JP6326962B2

JP6326962B2 - 液体塗布装置

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Publication number: JP6326962B2
Application number: JP2014105575A
Authority: JP
Inventors: 洋典沼田
Original assignee: Ricoh Co Ltd
Current assignee: Ricoh Co Ltd
Priority date: 2014-05-21
Filing date: 2014-05-21
Publication date: 2018-05-23
Anticipated expiration: 2034-05-21
Also published as: JP2015217668A; US20150338758A1; US9341974B2

Description

本発明は、液体塗布装置に関する。

近年、情報の電子化が推進される傾向にあり、電子化された情報の出力に用いられるプリンタやファクシミリ及び書類の電子化に用いるスキャナ等の画像処理装置は欠かせない機器となっている。このような画像処理装置は、撮像機能、画像形成機能及び通信機能等を備えることにより、プリンタ、ファクシミリ、スキャナ、複写機として利用可能な複合機として構成されることが多い。

このような画像処理装置のうち、電子化された書類の出力に用いられる画像形成装置においては、滲み、濃度変動、色調変動や裏写りといった印刷品質に影響する状態を回避して印刷品質を向上するため、インクの色材を凝集させるための処理剤液を前処理によって塗布する技術が一般的に知られている（例えば、特許文献１参照）。

特許文献１においては、現像ローラにて液体現像剤をベルト状感光体に付着させる印字工程後の特定時間において、クリーニングローラをスクイーズローラに接触させて、ベルト状感光体に余分に付着した液体現像剤をスクイーズローラにて取り除く構成となっている。

このような構成においては、現像ローラにてベルト状感光体に付着させた液体現像液のうち、このベルト状感光体に余分に付着した液体現像液を取り除く際に、クリーニングローラをスクイーズローラに接触させているため、これらクリーニングローラとスクイーズローラとの間のニップ部に溜まる液体現像液を除去し切れない。そして、これらクリーニングローラとスクイーズローラとの間のニップ部に溜まった液体現像液は、長時間放置すると揮発成分が蒸発等し、液体現像液中の腐食成分が高濃度化する等し、液だまり化するおそれがある。

この液だまりは、クリーニングローラをスクイーズローラから離した状態においても、スクイーズローラ表面の周方向における一定箇所に集中して形成される場合が多く、この位置が腐食してスクイーズローラの表面に凹みが形成されると、この凹みによりベルト状感光体への液体現像液の塗布むらが発生し、画像の光沢差や濃度差を発生させてしまうおそれがあるため、スクイーズローラの寿命を著しく低下させてしまう。尚、このような問題は、画像形成装置における処理剤液の塗布機構に限らず、回転するローラによって液体を供給して塗布する液体塗布装置であれば同様に問題となり得る。

本発明は、上記実情を考慮してなされたものであり、回転するローラによって液体を供給して対象物に塗布する液体塗布装置において、ローラの一定箇所で液体に接触することを防ぐことを目的とする。

上記課題を解決するために、本発明の一態様は、対象物に液体を塗布するための塗布ローラと、塗布するべき液体が入った容器に浸された状態で回転して、前記塗布ローラに対し、前記塗布するべき液体を供給する供給ローラと、前記塗布ローラへ対象物を接触させ、前記塗布するべき液体を前記対象物に塗布させる転写部と、装置の動作を制御する制御部とを含み、前記制御部は、前記転写部にて対象物を前記塗布ローラへ接触させていない状態で所定時間が経過した場合に、前記供給ローラを回転し、前記供給ローラの停止時の位置を、前記供給ローラを回転する前の位置と異ならせるように制御することを特徴とする。

本発明によれば、回転するローラによって液体を供給して対象物に塗布する液体塗布装置において、ローラの一定箇所で液体に接触することを防ぐことが可能となる。

本発明の実施形態に係る処理剤液塗布装置を含む画像形成システムの全体構成を示す図である。本発明の実施形態に係る処理剤液塗布装置の構成を示す図である。本発明の実施形態に係る処理剤液塗布装置の制御構成を示すブロック図である。本発明の実施形態に係る処理剤液塗布装置の制御動作を示すフローチャートである。

以下、図面を参照して、本発明の実施形態を詳細に説明する。本実施形態においては、ロール紙を用いるインクジェットタイプの画像形成装置を含む画像形成システムにおいて、画像形成装置による画像形成出力の前に紙面上に液体を塗布する液体塗布装置を特徴として説明する。

図１は、本実施形態に係る画像形成システム全体の構成を示す図である。図１に示すように、本実施形態に係る画像形成システムは、ロール状に巻かれた長尺状のロール紙Ｓを送り出す前処理装置としての給紙装置１、給紙装置１から送り出されたロール紙Ｓの表面に液体を塗布する処理剤液塗布装置２、処理剤液塗布装置２によって液体が塗布されたロール紙Ｓに対して色材を吐出して画像を形成するインクジェットプリンタ本体３、及び画像が形成された用紙を巻き取る後処理装置４を含む。ここで、本画像形成システムのロール紙Ｓを搬送する速度、即ち塗布速度は、例えば１５ｍ／ｍｉｎ〜１５０ｍ／ｍｉｎの間の任意の速度に設定可能である。そして、本実施形態においては、処理剤液塗布装置２が液体塗布装置として機能する。

図１に示すような構成において、本実施形態に係る要旨は、処理剤液塗布装置２において、ロール紙Ｓの表面に塗布される液体を供給するためのローラの回転制御の構成にある。処理剤液塗布装置２においては、ロール紙Ｓの表面に塗布されるインク滴を凝集させる機能を有する抑制剤等の先塗液である処理剤液Ｌをロール紙Ｓに塗布する。処理剤液Ｌがロール紙Ｓの表面全体に塗布されることにより、インクジェットプリンタ本体３においてロール紙Ｓ表面に吐出されたインクの色材を凝集させる。

これにより、ロール紙Ｓ上に吐出されたインクの滲み、濃度変動、色調変動等が防止されて印刷品質が高められる。尚、本実施形態においては、処理剤液塗布装置２によって処理剤液Ｌが塗布される対象としてロール紙Ｓを例として説明するが、材質としては紙に限らず、フィルムやプラスチックシート等の記録媒体でも良い。

次に、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２の構成について図２を参照して説明する。図２に示すように、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２は、円筒状の転写ローラ１１が転写ローラ用アーム１２の一端に回転可能に支持されている。転写ローラ用アーム１２の他端には、引っ張りばね１３が接続され、この引っ張りばね１３の張力によって転写ローラ１１を下方に付勢している。転写ローラ１１の下方には、処理剤液Ｌをロール紙Ｓの表面に塗布するための塗布ローラ１４が回転可能に取り付けている。即ち、塗布ローラ１４は、対象物であるロール紙Ｓに対して液体である処理剤液Ｌを塗布する。転写ローラ１１は、塗布ローラ１４へロール紙Ｓを接触させ、塗布ローラ１４に塗布された処理剤液Ｌをロール紙Ｓの表面に塗布させる転写部である。

転写ローラ用アーム１２の中間位置には、この転写ローラ用アーム１２の揺動支点１５が設けられている。この転写ローラ用アーム１２の揺動支点１５と引っ張りばね１３との接続部との間の上側に、偏芯カム１６が取り付けられ、この偏芯カム１６の回転により、引っ張りばね１３の張力に抗して転写ローラ１１を塗布ローラ１４から離間可能としている。

転写ローラ１１、転写ローラ用アーム１２、引っ張りばね１３及び偏芯カム１６は、処理剤液Ｌを入れておく容器状の供給液室１７の開口部よりも上方に配置されている。

塗布ローラ１４の下方には、塗布ローラ１４に処理剤液Ｌを薄膜化して転写するためのスクイーズローラ１８が、塗布ローラ１４の軸方向と並行に配置されている。スクイーズローラ１８は、ステンレス鋼、好ましくはオーステナイト、例えばＳＵＳ３０３を基材として構成している。尚、スクイーズローラ１８としては、ＳＵＳ３０３の他、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ３１６等を基材としても良い。スクイーズローラ１８の表面は、例えば算術平均粗さ（Ｒａ）が６．４μｍ未満（Ｒａ＜６．４μｍ）の平坦な形状とされている。

塗布ローラ１４及びスクイーズローラ１８は、供給液室１７内に収容されている。スクイーズローラ１８は、揺動可能な供給液室１７に支持されている。塗布ローラ１４は、他の支持部材（図示せず）にて所定位置に支持されている。即ち、スクイーズローラ１８は、塗布ローラ１４に対して処理剤液Ｌを供給する供給ローラである。また、スクイーズローラ１８の表面に対向させて、スクイーズローラ１８の回転時における処理剤液の飛散を防止するためのブレード１９が取り付けられている。

供給液室１７の転写ローラ用アーム１２が取り付けられている側である一側には、スクイーズローラ用アーム２１が水平方向に突出している。スクイーズローラ用アーム２１は、ピン２２を介して圧縮ばね２３にて下方に付勢されている。ピン２２の下方には、偏芯カム２４が設置されている。供給液室１７の他側には、供給液室１７の揺動支点２５が設けられている。

供給液室１７の内部には、処理剤液Ｌが貯留され、供給液室１７に処理剤液Ｌを供給した状態で、処理剤液Ｌの液面が一定に保たれる。スクイーズローラ１８は、その一部が処理剤液Ｌに浸る位置に取り付けられ、駆動源であるモータ２６を駆動させて塗布ローラ１４を回転させることにより、塗布ローラ１４に連動して回転し、処理剤液Ｌ自体の粘性によって、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８との間の隙間であるニップ部まで処理剤液Ｌを搬送する。

塗布ローラ１４は、スクイーズローラ１８に対し所定の圧力で接触させて圧接され、このスクイーズローラ１８への圧接にて、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８とのニップ部を通過した処理剤液Ｌの液量を計測でき、計測した処理剤液Ｌを表面に維持する構成である。

処理剤液Ｌは、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８とのニップ部を通過し、塗布ローラ１４の表面において、均一化された処理剤液Ｌの薄膜を形成する。偏芯カム１６を回転させて転写ローラ１１を下方に移動させ、転写ローラ１１にてロール紙Ｓを塗布ローラ１４に押し付けることによって、転写ローラ１１の表面に均一化されて形成された処理剤液Ｌの薄膜がロール紙Ｓの表面に転写され塗布される。尚、処理剤液Ｌの材料は、例えばインクジェットプリンタに使用するインクの種類、あるいはロール紙Ｓの材質等を考慮して適宜選択される。

供給液室１７中の処理剤液Ｌの液面は、供給液室１７の側面に取り付けられた液面センサ２７にて監視され、液面センサ２７による液面検出にて供給液室１７中の処理剤液Ｌの液面が所定の位置より低くなった場合に、供給弁２８を開き、供給ポンプ２９を駆動することにより、密閉度が高い処理剤液タンク３０内の処理剤液Ｌを供給液室１７へ送り込む。そして、液面センサ２７による液面検出にて供給液室１７中の処理剤液Ｌの液面が所定の位置となった時点で、供給弁２８を閉じ、供給ポンプ２９を停止させることにより、供給液室２７中の処理剤液Ｌの液面位置を一定に保っている。

供給弁２８は、開制御された状態での供給ポンプ２９の駆動により供給液室１７へ処理剤液Ｌを供給し、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給された状態での開制御によって処理剤液Ｌの水頭圧差により供給液室１７内の処理剤液Ｌを処理剤液タンク３０に退避させて保管する液体給排部である。即ち、供給弁２８は、処理剤液Ｌの粘度上昇による性質劣化等を防止する観点から、処理剤液塗布装置２によるロール紙Ｓへの処理剤液Ｌの塗布動作がなされた後に、開制御されて供給液室１７内の処理剤液Ｌを水頭圧差にて処理剤液タンク３０に戻して保管する機能を有する。

また、処理剤液Ｌの粘度上昇による性質劣化等を考慮して、使用済みの処理剤液Ｌを排出するために、排液弁３２、排液ポンプ３３及び廃液タンク３４を設けている。そして、排液弁３２を開き、排液ポンプ３３を駆動することにより、供給液室１７中の劣化した処理剤液Ｌが廃液タンク３４に排出される。

次に、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２の制御構成について、図３を参照して説明する。図３は、本発明の実施形態に係る処理剤液塗布装置２の制御構成を示すブロック図である。図３に示すように、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２においては、制御部であるコントローラ１００が装置各部の構成を制御するように構成している。

コントローラ１００は、ソフトウェアとハードウェアとの組み合わせにて構成される。具体的には、ＲＯＭ（ＲｅａｄＯｎｌｙＭｅｍｏｒｙ）や不揮発性メモリ並びにＮＶ−ＲＡＭ（ＮｏｎＶｏｌａｔｉｌｅ−ＲａｎｄｏｍＡｃｃｅｓｓＭｅｍｏｒｙ）や光学ディスク等の不揮発性記録媒体に格納されたファームウェア等の制御プログラムに従ったＣＰＵ（ＣｅｎｔｒａｌＰｒｏｃｅｓｓｉｎｇＵｎｉｔ）の演算によって構成されるソフトウェア制御部と集積回路などのハードウェアとによってコントローラ１００が構成される。

図３に示すように、コントローラ１００は、主制御部１０１、搬送制御部１０２、センサ制御部１０３、液制御部１０４及び塗布制御部１０５を含む。主制御部１０１は、コントローラ１００に含まれる各部を制御する役割を担い、コントローラ１００の各部に命令を与える。搬送制御部１０２は、主制御部１０１の制御に従い、ロール紙Ｓを搬送するための搬送ローラ３５の回転を制御し、ロール紙Ｓを搬送させる。

センサ制御部１０３は、上述した液面センサ２７が出力する検知信号を取得し、主制御部１０１に入力する。液制御部１０４は、主制御部１０１の制御に従い、供給弁２８の開閉及び供給ポンプ２９の駆動を制御し、供給液室１７への処理剤液Ｌの補充を制御するとともに、排液弁３２の開閉及び排液ポンプ３３の駆動を制御し、供給液室１７からの処理剤液Ｌの排出を制御する。

塗布制御部１０５は、主制御部１０１の制御に従い、モータ２６の回転を制御して、塗布ローラ１４及びスクイーズローラ１８の回転を制御し、スクイーズローラ１８から塗布ローラ１４への処理剤液Ｌの補充及び塗布ローラ１４による処理剤液Ｌの塗布を制御する。また、塗布制御部１０５は、偏芯カム１６，２４の回転位置を制御して、転写ローラの上下動、及びスクイーズローラ１８の上下動、即ちスクイーズローラ１８の塗布ローラへの圧接を制御する。

このような構成において、本実施形態に係る要旨は、塗布制御部１０５によるスクイーズローラ１８の回転制御にある。まず、本実施形態において解決するべき課題の詳細について説明する。

本実施形態に係る処理剤液塗布装置２にて、ロール紙Ｓへ処理剤液Ｌを塗布する塗布動作を実施する場合には、液面センサ２７の出力を、センサ制御部１０３を介して主制御部１０１にて監視して供給液室１７に所定量の処理剤液Ｌを充填させた後、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４に圧接し、かつ転写ローラ１１をロール紙Ｓを介して塗布ローラ１４に圧接した状態としてから、モータ２６を駆動させて塗布ローラ１４及びスクイーズローラ１８を回転させる。

塗布動作時においては、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８との圧接によって、塗布ローラ１４へ供給する処理剤液Ｌの流量を計測しており、この計測によって、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８とのニップ部の上流側に、過剰供給分の処理剤液Ｌの液だまりが形成される。

一方、塗布動作停止時には、モータ２６の駆動を停止し、転写ローラ１１及びスクイーズローラ１８のそれぞれを塗布ローラ１４から離して待機状態とする。即ち、塗布動作停止時においては、塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８との間に、過剰な流量の処理剤液Ｌが溜まったままの状態、即ち液だまりが形成されたままの状態となる。また、ブレード１９とスクイーズローラ１８との間も同様に、処理剤液Ｌの液だまりが形成される。

これら塗布ローラ１４とスクイーズローラ１８との間、及びブレード１９とスクイーズローラ１８との間に処理剤液Ｌの液だまりが形成されたままの状態で放置すると、これら液だまり部の処理剤液Ｌ中の揮発性分が蒸発し、処理剤液Ｌ中の金属を腐食させる成分が高濃度化して濃縮した状態となる。金属の腐食形態としては、隙間腐食と呼ばれる現象があり、隙間に液体が溜まった状態においては、通常の液体の付着に比べ、著しく腐食速度を加速させてしまう。

具体的には、スクイーズローラ１８と塗布ローラ１４との隙間において長手方向に沿って処理剤液Ｌの液だまりが形成された位置、即ち位相に金属腐食が発生する傾向が高い。さらに、処理剤液Ｌの液だまりは、スクイーズローラ１８の表面の周方向における一箇所に集中して形成される場合が多く、この形成された処理剤液Ｌの液だまりを放置しておくと、スクイーズローラ１８の表面に金属腐食による凹みが形成される。そして、この凹みにより処理剤液Ｌの塗布ローラ１４への塗布むらが発生し、画像の光沢差及び濃度差を発生させてしまうため、スクイーズローラ１８の寿命を著しく低下させてしまう。これが本実施形態において解決するべき課題である。

本実施形態に係る処理剤液塗布装置２においては、スクイーズローラ１８の腐食を防止する観点から、塗布動作未実施時等にスクイーズローラ１８を間欠回転駆動するための制御を行うことが要旨の１つである。本実施形態に係る処理剤液塗布装置２の制御について以下に説明する。

図４は、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２の制御動作を示すフローチャートである。図４に示すように、主制御部１０１は、処理剤液塗布装置２の電源のオン等に伴い、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動してからの放置時間のカウントを開始するとともに、スクイーズローラ１８の間欠駆動回数のカウントを開始する（Ｓ０１）。その後、主制御部１０１にて塗布動作実行指令が行われ、処理剤液塗布装置２による塗布動作が実行されると（Ｓ０２／ＹＥＳ）、供給弁２８を開閉制御し、かつ供給ポンプ２９を駆動して、供給液室１７へ処理剤液Ｌを供給してから（Ｓ０３）、塗布制御部１０５にてモータ２６を駆動して、スクイーズローラ１８及び塗布ローラ１４を回転しつつ、偏芯カム１６を回転させて転写ローラ１１を下方に移動させて、ロール紙Ｓの表面を塗布ローラ１４に接触させて、塗布ローラ１４の表面に塗布された処理剤液Ｌをロール紙Ｓの表面に塗布させる塗布動作を実行する（Ｓ０４）。

Ｓ４での塗布動作の実行に伴い、Ｓ１にてカウントを開始した放置時間及び間欠駆動回数をクリアするとともに、供給液室１７に供給した処理剤液Ｌを処理剤液タンク２０に戻すまでの液退避時間のカウントを開始する（Ｓ０５）。その後、主制御部１０１は、Ｓ０１からの処理を繰り返す。

一方、主制御部１０１にて塗布動作実行指令が行われず、処理剤液塗布装置２による塗布動作が実行されない場合（Ｓ０２／ＮＯ）、主制御部１０１は、液面センサ２７を用いて供給液室１７における処理剤液Ｌの有無を判定する（Ｓ０６）。そして、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている場合（Ｓ０６／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間が、予め定めた所定のＴ１時間を経過したか否かを判定する（Ｓ０７）。放置時間がＴ１を経過している場合（Ｓ０７／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、駆動源（図示せず）にて偏芯カム２４を回転させてスクイーズローラ１８の表面を塗布ローラ１４の表面に接触、即ちニップさせ（Ｓ０８）、この状態でモータ２６を駆動してスクイーズローラ１８を間欠回転駆動する（Ｓ０９）。

このとき、Ｔ１は、後述するＴ２よりも短い時間（Ｔ２＞Ｔ１）、例えば０．７５時間とし、供給液室１７に供給された処理剤液Ｌが処理剤液タンク３０に退避保管される前に、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動が実施されるようにしている。なお、放置時間がＴ１を経過していない場合（Ｓ０７／ＮＯ）、主制御部１０１は、Ｓ０１からの処理を繰り返す。即ち、Ｓ０７／ＮＯは、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動を実施するＴ１に達する前に、Ｓ０２による塗布動作の実施が行われた場合であり、スクイーズローラ１８の腐食の可能性が少なく、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動の必要性が低い。

Ｓ０９における、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動は、塗布制御部１０５によるモータ２６の回転時間の制御にて行われ、１度の間欠回転駆動により、スクイーズローラ１８を周方向に、例えば１１５°回転させ、スクイーズローラ１８の停止時の周方向の位置、即ち位相が、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動前の位相と異なるように行う。さらに、Ｓ０９における間欠回転駆動時においては、塗布制御部１０５にてモータ２６の回転速度を制御し、塗布動作時にスクイーズローラ１８を回転させる際の最低塗布速度、例えば１５ｍ／ｍｉｎもしくは最低塗布速度以下の周速となるようにスクイーズローラ１８を回転駆動する。

Ｓ０９でのスクイーズローラ１８の間欠回転駆動に伴い、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間をクリアするとともに間欠駆動回数を１追加、即ちカウントする（Ｓ１０）。

この後、Ｓ０５にてカウントを開始した液退避時間が、予め定めた所定のＴ２時間を経過したか否かを判定する（Ｓ１１）。液退避時間がＴ２を経過している場合（Ｓ１１／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、供給弁２８を開閉制御して、供給液室１７内の処理剤液Ｌを水頭圧差にて処理剤液タンク３０に退避させて保管する（Ｓ１２）。このとき、Ｔ２は、例えば１時間としている。この後、主制御部１０１は、Ｓ０５にてカウントを開始した液退避時間をクリアする（Ｓ１３）。その後、主制御部１０１は、Ｓ０１からの処理を繰り返す。

供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない場合（Ｓ０６／ＮＯ）、主制御部１０１は、Ｓ０１にてカウントを開始した間欠駆動回数が、奇数回数（１、３、５、・・・）か偶数回数（２、４、６、・・・）かを判定する（Ｓ２１）。間欠駆動回数が奇数回数の場合（Ｓ２１／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間が、予め定めた所定時間であるＴ３時間を経過したか否かを判定する（Ｓ２２）。放置時間がＴ３を経過している場合（Ｓ２２／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、モータ２６を駆動してスクイーズローラ１８を間欠回転駆動する（Ｓ２３）。

Ｓ２３におけるスクイーズローラ１８の間欠回転駆動もまた、塗布制御部１０５によるモータ２６の回転時間の制御にて行われ、１度の間欠回転駆動により、スクイーズローラ１８を周方向に、例えば１１５°回転させ、スクイーズローラ１８の停止時の周方向の位置、即ち位相が、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動前の位相と異なるように行う。このＳ２３においても、塗布動作時にスクイーズローラ１８を回転させる際の最低塗布速度、例えば１５ｍ／ｍｉｎもしくは最低塗布速度以下の周速となるようにスクイーズローラ１８を回転駆動する。

ここで、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態は、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動の間隔を長くし、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動による摩擦によって処理剤液Ｌの温度が上昇し、処理剤液Ｌの粘度が上昇することを低減し、供給液室１７への処理剤液Ｌの供給回数を減らす目的から、Ｔ３は、例えば２時間としている。

即ち、Ｓ２３においては、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップせず、転写ローラ１１にてロール紙Ｓを塗布ローラ１４へ接触させない待機状態、即ち退避状態で、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動する。Ｓ２３でのスクイーズローラ１８の間欠回転駆動に伴い、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間をクリアするとともに、Ｓ０１にてカウントを開始した間欠駆動回数をカウントする（Ｓ２４）。その後、主制御部１０１は、Ｓ０１からの処理を繰り返す。

一方、間欠駆動回数が偶数回数の場合（Ｓ２１／ＮＯ）、主制御部１０１は、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間が、予め定めた所定のＴ３時間を経過したか否かを判定する（Ｓ３１）。放置時間がＴ３を経過している場合（Ｓ３１／ＹＥＳ）、主制御部１０１は、供給弁２８を開閉制御し、かつ供給ポンプ２９を駆動して、供給液室１７へ処理剤液Ｌを供給してから（Ｓ３２）、駆動源（図示せず）にて偏芯カム２４を回転させてスクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップさせ（Ｓ３３）、この状態でモータ２６を駆動してスクイーズローラ１８を間欠回転駆動する（Ｓ３４）。

Ｓ３４における間欠回転駆動もまた、塗布制御部１０５によるモータ２６の回転時間の制御にて行われ、１度の間欠回転駆動により、スクイーズローラ１８を周方向に、例えば１１５°回転させ、スクイーズローラ１８の停止時の周方向の位置、即ち位相が、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動前の位相と異なるように行う。このＳ３４においても、塗布動作時にスクイーズローラ１８を回転させる際の最低塗布速度、例えば１５ｍ／ｍｉｎもしくは最低塗布速度以下の周速となるようにスクイーズローラ１８を回転駆動する。

Ｓ３４でのスクイーズローラ１８の間欠回転駆動に伴い、Ｓ０１にてカウントを開始した放置時間をクリアするとともに間欠駆動回数をカウントする（Ｓ３５）。その後、主制御部１０１は、供給弁２８を開閉制御して、供給液室１７内の処理剤液Ｌを水頭圧差にて処理剤液タンク３０に退避させて保管する（Ｓ３６）。その後、主制御部１０１は、Ｓ０１からの処理を繰り返す。

このように、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２においては、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップせず、転写ローラ１１にてロール紙Ｓを塗布ローラ１４へ接触させない退避状態で、スクイーズローラ１８の定期回転前後での位相が異なるように間欠回転駆動を行う（図４中のＳ２３参照）。即ち、塗布動作未実施時に、スクイーズローラ１８を定期的に回転させ、スクイーズローラ１８の停止時の位相を駆動前の位相と異ならせることにより、スクイーズローラ１８の表面の一定箇所で、塗布ローラ１４及びブレード１９との間に隙間が形成され、粘度が上昇した処理剤液Ｌとの接触を防止できる。よって、スクイーズローラ１８の塗布ローラ１４及びブレード１９との接触箇所を分散でき、スクイーズローラ１８の腐食を防止できるから、スクイーズローラ１８の劣化を防止できる。

したがって、スクイーズローラ１８の処理剤液Ｌによる腐食に基づく、スクイーズローラ１８の表面における凹みの形成を防止できるため、この凹みによる塗布ローラ１４への処理剤液Ｌの塗布むらの発生を防止できる。よって、スクイーズローラ１８を長期間交換せずに使用しても、処理剤液Ｌの塗布むらを発生させないため、ロール紙Ｓに対して適切な処理が可能な処理剤液塗布装置２を提供でき、適切な処理が行われ品質の高い画像が得られる画像形成システムを提供できる。

また、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態に加え、供給液室１７に処理剤液Ｌを供給している状態で、スクイーズローラ１８を定期的に間欠回転駆動させる構成としている（図４中のＳ０９及びＳ３４）。このため、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている状態においては、スクイーズローラ１８に揮発成分の蒸発が少ない処理剤液Ｌを循環させ、処理剤液Ｌの揮発成分の蒸発に伴う腐食成分の濃縮を緩和でき、処理剤液Ｌの腐食を防止できる。さらに、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態においては、上述のようにスクイーズローラ１８の表面の一定箇所での処理剤液Ｌとの接触を防止できる。

このとき、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態で、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動させる回数、即ち間欠駆動回数が奇数回数の場合、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態でスクイーズローラ１８を間欠回転駆動する（図４中のＳ２３）。そして、間欠駆動回数が偶数回数の場合は、供給液室１７に処理剤液Ｌを供給してからスクイーズローラ１８を欠回転駆動させる（図４中のＳ３４）。このため、塗布動作が実行されない場合においても、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている状態でのスクイーズローラ１８の間欠回転駆動による処理剤液Ｌの腐食を防止でき、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態でのスクイーズローラ１８の表面の一定箇所での処理剤液Ｌとの接触を防止できる。

さらに、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている状態で、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動させた後、供給液室１７に供給されている処理剤液Ｌを処理剤液タンク３０に退避させて保管するため（図４中のＳ１２及びＳ３６）、供給液室１７に処理剤液Ｌを供給したままの状態を維持することによる処理剤液Ｌ中の揮発成分の蒸発を防止でき、処理剤液Ｌ中の腐食成分の濃縮を防止できる。

また、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている状態において、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップさせて間欠回転駆動させる圧接モード（図４中のＳ０９参照）と、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない状態において、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４から退避させて間欠回転駆動させる退避モード（図４中のＳ２３参照）とを設けている。このため、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている圧接モードにおいては、スクイーズローラ１８と塗布ローラ１４とのニップ部にて、スクイーズローラ１８の表面に過剰な流量の処理剤液が残ることを防止できる。一方、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない退避モードにおいては、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップさせて回転させることによる、処理剤液Ｌの温度上昇に伴う粘度上昇を防止できるため、スクイーズローラ１８の腐食をより適切に防止できる。

さらに、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動時における周速を、処理剤液塗布装置２の最低塗布速度もしくは最適塗布速度以下にすることにより、スクイーズローラ１８の回転に伴い発生する塗布ローラ１４、ブレード１９及び処理剤液Ｌとの間の摩擦熱の発生を少なくできる。よって、この摩擦熱に伴う処理剤液Ｌの粘度の上昇を抑制でき、処理剤液Ｌ中の腐食成分の濃縮を少なくできるため、スクイーズローラ１８の腐食をより確実に防止できる。

また、スクイーズローラ１８を、ステンレス鋼、好ましくはオーステナイト、例えばＳＵＳ３０３等を基材として構成することにより、耐食性に優れたスクイーズローラ１８となり、スクイーズローラ１８の腐食をより確実に防止できる。特に、ＳＵＳ３０３は、汎用性および加工性に優れており、製造コストを削減できる。また、スクイーズローラ１８の表面の算術平均粗さ（Ｒａ）を６．４μｍ未満とすることにより、表面が平坦なスクイーズローラ１８となり、スクイーズローラ１８の表面の凹凸に処理剤液Ｌの液だまりが形成されるおそれを少なくでき、スクイーズローラ１８の腐食をより確実に防止できる。

以上説明したように、本実施形態に係る処理剤液塗布装置２を含む画像形成システムにおいては、回転するローラによって液体を補充して対象物に塗布する液体塗布装置において、ローラの一定箇所で液体に接触することを防ぐことが可能となる。

尚、上記実施形態においては、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている場合、及び供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない場合のそれぞれにおいて、スクイーズローラ１８の間欠回転駆動を実施する場合を例として説明した。しかしながらこれは一例であり、本実施形態に係る要旨は、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない場合に、スクイーズローラ１８を塗布ローラ１４にニップさせない退避状態で、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動することにある。従って、図４中のＳ０７〜Ｓ１３、Ｓ２１及びＳ３１〜Ｓ３６の処理を省略し、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されていない場合にのみスクイーズローラ１８を間欠回転駆動しても良い。

また、上記実施形態においては、供給液室１７に処理剤液Ｌが供給されている状態で、スクイーズローラ１８を間欠回転駆動させた後、供給液室１７に供給されている処理剤液Ｌを処理剤液タンク３０に退避させて保管する例を説明した。しかしながらこれは一例であり、供給液室１７に処理剤液Ｌを供給した状態での処理剤液Ｌ中の揮発成分の蒸発による処理剤液Ｌ中の腐食成分の濃縮のおそれが低い場合等においては、これら図４中のＳ１２及びＳ３６の処理を省略しても良い。

さらに、上記実施形態においては、ロール紙Ｓに対する処理剤液Ｌの塗布を前提として説明したが、これは一例である。即ち、ロール紙Ｓ以外であっても、回転するローラによって液体を供給して対象物に液体を塗布する場合であれば、同様の問題が生じるため、本実施形態を適用することにより同様に課題を解決することが可能である。

２処理剤液塗布装置（液体塗布装置）
３インクジェットプリンタ本体（画像形成装置）
１１転写ローラ（転写部）
１４塗布ローラ
１７供給液室（容器）
１８スクイーズローラ（供給ローラ）
２８供給弁（液体給排部）
１００コントローラ（制御部）

特許第２９９０１４８号公報

Claims

対象物に液体を塗布するための塗布ローラと、
塗布するべき液体が入った容器に浸された状態で回転して、前記塗布ローラに対し、前記塗布するべき液体を供給する供給ローラと、
前記塗布ローラへ対象物を接触させ、前記塗布するべき液体を前記対象物に塗布させる転写部と、
装置の動作を制御する制御部とを含み、
前記制御部は、前記転写部にて対象物を前記塗布ローラへ接触させていない状態で所定時間が経過した場合に、前記供給ローラを回転し、前記供給ローラの停止時の位置を、前記供給ローラを回転する前の位置と異ならせるように制御する
ことを特徴とする液体塗布装置。
対象物に液体を塗布するための塗布ローラと、
塗布するべき液体が入った容器に浸された状態で回転して、前記塗布ローラに対し、前記塗布するべき液体を供給する供給ローラと、
前記塗布ローラへ対象物を接触させ、前記塗布するべき液体を前記対象物に塗布させる転写部と、
装置の動作を制御する制御部と、
前記容器に対して前記液体を供給及び排出可能な液体給排部
を含み、
前記制御部は、前記液体給排部にて前記容器に液体を供給した状態、及び前記液体給排部にて前記容器から前記液体を排出した状態のそれぞれにおいて、前記供給ローラを回転し、前記供給ローラの停止時の位置を、前記供給ローラを回転する前の位置と異ならせる
ことを特徴とする液体塗布装置。
前記供給ローラは、前記塗布ローラに接触する位置から、前記塗布ローラから離れた位置へ移動可能で、
前記制御部は、前記液体給排部にて前記容器に液体を供給した状態では、前記供給ローラを前記塗布ローラに接触した位置で、前記供給ローラを回転する
ことを特徴とする請求項２に記載の液体塗布装置。
前記供給ローラは、前記塗布ローラに接触する位置から、前記塗布ローラから離れた位置へ移動可能で、
前記制御部は、前記液体給排部にて前記容器から前記液体を排出した状態では、前記供給ローラを前記塗布ローラから離した位置で、前記供給ローラを回転する
ことを特徴とする請求項２または請求項３に記載の液体塗布装置。