JP5455880B2 - 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 - Google Patents
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Description
前記外囲器の内部に位置する電子放出源と、
前記電子放出源から放出された電子線束の照射により放射線を発生するターゲット膜と、その電子放出源側の面において前記ターゲット膜を支持する透過基板と、を有する透過型ターゲットと、
開孔を有し、前記開孔において前記透過型ターゲットを囲み、前記外囲器の外部に突出する部分を有するように前記開口部に接続され、前記透過型ターゲットから放出された放射線の一部を遮蔽する遮蔽体と、
を有する放射線発生管であって、
前記開孔は、前記透過型ターゲットの前記電子放出源側において前記電子線束を通過させる電子線束通路と、前記透過型ターゲットの前記電子放出源側とは反対側において前記放射線を通過させる放射線通路と、を有し、
前記透過型ターゲットは、前記電子線束通路の中心線に対し傾斜しているとともに、前記遮蔽体の前記突出している部分に接続されていることを特徴とする。
また、本発明の放射線発生管は、電子放出源と、
前記電子放出源に対向し前記電子放出源から放出された電子線束の照射により放射線を発生するターゲット膜と、前記ターゲット膜の前記電子放出源と対向する側とは反対側において前記ターゲット膜を支持する透過基板とを有する透過型ターゲットと、
前記電子放出源を内部に収容する外囲器と、
開孔を有し、前記透過型ターゲットを前記開孔において保持するとともに、前記内部と連通する電子線束通路と、前記透過型ターゲットの前記電子線束通路とは反対側において前記放射線を通過させる放射線通路と、を前記開孔の部分として有するように前記外囲器に接続された遮蔽体と、
を備える放射線発生管であって、
前記遮蔽体は、前記外囲器の外側に突出している部分を有し、
前記透過型ターゲットは、前記電子線束を受ける面が前記電子線束通路の中心線に対し傾斜するように、前記遮蔽体の前記突出している部分に接続されていることを特徴とする。
まず図1を参照して、本発明に係る放射線発生装置の第1の実施形態について説明する。図1は、本実施形態の透過型放射線管を用いた放射線発生装置の断面模式図及び遮蔽体の外表面の温度分布図である。図1の断面模式図は、電子束の中心線(電子束中心線22)方向をZ軸方向とするZ−Y断面を表している。
次に図2を参照して、本発明に係る放射線発生装置の第2の実施形態について説明する。図2は、本実施形態の透過型放射線管を用いた放射線発生装置の断面模式図及び遮蔽体の外表面の温度分布図である。なお、第1の実施形態の放射線発生装置1と同一の構成要素については同一の符号を付して説明する。
次に図3を参照して、本発明に係る放射線発生装置の第3の実施形態について説明する。図3は、本実施形態の透過型放射線管を用いた放射線発生装置の断面模式図及び遮蔽体の外表面の温度分布図である。なお、第1の実施形態の放射線発生装置1と同一の構成要素については同一の符号を付して説明する。
次に図4を参照して、上記放射線発生装置を用いた第4の実施形態の放射線撮影装置について説明する。図4は、本実施形態の放射線撮影装置を示す模式図である。ここでは図1の放射線発生装置1を用いているが、図2および図3の放射線発生装置2、3を用いても同様のX線撮影装置が得られる。したがって図4においては、第1の実施形態の放射線発生装置1の符号のみを付している。
Claims (11)
- 開口部を有する外囲器と、
前記外囲器の内部に位置する電子放出源と、
前記電子放出源から放出された電子線束の照射により放射線を発生するターゲット膜と、その電子放出源側の面において前記ターゲット膜を支持する透過基板と、を有する透過型ターゲットと、
開孔を有し、前記開孔において前記透過型ターゲットを囲み、前記外囲器の外部に突出する部分を有するように前記開口部に接続され、前記透過型ターゲットから放出された放射線の一部を遮蔽する遮蔽体と、
を有する放射線発生管であって、
前記開孔は、前記透過型ターゲットの前記電子放出源側において前記電子線束を通過させる電子線束通路と、前記透過型ターゲットの前記電子放出源側とは反対側において前記放射線を通過させる放射線通路と、を有し、
前記透過型ターゲットは、前記電子線束通路の中心線に対し傾斜しているとともに、前記遮蔽体の前記突出している部分に接続されていることを特徴とする放射線発生管。 - 前記透過型ターゲットは、前記電子線束通路の前記中心線に対して、8度以上90度未満の角度をなして傾斜していることを特徴とする請求項1に記載の放射線発生管。
- 前記透過型ターゲットは、前記遮蔽体に伝熱的に接続されていることを特徴とする請求項1または2に記載の放射線発生管。
- 前記透過基板は、炭化ケイ素またはダイヤモンドの少なくともいずれかを含むことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の放射線発生管。
- 前記透過型ターゲットの前記電子線束が照射される面は、前記放射線通路の中心線に対して傾斜していることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか1項に記載の放射線発生管。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の放射線発生管と、冷却媒体と、前記放射線発生管と前記冷却媒体とを収納する収納容器とを備え、
前記冷却媒体は、前記遮蔽体の前記突出している部分の外側面に接触していることを特徴とする放射線発生装置。 - 前記冷却媒体は、前記遮蔽体のうち前記透過型ターゲットが伝熱的に接続されている第一の接続部と、前記遮蔽体のうち前記開口部に接続されている第二の接続部との間において、前記遮蔽体の前記外側面に接触していることを特徴とする請求項6に記載の放射線発生装置。
- 前記冷却媒体は、電気絶縁性を有する液体であることを特徴とする請求項6または7に記載の放射線発生装置。
- 前記電気絶縁性を有する液体は、電気絶縁油またはフッ素系不活性液体であることを特徴とする請求項8に記載の放射線発生装置。
- 請求項6乃至9のいずれか1項に記載の放射線発生装置と、
前記放射線発生管から発生し、被検体を透過した放射線を検出する放射線検出手段と、
前記放射線検出手段による検出結果から放射線透過画像を作成する信号処理手段と、
を少なくとも有することを特徴とする放射線撮影装置。 - 電子放出源と、
前記電子放出源に対向し前記電子放出源から放出された電子線束の照射により放射線を発生するターゲット膜と、前記ターゲット膜の前記電子放出源と対向する側とは反対側において前記ターゲット膜を支持する透過基板とを有する透過型ターゲットと、
前記電子放出源を内部に収容する外囲器と、
開孔を有し、前記透過型ターゲットを前記開孔において保持するとともに、前記内部と連通する電子線束通路と、前記透過型ターゲットの前記電子線束通路とは反対側において前記放射線を通過させる放射線通路と、を前記開孔の部分として有するように前記外囲器に接続された遮蔽体と、
を備える放射線発生管であって、
前記遮蔽体は、前記外囲器の外側に突出している部分を有し、
前記透過型ターゲットは、前記電子線束を受ける面が前記電子線束通路の中心線に対し傾斜するように、前記遮蔽体の前記突出している部分に接続されていることを特徴とする放射線発生管。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275620A JP5455880B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 |
KR1020137016456A KR101515049B1 (ko) | 2010-12-10 | 2011-11-08 | 방사선 발생장치 및 방사선 촬영장치 |
PCT/JP2011/076134 WO2012077463A1 (en) | 2010-12-10 | 2011-11-08 | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
CN201180058649.3A CN103250227B (zh) | 2010-12-10 | 2011-11-08 | 放射线产生装置和放射线成像装置 |
US13/884,339 US9281155B2 (en) | 2010-12-10 | 2011-11-08 | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
EP11793511.4A EP2649635B1 (en) | 2010-12-10 | 2011-11-08 | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2010275620A JP5455880B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012124098A JP2012124098A (ja) | 2012-06-28 |
JP2012124098A5 JP2012124098A5 (ja) | 2013-09-19 |
JP5455880B2 true JP5455880B2 (ja) | 2014-03-26 |
Family
ID=45217604
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010275620A Expired - Fee Related JP5455880B2 (ja) | 2010-12-10 | 2010-12-10 | 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9281155B2 (ja) |
EP (1) | EP2649635B1 (ja) |
JP (1) | JP5455880B2 (ja) |
KR (1) | KR101515049B1 (ja) |
CN (1) | CN103250227B (ja) |
WO (1) | WO2012077463A1 (ja) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2649634B1 (en) | 2010-12-10 | 2018-07-04 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
JP6039282B2 (ja) | 2011-08-05 | 2016-12-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及び放射線撮影装置 |
EP2740331B1 (en) | 2011-08-05 | 2018-05-30 | Canon Kabushiki Kaisha | Radiation generating apparatus and radiation imaging apparatus |
JP5896649B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-30 | キヤノン株式会社 | ターゲット構造体及びx線発生装置 |
JP5875297B2 (ja) | 2011-08-31 | 2016-03-02 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置、放射線撮影システム |
JP2013109902A (ja) * | 2011-11-18 | 2013-06-06 | Canon Inc | 透過型放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5984367B2 (ja) | 2011-12-02 | 2016-09-06 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影システム |
JP6308714B2 (ja) * | 2012-08-28 | 2018-04-11 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管および該放射線発生管を備えた放射線発生装置 |
CN104620098B (zh) * | 2012-09-12 | 2019-12-13 | 世高株式会社 | X射线检查装置 |
JP6061692B2 (ja) | 2013-01-18 | 2017-01-18 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管及び放射線発生装置及びそれらを用いた放射線撮影装置 |
JP6116274B2 (ja) * | 2013-02-13 | 2017-04-19 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置および該放射線発生装置を備える放射線撮影装置 |
JP6316019B2 (ja) | 2013-03-06 | 2018-04-25 | キヤノン株式会社 | X線発生管、該x線発生管を備えたx線発生装置及びx線撮影システム |
JP6230389B2 (ja) | 2013-06-05 | 2017-11-15 | キヤノン株式会社 | X線発生管及びそれを用いたx線発生装置とx線撮影システム |
JP6327802B2 (ja) | 2013-06-12 | 2018-05-23 | キヤノン株式会社 | 放射線発生管及びそれを用いた放射線発生装置と放射線撮影システム |
JP6338341B2 (ja) * | 2013-09-19 | 2018-06-06 | キヤノン株式会社 | 透過型放射線管、放射線発生装置及び放射線撮影システム |
JP6272043B2 (ja) * | 2014-01-16 | 2018-01-31 | キヤノン株式会社 | X線発生管及びこれを用いたx線発生装置、x線撮影システム |
JP6598538B2 (ja) | 2014-07-18 | 2019-10-30 | キヤノン株式会社 | 陽極及びこれを用いたx線発生管、x線発生装置、x線撮影システム |
JP6441015B2 (ja) * | 2014-10-06 | 2018-12-19 | キヤノンメディカルシステムズ株式会社 | X線診断装置及びx線管制御方法 |
JP2016110744A (ja) * | 2014-12-03 | 2016-06-20 | 株式会社東芝 | X線管装置 |
JP6611490B2 (ja) * | 2015-07-02 | 2019-11-27 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びこれを用いたx線撮影システム |
JP6573380B2 (ja) * | 2015-07-27 | 2019-09-11 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びx線撮影システム |
CN105702544A (zh) * | 2016-01-21 | 2016-06-22 | 中国电子科技集团公司第三十八研究所 | 一种金刚石射线靶、制备方法及应用 |
KR101966794B1 (ko) * | 2017-07-12 | 2019-08-27 | (주)선재하이테크 | 전자 집속 개선용 엑스선관 |
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US11315751B2 (en) * | 2019-04-25 | 2022-04-26 | The Boeing Company | Electromagnetic X-ray control |
JP7414640B2 (ja) * | 2020-05-27 | 2024-01-16 | キヤノン電子管デバイス株式会社 | 固定陽極x線管 |
CN115884489A (zh) * | 2021-09-26 | 2023-03-31 | 中硼(厦门)医疗器械有限公司 | 中子捕获治疗系统 |
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JP4878311B2 (ja) | 2006-03-03 | 2012-02-15 | キヤノン株式会社 | マルチx線発生装置 |
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JP5416006B2 (ja) | 2010-03-23 | 2014-02-12 | キヤノン株式会社 | X線発生装置及びその制御方法 |
JP5800578B2 (ja) | 2011-05-31 | 2015-10-28 | キヤノン株式会社 | X線管 |
JP5804777B2 (ja) | 2011-06-01 | 2015-11-04 | キヤノン株式会社 | X線発生管及び、x線発生装置 |
JP5825892B2 (ja) | 2011-07-11 | 2015-12-02 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP2013020792A (ja) | 2011-07-11 | 2013-01-31 | Canon Inc | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5791401B2 (ja) | 2011-07-11 | 2015-10-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5713832B2 (ja) | 2011-08-03 | 2015-05-07 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置及びそれを用いた放射線撮影装置 |
JP5911283B2 (ja) | 2011-12-09 | 2016-04-27 | キヤノン株式会社 | 放射線発生装置 |
-
2010
- 2010-12-10 JP JP2010275620A patent/JP5455880B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2011
- 2011-11-08 US US13/884,339 patent/US9281155B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-08 CN CN201180058649.3A patent/CN103250227B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-08 WO PCT/JP2011/076134 patent/WO2012077463A1/en active Application Filing
- 2011-11-08 KR KR1020137016456A patent/KR101515049B1/ko active IP Right Grant
- 2011-11-08 EP EP11793511.4A patent/EP2649635B1/en not_active Not-in-force
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO2012077463A1 (en) | 2012-06-14 |
KR101515049B1 (ko) | 2015-04-24 |
EP2649635A1 (en) | 2013-10-16 |
CN103250227B (zh) | 2016-05-04 |
CN103250227A (zh) | 2013-08-14 |
US20130230143A1 (en) | 2013-09-05 |
US9281155B2 (en) | 2016-03-08 |
JP2012124098A (ja) | 2012-06-28 |
EP2649635B1 (en) | 2018-01-10 |
KR20130098416A (ko) | 2013-09-04 |
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---|---|---|
JP5455880B2 (ja) | 放射線発生管、放射線発生装置ならびに放射線撮影装置 | |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20120911 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130809 |
|
A871 | Explanation of circumstances concerning accelerated examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A871 Effective date: 20130809 |
|
A975 | Report on accelerated examination |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20131025 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20131210 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20140107 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |