |
EP2639277A1 (en) | Heat-resistant pressure-sensitive adhesive tape for production of semiconductor device and method for producing semiconductor device using the tape | |
TWI615890B (zh) | 晶圓加工用膠帶 | |
KR101847246B1 (ko) | 웨이퍼 가공용 테이프 | |
JP7446773B2 (ja) | ダイシングテープ及びダイシングダイボンドフィルム | |
KR20230133765A (ko) | 다이싱 테이프 및 다이싱 테이프를 사용하는, 반도체 장치의 제조 방법 | |
TW201518467A (zh) | 切晶-黏晶帶及附黏接著劑層之半導體晶片之製造方法 | |
CN114573909A (zh) | 半导体晶圆搭载用基材、切割带及切割芯片接合薄膜 | |
KR20210055599A (ko) | 다이싱 테이프 및 다이싱 다이 본드 필름 | |
JP6362526B2 (ja) | ウエハ加工用テープ | |
TW202123325A (zh) | 切晶帶及切晶黏晶膜 | |
JP2014063896A (ja) | ダイシング−ダイボンディングテープ及び粘接着剤層付き半導体チップの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161121 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20180116 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20180316 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20180410 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20180501 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6335882 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |