JP5416006B2 - Ｘ線発生装置及びその制御方法 - Google Patents

Description

本発明は、Ｘ線発生装置及びその制御方法に関する。

Ｘ線管には、反射型ターゲットと透過型ターゲットとを用いたものがある。いずれの方式においても、高速に加速された電子線がターゲットに照射され、当該照射された領域からＸ線が発生する。このとき、Ｘ線は、全方向に向かって放出される。そのため、多くのＸ線管では、必要以外の方向へのＸ線を遮蔽するため、Ｘ線管を入れた容器又はＸ線管の周囲を鉛のようなＸ線遮蔽部材で覆っている。特許文献１には、前方遮蔽部材、後方遮蔽部材を設け、必要以外の方向へのＸ線の放出を抑制する技術が開示されている（特許文献１）。

ここで、図８（ａ）は、従来のＸ線管１２０の構成の一例を示す図である。電子源１２１から照射された電子線２０１は、後方遮蔽部材１２２に設けられた開口を介して透過型ターゲット１２４に照射される。これにより、当該照射された領域から全方向に向かってＸ線が発生する。

透過型ターゲット１２４における電子源１２１との逆側には、前方遮蔽部材１２３が設けられている。透過型ターゲット１２４の照射された領域から発生したＸ線（２０３）は、前方遮蔽部材１２３に設けられた開口を介して被写体に向けて照射される。後方遮蔽部材１２２及び前方遮蔽部材１２３は、必要以外の方向へＸ線が放出されるのを抑制するために設けられる。

特開２００７−２６５９８１号公報

ここで、電子線２０１の照射に際しては、透過型ターゲット１２４に対して電圧を印加し、電子源１２１と透過型ターゲット１２４との間を高電圧に印加する。透過型ターゲット１２４への電圧の印加タイミングや電子源１２１からの電子線２０１の照射タイミングによっては、後方遮蔽部材１２２が有効に働かず、不必要な方向へＸ線が放出されてしまう場合がある。

この原因としては、電子源１２１と透過型ターゲット１２４との間に印加される電圧は、印加時間に対して勾配を持って上昇するためである。すなわち、透過型ターゲット１２４に対して電圧の印加を開始したとしても、透過型ターゲット１２４は、瞬時に、所定電圧には達しない。そのため、印加開始の直後では、電圧が低く、必要以外の領域にも電子線が照射されてしまう。例えば、図８（ｂ）に示すように、後方遮蔽部材１２２に対しても電子線が照射されてしまい、後方遮蔽部材１２２からＸ線２０５が発生してしまう。後方遮蔽部材１２２から発生したＸ線２０５は不要であり、除去されなければならない。

このように後方遮蔽部材１２２を設けても、透過型ターゲット１２４への電圧の印加タイミングや電子源１２１からの電子線の照射タイミングによっては、不要なＸ線が発生してしまう可能性がある。

そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、Ｘ線管の大きさや重さを変えずに、不要なＸ線の発生を抑制できるようにした技術を提供することを目的とする。

上記課題を解決するため、本発明の一態様によるＸ線発生装置は、Ｘ線を発生するＸ線管と、前記Ｘ線管を駆動制御する制御手段とを具備し、前記Ｘ線管は、電圧の印加により電子を放出する電子源と、前記電子源から放出された電子の衝突によりＸ線を発生する透過型ターゲットと、前記電子源と前記透過型ターゲットとの間に配され、前記電子源から放出された電子が通過する開口が設けられるとともに前記電子源側に向けて散乱するＸ線を遮蔽する遮蔽部材とを具備し、前記制御手段は、前記Ｘ線の発生に際しては、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、該電圧の印加が開始してから該透過型ターゲットが所定電圧に達するまでの時間を示す所定期間が経過した後、前記電子源から電子を放出させ、前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記電子源からの電子の放出を停止させた後、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止することを特徴とする。

本発明によれば、Ｘ線管の大きさや重さを変えずに、不要なＸ線の発生を抑制できる。

本発明の一実施の形態に係わるＸ線撮影装置１０の機能的な構成の一例を示す図。 図１に示すＸ線管２０の構成の一例を示す図。 図１に示す制御部１３におけるＸ線管２０の駆動制御の一例を示す図。 実施形態２に係わるＸ線管２０の構成の一例を示す図。 実施形態２に係わるＸ線管２０の駆動制御の一例を示す図。 実施形態３に係わるＸ線管２０の駆動制御の一例を示す図。 変形例に係わるＸ線管２０の駆動制御の一例を示す図。 従来技術の一例を示す図。

以下、本発明の一実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。

（実施形態１）
図１は、本発明の一実施の形態に係わるＸ線撮影装置１０の機能的な構成の一例を示す図である。

Ｘ線撮影装置１０は、１又は複数のコンピュータを含んで構成される。コンピュータには、例えば、ＣＰＵ等の主制御手段、ＲＯＭ（Read Only Memory）、ＲＡＭ（Random Access Memory）等の記憶手段が具備される。また、コンピュータには、ネットワークカード等の通信手段、キーボード、ディスプレイ又はタッチパネル等の入出力手段等、が具備されていてもよい。なお、これら各構成手段は、バス等により接続され、主制御手段が記憶手段に記憶されたプログラムを実行することで制御される。

ここで、Ｘ線撮影装置１０は、Ｘ線発生部１１と、Ｘ線検出部１２と、制御部１３と、表示部１４とを具備して構成される。

Ｘ線発生部１１は、被写体（例えば、人体）に向けてＸ線を照射する役割を果たす。Ｘ線発生部１１には、詳細については後述するが、Ｘ線を発生するＸ線管２０が設けられる。Ｘ線管２０は、高温度に加熱したフィラメントから熱電子を放出し、電極を介して電子線を高エネルギに加速する。そして、所望の形状に電子線を形成した後、透過型ターゲットに当該電子線を照射してＸ線を発生させる。

Ｘ線検出部１２は、被写体を透過したＸ線発生部１１からのＸ線を検出する。これにより、当該被写体に基づくＸ線画像が撮影される。制御部１３は、Ｘ線撮影装置１０における処理を統括制御する。例えば、Ｘ線発生部１１とＸ線検出部１２とによるＸ線撮影を制御する。また、例えば、Ｘ線管２０を駆動制御する。表示部１４は、Ｘ線検出部１２により撮影された被写体のＸ線撮影画像を表示する。

以上が、Ｘ線撮影装置１０の構成の一例についての説明である。なお、Ｘ線検出部１２や表示部１４は、必須の構成要素ではない。例えば、Ｘ線管２０を備えたＸ線発生装置であってもよい。

次に、図２を用いて、図１に示すＸ線管２０の構成の一例について説明する。

Ｘ線管２０は、電子源２１と、後方遮蔽部材２２と、前方遮蔽部材２３と、透過型ターゲット２４と、配線（２５、２６）と、真空容器２７とを具備して構成される。

電子源２１は、電子線を照射する。より具体的には、電子を放出し、それを高速に加速させて透過型ターゲット２４に衝突させる。これにより、Ｘ線が発生する。電子源２１には、電子源２１に電圧を印加する配線２６が接続されている。なお、電子源２１は、カーボンナノチューブのような冷陰極であっても、タングステンフィラメントや含浸型カソードのような熱陰極でもあってよい。電子源２１には、加熱された電子源表面から電子を引き出すための引き出し電極が配置される。電子の引き出し条件は、電子源の種類により異なってくる。ここでは、引き出し電極は、電子源２１に含まれており、その図示については省略している。

後方遮蔽部材２２は、透過型ターゲット２４に対する電子の衝突により全方向に発生したＸ線のうち、後方（電子源側）へ向かって発生するＸ線を遮蔽する。すなわち、後方（電子源側）に向けて散乱するＸ線を遮蔽する。後方遮蔽部材２２には、電子源２１から放出された電子が通過する開口が設けられる。後方遮蔽部材２２には、例えば、遮蔽効果の大きいタングステンやタンタル等の重金属を含む材料を用いればよい。

前方遮蔽部材２３は、透過型ターゲット２４に対する電子の衝突により全方向に発生したＸ線のうち、前方（電子源２１と逆側）へ向かって発生するＸ線の一部を遮蔽する。より具体的には、Ｘ線透過窓２８方向以外の方向に向かって発生したＸ線を遮蔽する。前方遮蔽部材２３には、発生したＸ線が通過する開口が設けられる。前方遮蔽部材２３には、後方遮蔽部材２２同様に、例えば、遮蔽効果の大きいタングステンやタンタル等の重金属を含む材料を用いればよい。

透過型ターゲット２４は、電子源２１から照射される電子線に応じてＸ線を発生する。電子線の照射に際しては、電子源２１と透過型ターゲット２４との間が所定電圧（高電圧、例えば、１００ｋＶ）に印加されている必要がある。そのため、透過型ターゲット２４には、電圧（高電圧）を印加する配線２５が接続されている。

透過型ターゲット２４には、高融点でＸ線発生効率の良い重金属を含む材料、例えば、タングステン、タンタル等を用いればよい。また、用途によっては、重金属ではないが、モリブデン等を用いることもできる。透過型ターゲット２４の構造は、タングステン等の薄い金属箔のみで構成されてもよいし、例えば、カーボン等のＸ線を透過し易い材料との積層体で構成されてもよい。例えば、透過型ターゲット２４が金属薄膜で構成された場合、その層の厚さは、使用される金属の種類等に応じて異なるが、概ね、数μｍから１０数μｍとなる。

また、透過型ターゲット２４に対して印加される電圧は、その使用用途によって異なってはくるが、例えば、タングステンを用いた医療用のＸ線管の場合には、例えば、８０〜１１０ｋＶとなる。透過型ターゲット２４に対して高電圧が印加された場合には、後方遮蔽部材２２及び前方遮蔽部材２３に対しても、透過型ターゲット２４とほぼ同電圧が印加されることになる。

真空容器２７は、Ｘ線管２０の内部を真空に保つ役割を果たす。真空容器２７は、１０−５パスカルオーダーの真空度を保つことができればよく、その材質には、例えば、ガラス、金属、セラミックス等を用いればよい。真空容器２７には、Ｘ線透過窓２８が設けられている。Ｘ線透過窓２８は、被写体に向けてＸ線を照射するために形成された開口である。Ｘ線透過窓２８には、例えば、アルミニウム、ベリリウム等の軽元素金属やガラス等のセラミックス材を用いればよい。

次に、図３を用いて、図１に示す制御部１３におけるＸ線管２０の駆動制御の一例について説明する。図３には、透過型ターゲット２４に対して印加される電圧の印加タイミングと、電子源２１による電子の放出タイミングとが示される。なお、横軸は、時間軸を示している。

制御部１３は、まず、タイミングＴ１において、透過型ターゲット２４に対して高電圧（所定電圧）を印加する。透過型ターゲット２４が所定電圧に達するまでには若干の遅延（期間Ｔ５）がある。なお、制御部１３には、透過型ターゲット２４が所定電圧に達するまでの時間（所定期間）を規定した情報が保持されている。

ここで、透過型ターゲット２４は、タイミングＴ２で所定電圧に達する。透過型ターゲット２４が所定電圧に達すると、制御部１３は、タイミングＴ１０において、電子源２１から電子線を発生させる。

所定のＸ線発生時間（期間Ｔ６）が経過すると、制御部１３は、タイミングＴ１１において、電子源２１による電子線の発生を停止させる。その後、タイミングＴ３において、透過型ターゲット２４に対する電圧の印加も停止する。実際に、透過型ターゲット２４に印加された電圧がほぼ完全に元に戻るのは、タイミングＴ４の時点となる。

ここで、期間Ｔ５（Ｔ１〜Ｔ２）では、透過型ターゲット２４に対して電圧が印加されているが、電子源２１から電子が放出（電子線が照射）されていないため、Ｘ線は発生しない。期間Ｔ６（Ｔ１０〜Ｔ１１）では、電子源２１から電子が放出され、また、透過型ターゲット２４に対して所定電圧が印加されているため、放出された全ての電子が透過型ターゲットに衝突する。このため、前方遮蔽部材２３の開口からは、必要とされるＸ線のみが発生し、後方遮蔽部材２２から不要なＸ線は発生しない。

また、タイミングＴ１１では、電子源２１による電子の放出が停止するため、Ｘ線の発生も停止する。タイミングＴ３では、透過型ターゲット２４に対する電圧の印加を停止するため、透過型ターゲット２４の電圧は所定電圧に達していない。そのため、このタイミングＴ３以降では、Ｘ線は発生しない。

透過型ターゲット２４に対する電圧の印加が開始したタイミング（Ｔ１）〜電子源２１による電子線の照射が開始するまでのタイミング（Ｔ１０）を示す期間Ｔ８は、透過型ターゲット２４がほぼ一定の電圧（所定電圧）に達するまでに要する時間に相当する。期間Ｔ８は、例えば、０．３〜２ｍｓｅｃ程度であるのが望ましい。

期間Ｔ６は、Ｘ線が発生する時間であり、例えば、１０ｍｓｅｃ〜１ｓｅｃ程度である。タイミングＴ１１では、電子源２１による電子の放出が終了するため、タイミングＴ３（透過型ターゲット２４への電圧の印加の終了タイミング）は、タイミングＴ１１の後であればよい。

仮に、タイミングＴ１０が、タイミングＴ１とタイミングＴ２との間にあると、透過型ターゲット２４が所定電圧に達していないため、電子源２１から放出された電子は、透過型ターゲット２４以外にも衝突してしまう。この場合、不要なＸ線が発生してしまう。

以上説明したように本実施形態によれば、Ｘ線の発生に際しては、透過型ターゲット２４が所定電圧に達した後、電子源２１から電子を放出させる。また、Ｘ線の発生の終了に際しては、電子源２１からの電子の放出を停止させた後、透過型ターゲット２４への電圧の印加を停止する。これにより、Ｘ線管の大きさや重さを変えずに、不要なＸ線の発生を抑制できる。

（実施形態２）
次に、実施形態２について説明する。図４は、実施形態２に係わるＸ線管２０の構成の一例を示す図である。なお、実施形態１を説明した図２と同様の構成については同一の符号を付しており、その説明については省略する場合もある。

実施形態２に係わるＸ線管２０には、電子源２１と後方遮蔽部材２２との間にレンズ電極３０が設けられる。レンズ電極３０は、レンズ作用により電子源２１から照射される電子線を形成する。レンズ電極３０には、レンズ作用を生じさせない電圧である第１の電圧と、レンズ作用を生じさせる電圧である第２の電圧とが印加される。より具体的には、第１の電圧は、電子源２１に印加される電圧よりも低い電圧であり、第２の電圧は、電子源２１に印加される電圧よりも低い電圧である。

次に、図５を用いて、実施形態２に係わるＸ線管２０の駆動制御の一例について説明する。図５には、透過型ターゲット２４に対する電圧の印加タイミングと、電子源２１による電子の放出タイミングと、レンズ電極３０に対する電圧の印加タイミングとが示される。なお、横軸は、時間軸を示している。

タイミングＴ１〜Ｔ１１は、実施形態１を説明した図３で示したタイミングと同じである。図５においては、レンズ電極３０に対して印加する電圧（第１の電圧から第２の電圧）を切り替えるタイミングＴ１２と、レンズ電極３０に対して印加する電圧（第２の電圧から第１の電圧）を切り替えるタイミングＴ１３とが追加されている。

電子源２１により電子が放出されている状態で透過型ターゲット２４に単に電圧を印加すると、後方遮蔽部材２２よりも後方（電子源２１側）に向けてＸ線が発生してしまう。しかし、ここでは、透過型ターゲット２４に対して電圧が印加される前に、レンズ電極３０に対して第２の電圧が印加されているため、電子源２１から電子が放出されたとしても、レンズ電極３０に大部分の電子が流れる。

透過型ターゲット２４に対しては、例えば、１００ｋＶ程度の電圧が印加されるが、レンズ電極３０や電子源２１に対しては、このような高電圧は印加されない。レンズ電極３０にかける電位は、数ｋＶ以下であり、このレベルで発生するＸ線のエネルギーは、１〜２ｋｅＶとなる。そのため、発生したＸ線は、通常のＸ線管の容器でほぼ吸収されてしまう。透過型ターゲット２４へ印加される電圧が所定電圧に近くなるにつれ、透過型ターゲット２４へ流れる電流も増加する。

図５の場合、Ｘ線の発生に際しては、タイミングＴ１２において、タイミングＴ１よりも前にレンズ電極３０に対して第１の電圧から第２の電圧に切り替えて電圧を印加する。また、Ｘ線の発生の停止に際しては、タイミング１３において、タイミングＴ４の後でレンズ電極３０に対して第２の電圧から第１の電圧に切り替えて電圧を印加する。

このように、透過型ターゲット２４に対して電圧が印加される期間全てに渡って、レンズ電極３０に対して第２の電圧を印加するように構成した場合、電子源２１からの電子の放出タイミングは、図５に示すタイミングに限られない。例えば、タイミングＴ１０をタイミングＴ１２の後に移動しても良いし、また、タイミングＴ１１をタイミングＴ１３よりも前に移動しても良い。

以上説明したように実施形態２によれば、透過型ターゲット２４に対して電圧が印加される期間全てに渡って、レンズ電極３０に対して第２の電圧を印加する。これにより、電子源２１による電子の放出タイミングの自由度が増える。

（実施形態３）
次に、実施形態３について説明する。なお、実施形態３に係わるＸ線管２０の構成は、実施形態２を説明した図４と同様であるため、その説明については省略する。ここでは、実施形態２と相違する点について説明する。相違点としては、電子源２１による電子の放出タイミングと、レンズ電極３０に対する電圧の印加タイミングとが挙げられる。

図６を用いて、実施形態３に係わるＸ線管２０の駆動制御の一例について説明する。

制御部１３は、タイミングＴ１２において、レンズ電極３０に対して第２の電圧を印加する。すなわち、レンズ電極３０への第２の電圧の印加は、タイミングＴ２において、透過型ターゲット２４が所定電圧に達した後、タイミングＴ１０において、電子源２１から電子を放出する前に行なわれる。

Ｘ線の発生を停止する際には、制御部１３は、タイミングＴ１１において、電子源２１による電子の放出を停止させ、タイミングＴ１３において、レンズ電極３０への電圧を第２の電圧から第１の電圧に切り替える。その後、制御部１３は、タイミングＴ３において、透過型ターゲット２４への電圧の印加を停止する
この場合、電子源２１から電子が放出される際には必ず、レンズ電極３０に対して第２の電圧が印加されているため、実施形態１に比べて、電子線が絞られ、より不要なＸ線の発生を抑制できる。また、誤動作により、透過型ターゲット２４が所定電圧に達していない状態で電子源２１から電子が放出されたとしても、レンズ電極３０に対して第２の電圧が印加されていれば、透過型ターゲット２４や後方遮蔽部材２２に電子線が照射されることはほぼない。この場合、多くの電子は、レンズ電極３０に流れる。このため、不要なＸ線の発生をより抑制できる。

以上説明したように実施形態３によれば、上述した誤作動等が生じた場合であっても、不要なＸ線の発生を抑制できる。そのため、例えば、真空容器２７の外部に不要なＸ線が漏洩しない。

なお、実施形態２及び実施形態３で説明したレンズ電極３０に対して印加する第１の電圧は、マイナス電位であっても良い。マイナス電位は、例えば、−０．１ｋＶ程度以上、−数ｋＶ程度が望ましい。レンズ電極３０の電位がマイナスであれば、発生した電子は、電子源２１の方向へ戻り、グランドに流れる。このようなタイミングで、透過型ターゲット２４に高電圧が印加されたとしても、不要なＸ線は発生しない。

以上が本発明の代表的な実施形態の例であるが、本発明は、上記及び図面に示す実施形態に限定することなく、その要旨を変更しない範囲内で適宜変形して実施できるものである。

例えば、上述した実施形態１においては、図３を用いて電子源からの電子の放出タイミングや透過型ターゲット２４に対する電圧の印加タイミングについて説明したが、必ずしもこのようなタイミングで行なう必要はない。例えば、図７に示すように、期間Ｔ２１と期間２２との長さを変更しても良い（Ｔ２１≧Ｔ２２）。

期間Ｔ１０（Ｔ２〜Ｔ１０）は、透過型ターゲット２４の昇圧にかかる時間を考慮して決めなければならない。一方、透過型ターゲット２４に対する電圧の印加の終了タイミングＴ３は、タイミングＴ１１で電子源２１からの電子の放出が終了しているため、短くなっても構わない。そのため、期間Ｔ２２（Ｔ１１〜Ｔ３）は、期間Ｔ２１（Ｔ２〜Ｔ１０）に比べて短くても良い。このように構成した場合、不要なＸ線の発生を抑制できるとともに、また、透過型ターゲット２４に対する電圧の印加時間を短くできる。

Claims (7)

1. Ｘ線を発生するＸ線管と、
   前記Ｘ線管を駆動制御する制御手段と
   を具備し、
   前記Ｘ線管は、
   電圧の印加により電子を放出する電子源と、
   前記電子源から放出された電子の衝突によりＸ線を発生する透過型ターゲットと、
   前記電子源と前記透過型ターゲットとの間に配され、前記電子源から放出された電子が通過する開口が設けられるとともに前記電子源側に向けて散乱するＸ線を遮蔽する遮蔽部材と
   を具備し、
   前記制御手段は、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、該電圧の印加が開始してから該透過型ターゲットが所定電圧に達するまでの時間を示す所定期間が経過した後、前記電子源から電子を放出させ、
   前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記電子源からの電子の放出を停止させた後、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止する
   ことを特徴とするＸ線発生装置。
2. 前記電子源から電子の放出を停止させてから前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止するまでの時間は、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始してから前記電子源から電子を放出させるまでの時間よりも短い
   ことを特徴とする請求項１記載のＸ線発生装置。
3. 前記電子源と前記遮蔽部材との間に配され、前記電子源に印加される電圧よりも低い電圧である第１の電圧が印加されているレンズ電極
   を更に具備し、
   前記制御手段は、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第１の電圧から前記電子源に印加される電圧よりも高い電圧である第２の電圧に切り替えた後、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、該電圧の印加が開始してから前記所定期間が経過した後、前記電子源から電子を放出させ、
   前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記電子源からの電子の放出を停止させ、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第２の電圧から前記第１の電圧に切り替えた後、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止する
   ことを特徴とする請求項１記載のＸ線発生装置。
4. Ｘ線を発生するＸ線管と、
   前記Ｘ線管を駆動制御する制御手段と
   を具備し、
   前記Ｘ線管は、
   電圧の印加により電子を放出する電子源と、
   前記電子源から放出された電子の衝突によりＸ線を発生する透過型ターゲットと、
   前記電子源と前記透過型ターゲットとの間に配され、前記電子源から放出された電子が通過する開口が設けられるとともに前記電子源側に向けて散乱するＸ線を遮蔽する遮蔽部材と、
   前記電子源と前記遮蔽部材との間に配され、前記電子源に印加される電圧よりも低い電圧である第１の電圧が印加されているレンズ電極と
   を具備し、
   前記制御手段は、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第１の電圧から前記電子源に印加される電圧よりも高い電圧である第２の電圧に切り替えた後、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、
   前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止した後、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第２の電圧から前記第１の電圧に切り替える
   ことを特徴とするＸ線発生装置。
5. 前記制御手段は、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第１の電圧から前記第２の電圧に切り替える前に前記電子源から電子を放出させ、
   前記Ｘ線の発生に停止に際しては、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第２の電圧から前記第１の電圧に切り替えた後に前記電子源から電子の放出を停止させる
   ことを特徴とする請求項４記載のＸ線発生装置。
6. Ｘ線管を駆動制御するＸ線発生装置の制御方法であって、
   前記Ｘ線管は、
   電圧の印加により電子を放出する電子源と、
   前記電子源から放出された電子の衝突によりＸ線を発生する透過型ターゲットと、
   前記電子源と前記透過型ターゲットとの間に配され、前記電子源から放出された電子が通過する開口が設けられるとともに前記電子源側に向けて散乱するＸ線を遮蔽する遮蔽部材と
   を具備し、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、該電圧の印加が開始してから該透過型ターゲットが所定電圧に達するまでの時間を示す所定期間が経過した後、前記電子源から電子を放出させ、
   前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記電子源からの電子の放出を停止させた後、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止する
   ことを特徴とするＸ線発生装置の制御方法。
7. Ｘ線管を駆動制御するＸ線発生装置の制御方法であって、
   前記Ｘ線管は、
   電圧の印加により電子を放出する電子源と、
   前記電子源から放出された電子の衝突によりＸ線を発生する透過型ターゲットと、
   前記電子源と前記透過型ターゲットとの間に配され、前記電子源から放出された電子が通過する開口が設けられるとともに前記電子源側に向けて散乱するＸ線を遮蔽する遮蔽部材と、前記電子源と前記遮蔽部材との間に配され、前記電子源に印加される電圧よりも低い電圧である第１の電圧が印加されているレンズ電極と
   を具備し、
   前記Ｘ線の発生に際しては、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第１の電圧から前記電子源に印加される電圧よりも高い電圧である第２の電圧に切り替えた後、前記透過型ターゲットに対して電圧の印加を開始し、
   前記Ｘ線の発生の停止に際しては、前記透過型ターゲットに対する電圧の印加を停止した後、前記レンズ電極に対して印加される電圧を前記第２の電圧から前記第１の電圧に切り替える
   ことを特徴とするＸ線発生装置の制御方法。

Images