JP6326758B2 - X線発生装置 - Google Patents
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Description
図1は本発明の実施の形態のX線管の照射窓近傍を示す模式的断面図であって、照射窓の熱がX線管(ターゲットホルダ)側に伝播することを抑制するようにした構造の例である。
シミュレーションは、図8に示すように、電子ビームBの照射位置において半径5μmの領域で発熱量5Wのもとに発熱するものとし、熱平衡状態になった時点における各部の温度を計算した。電子ビームB軸上での真空側および大気側の上昇温度(℃)の計算結果を表1に示す。
2 ターゲット
3,13,23 照射窓
4 金属層
23a 熱伝導率の良い材料
23b 熱伝導率の悪い材料
B 電子ビーム
Claims (5)
- X線管内の真空雰囲気中に配置されたターゲットに対し、電子源からの電子ビームを照射することによって発生するX線を、上記X線管に設けられた開口を気密に封止する照射窓を介して当該X線管外に放射するX線発生装置において、
上記照射窓が、熱異方性材料によって構成され、当該照射窓の広がり方向と厚さ方向とで熱伝導率が相違する熱異方性を有しており、
上記照射窓の広がり方向への熱伝導率と厚さ方向への熱伝導率のうち、大きい方の熱伝導率が1000W/(m・K)以上であり、小さい方の熱伝導率が10W/(m・K)以下であることを特徴とするX線発生装置。 - 上記照射窓が、当該照射窓の広がり方向への熱伝導率が厚さ方向への熱伝導率よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 上記照射窓が、当該照射窓の広がり方向への熱伝導率が厚さ方向への熱伝導率よりも大きいことを特徴とする請求項1に記載のX線発生装置。
- 上記熱異方性材料がグラファイトであることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載のX線発生装置。
- 上記照射窓の真空側の表面に、ターゲット材料が一体に積層されていることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載のX線発生装置。
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