JP5871528B2 - 透過型x線発生装置及びそれを用いたx線撮影装置 - Google Patents
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Description
前記電子通過路を介して電子を透過型ターゲットに照射してX線を発生させる透過型X線発生装置であって、
前記電子通過路形成部材は、前記電子通過路に面して前記透過型ターゲットから後方に散乱する反射電子の照射によりX線を生じる副X線発生面を有し、
前記透過型ターゲットは、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路形成部材は、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記副X線発生面と前記透過型ターゲットとのなす角度θが以下の関係を有することを特徴とする透過型X線発生装置を提供するものである。
10°<θ<85°
前記電子通過路を介して電子を透過型ターゲットに照射してX線を発生させる透過型X線発生装置であって、
前記透過型ターゲットは、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路形成部材は、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路の少なくとも前記透過型ターゲット側の端部における断面積が、前記透過型ターゲットとは反対側に比して前記透過型ターゲット側が拡大しており、
該断面積が拡大した領域の内壁面の少なくとも一部が、前記透過型ターゲットから後方に散乱する反射電子の照射によりX線を生じる副X線発生面となっており、
前記電子通過路の少なくとも前記透過型ターゲット側の端部の断面積の拡大が、連続的な拡大であることを特徴とする透過型X線発生装置を提供するものである。
まず、図1を用いて本発明の第1の実施形態について説明する。図1(a)は本実施形態の透過型X線発生管10の模式図であり、図1(b)は図1(a)における透過型ターゲット1近傍の拡大図である。
次に、図5(a)を用いて、本発明の第2の実施形態について説明する。本実施形態では、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状が第1の実施形態と異なっており、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状以外で共通する部分については、第1の実施形態と同様とすることができる。
次に、図5(b)を用いて、本発明の第3の実施形態について説明する。本実施形態では、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状が第1の実施形態と異なっており、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状以外で共通する部分については、第1の実施形態と同様とすることができる。
次に、図6(a)を用いて、本発明の第4の実施形態について説明する。本実施形態では、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状が第1の実施形態と異なっており、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状以外で共通する部分については、第1の実施形態と同様とすることができる。
次に、図6(b)を用いて、本発明の第5の実施形態について説明する。本実施形態では、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状の一部が第4の実施形態と異なっており、電子通過路形成部材3及び電子通過路4の形状以外で共通する部分については、第5の実施形態と同様とすることができる。
次に、図7を用いて透過型X線発生管を備えた本発明のX線発生装置、及びX線撮影装置について説明する。図7は本実施形態のX線発生装置及びX線撮影装置の構成図である。
Claims (6)
- 周囲を電子通過路形成部材で囲むことにより形成された電子通過路を有し、
前記電子通過路を介して電子を透過型ターゲットに照射してX線を発生させる透過型X線発生装置であって、
前記電子通過路形成部材は、前記電子通過路に面して前記透過型ターゲットから後方に散乱する反射電子の照射によりX線を生じる副X線発生面を有し、
前記透過型ターゲットは、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路形成部材は、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記副X線発生面と前記透過型ターゲットとのなす角度θが以下の関係を有することを特徴とする透過型X線発生装置。
10°<θ<85° - 前記ターゲット支持基板は、ダイヤモンド、窒化シリコン、窒化アルミニウムの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項1に記載の透過型X線発生装置。
- 周囲を電子通過路形成部材で囲むことにより形成された電子通過路を有し、
前記電子通過路を介して電子を透過型ターゲットに照射してX線を発生させる透過型X線発生装置であって、
前記透過型ターゲットは、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路形成部材は、タングステン、タンタル、モリブデンの少なくともいずれかを有し、
前記電子通過路の少なくとも前記透過型ターゲット側の端部における断面積が、前記透過型ターゲットとは反対側に比して前記透過型ターゲット側が拡大しており、
該断面積が拡大した領域の内壁面の少なくとも一部が、前記透過型ターゲットから後方に散乱する反射電子の照射によりX線を生じる副X線発生面となっており、
前記電子通過路の少なくとも前記透過型ターゲット側の端部の断面積の拡大が、連続的な拡大であることを特徴とする透過型X線発生装置。 - 前記ターゲット支持基板は、ダイヤモンド、窒化シリコン、窒化アルミニウムの少なくともいずれかであることを特徴とする請求項3に記載の透過型X線発生装置。
- 前記副X線発生面に反射電子が照射されることで生じるX線の少なくとも一部が、前記透過型ターゲットの前記電子が照射される領域を透過することを特徴とする請求項3又は4に記載の透過型X線発生装置。
- 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の透過型X線発生装置と、前記透過型X線発生装置から放出され被検体を透過したX線を検出するX線検出器と、を備えることを特徴とするX線撮影装置。
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