JP6326207B2 - 磁性体およびそれを用いた電子部品 - Google Patents

Description

本発明はコイル・インダクタ等の電子部品において主に磁心として用いることができる磁性体およびそれを用いた電子部品に関する。

インダクタ、チョークコイル、トランス等といった電子部品（所謂、コイル部品・インダクタンス部品）は、磁心としての磁性体と、前記磁性体の内部または表面に形成されたコイルとを有している。磁性体の材料としてＮｉ−Ｃｕ−Ｚｎ系フェライト等のフェライトが一般に用いられている。

近年、この種の電子部品には大電流化（定格電流の高値化を意味する）が求められており、該要求を満足するために、磁性体の材料を従前のフェライトからＦｅ−Ｃｒ−Ｓｉ合金に切り替えることが検討されている。Ｆｅ−Ｃｒ−Ｓｉ合金やＦｅ−Ａｌ−Ｓｉ合金は、材料自体の飽和磁束密度がフェライトに比べて高い。その反面、材料自体の体積抵抗率が従前のフェライトに比べて格段に低い。

特許文献１には、絶縁性と強度を得るために、磁性材料間にガラスを満たすことが重要である旨示唆されている。特許文献２には、磁性材料の表面に酸化膜を形成させ、成形後に、再度、酸化膜を形成させることが開示されている。絶縁性確保の観点から酸化膜を厚くすることが重要である旨示唆されている。

特開２０１０−６２４２４号公報 特開２００７−２９９８７１号公報

しかしながら、上記各特許文献の技術では、絶縁性を確保するために、ガラスや酸化膜を十分に厚くする必要があり、そのことが、充填性向上の妨げになり、結果的に、部品の小型化の制約になっていた。

これらのことを考慮し、本発明は、絶縁抵抗の向上および充填性向上を両立しうる新たな磁性体、及び、そのような磁性体を用いた電子部品の提供を課題とする。

本発明者らが鋭意検討した結果、以下のような本発明を完成した。
（１）イオウ原子（Ｓ）を含むＦｅ−Ｓｉ−Ｍ系軟磁性合金（但し、ＭはＦｅより酸化し易い金属元素である。）を含む磁性粒子どうしが互いに酸化膜を介して結合してなる磁性体。
（２）０．００４〜０．０１２ｗｔ％のＳを含有する（１）の磁性体。
（３）１．５〜７．５ｗｔ％のＳｉ、２〜８ｗｔ％の金属Ｍ、Ｓ、Ｆｅ、酸素原子及び不可避不純物のみからなる（１）又は（２）の磁性体。
（４）見かけ密度が５．７〜７．２ｇ／ｃｍ^３である（１）〜（３）の磁性体。
（５）金属ＭがＣｒ又はＡｌである（１）〜（４）の磁性体。
（６）前記磁性粒子がアトマイズ法で製造されてなるものである（１）〜（５）の磁性体。
（７）前記磁性粒子がアトマイズ法で製造され、前記アトマイズ法による製造の際にＳが添加されてなるものである（１）〜（５）の磁性体。
（８）前記酸化膜が磁性粒子自体の酸化物を含み、前記酸化膜を介する結合は熱処理によりなされてなるものである（１）〜（７）の磁性体。
（９）（１）〜（８）の磁性体を含有する磁心を備える電子部品。

本発明によれば、イオウの添加により絶縁性が高くなり、結果として、直付け電極を形成する場合であっても、めっき伸びが生じにくく、電極が高精度に形成できる磁性体が提供される。絶縁性を維持しつつ成形密度を高くすることができることから、熱処理における透磁率の向上が期待され、結果として、電子部品の小型化に寄与する。イオウを添加することで、低い熱処理温であっても透磁率向上効果が発現することが確認されている。よって、熱処理に要する熱量が少なくてよく、例えば、熱処理温度を維持しつつ保持時間を短縮することなどを通じて、熱処理時間の短縮、ひいては、生産性の向上が期待される。

本発明の磁性体の微細構造を模式的に表す断面図である。

図面を適宜参照しながら本発明を詳述する。但し、本発明は図示された態様に限定されるわけでなく、また、図面においては発明の特徴的な部分を強調して表現することがあるので、図面各部において縮尺の正確性は必ずしも担保されていない。

図１は本発明の磁性体の微細構造を模式的に表す断面図である。本発明において、磁性体１は、微視的には、もともとは独立していた多数の磁性粒子１１どうしが結合してなる集合体として把握され、個々の磁性粒子１１はその周囲の概ね全体にわたって酸化膜１２が形成されていて、この酸化膜１２により磁性体１の絶縁性が確保される。隣接する磁性粒子１１どうしは、主として、それぞれの磁性粒子１１の周囲にある酸化膜１２を介して結合し、結果として、一定の形状を有する磁性体１が構成される。本発明によれば、部分的には、隣接する磁性粒子１１が、符号２１で表されるように、金属部分どうしで結合していてもよい。従来の磁性体においては、硬化した有機樹脂のマトリクス中に磁性粒子又は数個程度の磁性粒子の結合体が分散しているものや、硬化したガラス成分のマトリクス中に磁性粒子又は数個程度の磁性粒子の結合体が分散しているものが用いられていた。本発明では、有機樹脂からなるマトリクスもガラス成分からなるマトリクスも、実質的に存在しないことが好ましい。

個々の磁性粒子１１は特定の軟磁性合金から主として構成される。本発明では、磁性粒子１１はＦｅ−Ｓｉ−Ｍ系軟磁性合金を含み、この合金はイオウ（Ｓ）を必須成分としてさらに含有する。ここで、ＭはＦｅより酸化し易い金属元素であり、典型的には、Ｃｒ（クロム）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｔｉ（チタン）などが挙げられ、好ましくは、ＣｒまたはＡｌである。

磁性体１におけるＳｉの含有率は、好ましくは１．５〜７．５ｗｔ％である。Ｓｉの含有量が多ければ高抵抗・高透磁率という点で好ましく、Ｓｉの含有量が少なければ成形性が良好であり、これらを勘案して上記好適範囲が提案される。

磁性体１における前記金属Ｍの含有率は、好ましくは２．０〜８．０ｗｔ％である。金属Ｍの含有量が多ければ高抵抗・高透磁率という点で好ましく、金属Ｍの含有量が少なければ成形性が良好である。金属Ｍの存在は、熱処理時に不働態を形成して過剰な酸化を抑制するとともに強度および絶縁抵抗を発現するという点で好ましく、一方、磁気特性の向上の観点からはＭが少ないことが好ましく、これらを勘案して上記好適範囲が提案される。

磁性体１におけるＳの含有率は、好ましくは０．００４〜０．０１２ｗｔ％である。前記範囲であれば、絶縁性と透磁率とを高い水準で両立することができ、結果的に、電子部品の小型化に寄与する。

磁性体１において、Ｓｉ、金属Ｍ、Ｓ、酸素原子以外の残部は不可避不純物を除いて、Ｆｅであることが好ましい。酸素原子は主として酸化膜１２に存在するものを指すが、重量としては極めて微量である。Ｆｅ、ＳｉおよびＭ以外に含まれていてもよい金属元素としてはＭｎ（マンガン）、Ｃｏ（コバルト）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｕ（銅）などが挙げられる。
また、磁性粒子は組成の異なる磁性粒子や粒度分布の異なる磁性粒子の混合粉を用いる方法も挙げられる。

磁性体１の化学組成については、例えば、磁性体１の断面を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて撮影し、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）によるＺＡＦ法で算出することができる。

磁性体１を構成する個々の磁性粒子１１にはその周囲に酸化膜１２が形成されている。酸化膜１２は磁性体１を形成する前の原料粒子の段階で形成されていてもよいし、原料粒子の段階では酸化膜が存在しないか極めて少なく成形過程において酸化膜を生成させてもよい。好ましくは、酸化膜１２は磁性粒子１１それ自体の酸化物からなる。換言すると、酸化膜の形成のために上述の合金以外の材料を別途添加しないことが好ましい。成形前の磁性粒子に熱処理を施して磁性体１を得るときに、磁性粒子の表面部分が酸化して酸化膜１２が生成し、その生成した酸化膜１２を介して複数の磁性粒子１１が結合することが好ましい。酸化膜１２の存在は、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）による３０００倍程度の撮影像においてコントラスト（明度）の違いとして認識することができる。酸化膜１２の存在により磁性体全体としての絶縁性が担保される。

酸化膜１２においては、好ましくは、Ｆｅ元素に対する上記Ｍで表される金属元素のモル比が、磁性粒子１１に比べて大きい。このような構成の酸化膜１２を得るためには、磁性体を得るための原料粒子にＦｅの酸化物がなるべく少なく含まれるかＦｅの酸化物を極力含まれないようにして、磁性体１を得る過程において加熱処理などにより合金の表面部分を酸化させることなどが挙げられる。このような処理により、Ｆｅよりも酸化しやすい金属Ｍが選択的に酸化されて、結果として、酸化膜１２におけるＦｅに対する金属Ｍのモル比が、磁性粒子１１におけるＦｅに対する金属Ｍのモル比よりも相対的に大きくなる。酸化膜１２においてＦｅ元素よりもＭで表される金属元素のほうが多く含まれることにより、合金粒子の過剰な酸化を抑制するという利点がある。

磁性体１における酸化膜１２の化学組成を測定する方法は以下のとおりである。まず、磁性体１を破断するなどしてその断面を露出させる。ついで、イオンミリング等により平滑面を出し走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で撮影し、酸化膜１２の部分をエネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）によりＺＡＦ法で算出する。

磁性体１においては粒子どうしの結合部は主として酸化膜１２を介する結合部２２である。酸化膜１２を介する結合部２２の存在は、例えば、約３０００倍に拡大したＳＥＭ観察像などにおいて、隣接する磁性粒子１１が有する酸化膜１２が同一相であることを視認することなどで、明確に判断することができる。酸化膜１２を介する結合部２２の存在により、機械的強度と絶縁性の向上が図られる。磁性体１全体にわたり、隣接する磁性粒子１１が有する酸化膜１２を介して結合していることが好ましいが、一部でも結合していれば、相応の機械的強度と絶縁性の向上が図られ、そのような形態も本発明の一態様であるといえる。また、部分的には、符号２１で表されるように、酸化膜１２を介さずに、磁性粒子１１どうしの結合が存在していてもよい。さらに、隣接する磁性粒子１１が、酸化膜１２を介する結合部も、磁性粒子１１どうしの結合部２１もいずれも存在せず単に物理的に接触又は接近するに過ぎない形態が部分的にあってもよい。

酸化膜１２を介する結合部２２を生じさせるためには、例えば、磁性体１の製造の際に酸素が存在する雰囲気下（例、空気中）で後述する所定の温度にて熱処理を加えることなどが挙げられる。

上述の、磁性粒子１１どうしの結合部２１の存在は、例えば、約３０００倍に拡大したＳＥＭ観察像（断面写真）において、視認することができる。磁性粒子１１どうしの結合部２１の存在により透磁率の向上が図られる。

磁性粒子１１どうしの結合部２１を生成させるためには、例えば、原料粒子として酸化膜が少ない粒子を用いたり、磁性体１を製造するための熱処理において温度や酸素分圧を後述するように調節したり、原料粒子から磁性体１を得る際の成形密度を調節することなどが挙げられる。

原料として用いる磁性粒子（以下、原料粒子ともいう。）の合金組成は、最終的に得られる磁性体における合金組成に反映される。よって、最終的に得ようとする磁性体の合金組成に応じて、原料粒子の合金組成を適宜選択することができ、その好適な組成範囲は上述した磁性体の好適な組成範囲と同じである。

個々の原料粒子のサイズは最終的に得られる磁性体における磁性体１を構成する粒子のサイズと実質的に等しくなる。原料粒子のサイズとしては、透磁率と粒内渦電流損を考慮すると、ｄ５０は好ましくは２〜３０μｍである。原料粒子のｄ５０はレーザー回折・散乱による測定装置により測定することができる。

原料として用いる磁性粒子は好適にはアトマイズ法で製造される。アトマイズ法においては、高周波溶解炉で主原材料となるＦｅ、Ｃｒ（フェロクロム）、ＳｉおよびＦｅＳ（硫化鉄）を添加して溶解する。ここで、主成分の重量比およびＳの重量比を確認する。Ｓの重量比は後述する燃焼赤外吸収法によって測定される。この結果からフィードバックして、Ｓの重量比を最終的に得ようとする重量比になるようにＦｅＳをさらに添加することにより、Ｓの量を調節する。このようにして得た材料を水アトマイズで噴霧することにより磁性粒子を得ることができる。

上述の燃焼赤外吸収法においては、高周波誘導加熱炉中で純酸素を流しながら高温に加熱して測定試料を燃焼させる。燃焼によって、Ｓから得られる二酸化硫黄（ＳＯ_２）を酸素気流によって搬出し、赤外線吸収法によりその量を測定する。本発明者らの確認によれば、成形後の磁性体についてもこの方法でＳの量を測定することができ、成形前後においてＳを含めた各元素の組成比は変化していなかった。成形時に熱処理を施す場合には、磁性粒子１１の一部が酸化するものと考えられるが、重量比率の変化は感知できないほどに極めて微量であった。

原料粒子から成形体を得る方法については特に限定なく、粒子成形体製造における公知の手段を適宜取り入れることができる。以下、典型的な製造方法として原料粒子を非加熱条件下で成形した後に加熱処理に供する方法を説明する。本発明ではこの製法に限定されない。

原料粒子を非加熱条件下で成形する際には、バインダとして有機樹脂を加えることが好ましい。有機樹脂としては熱分解温度が５００℃以下であるアクリル樹脂、ブチラール樹脂、ビニル樹脂などからなるものを用いることが、熱処理後にバインダが残りにくくなる点で好ましい。成形の際には、公知の潤滑剤を加えてもよい。潤滑剤としては、有機酸塩などが挙げられ、具体的にはステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウムなどが挙げられる。潤滑剤の量は原料粒子１００重量部に対して好ましくは０〜１．５重量部である。潤滑剤の量がゼロとは、潤滑剤を使用しないことを意味する。原料粒子に対して任意的にバインダ及び／又は潤滑剤を加えて攪拌した後に、所望の形状に成形する。成形の際には例えば１〜３０ｔ／ｃｍ^２の圧力をかけることなどが挙げられる。

熱処理の好ましい態様について説明する。
熱処理は酸化雰囲気下で行うことが好ましい。より具体的には、加熱中の酸素濃度は好ましくは１％以上であり、これにより、酸化膜を介する結合部２２が生成しやすくなる。酸素濃度の上限は特に定められるものではないが、製造コスト等を考慮して空気中の酸素濃度（約２１％）を挙げることができる。加熱温度については、磁性粒子１１自体が酸化して酸化膜１２を生成し、その酸化膜１２を介して結合を生成させやすくする観点からは好ましくは６００〜８００℃である。酸化膜１２を介する結合部２２を生成させやすくする観点からは、加熱時間は好ましくは０．５〜３時間である。

加熱により得られる磁性体１の見かけ密度は好ましくは５．７〜７．２ｇ／ｃｍ^３である。見かけ密度はＪＩＳ Ｒ１６２０−１９９５に準拠する気体置換法によって測定される。見かけ密度は上述の成形圧力によって主に調節することができる。見かけ密度が前記範囲内であると、高透磁率と高抵抗とが両立する。なお、磁性体１内には空隙３０が存在していてもよい。

このようにして得られる磁性体１を種々の電子部品の磁心として用いることができる。例えば、本発明の磁性体の周囲に絶縁被覆導線を巻くことによりコイルを形成してもよい。あるいは、上述の原料粒子を含むグリーンシートを公知の方法で形成し、そこに所定パターンの導体ペーストを印刷等により形成した後に、印刷済みのグリーンシートを積層して加圧することにより成形し、次いで、上述の条件で熱処理を施すことで、本発明の磁性体の内部にコイルを形成してなる電子部品（インダクタ）を得ることもできる。その他、本発明の磁性体を磁心として用いて、その内部または表面にコイルを形成することによって種々の電子部品を得ることができる。電子部品は表面実装タイプやスルーホール実装タイプなど各種の実装形態のものであってよく、磁性体から電子部品を得る手段については、後述の実施例の記載を参考にすることもできるし、また、電子部品の分野における公知の製造手法を適宜取り入れることができる。

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例に記載された態様に限定されるわけではない。

（磁性粒子）
アトマイズ法にて磁性粒子を調製した。アトマイズ法においてはＦｅ、Ｃｒ（フェロクロム）、Ｓｉ、Ａｌ、ＦｅＳを原料とした。磁性粒子の組成及び粒径は表１記載のとおりである。組成については、燃焼赤外吸収法で確認し、表１記載以外の成分は全てＦｅであった。

（磁性体の製造）
この原料粒子１００重量部を、熱分解温度が４００℃であるアクリルバインダ１．５重量部とともに撹拌混合し、潤滑剤として０．５重量部のステアリン酸Ｚｎを添加した。その後、トロイダルの形状に表１記載の成形圧力で成形し、２０．６％の酸素濃度である酸化雰囲気中６５０℃にて１時間熱処理を行い、磁性体を得た。

（評価）
各磁性体について、燃焼赤外吸収法で組成を測定し、磁性粒子の組成がそのまま反映されていることを確認した。
各磁性体についてＳＥＭ観察を行い、酸化膜を介して磁性粒子が互いに結合していることを確認した。
見かけ密度はＪＩＳ Ｒ１６２０−１９９５に準拠する気体置換法によって測定した。
めっき性の評価として、磁性体の端部から０．３ｍｍの長さの電極を銀めっきにより作製し、めっき伸びが生じた結果として０．３５ｍｍ以上になってしまったものを×であると評価し、さもなくば○であると評価した。
各磁性体の製造に際して、成形後（熱処理前）および熱処理後に透磁率μを測定した。熱処理後のμが熱処理前のμより５％以上大きければ、μ評価が○であるとし、さもなくば×であると評価した。

各評価結果を表２に記載する。

１：磁性体 ２１：金属粒子どうしの結合部
１１：磁性粒子 ２２：酸化膜を介する結合部
１２：酸化膜 ３０：空隙

Claims (8)

1. イオウ原子（Ｓ）を０．００４〜０．０１２ｗｔ％含むＦｅ−Ｓｉ−Ｍ系軟磁性合金（但し、ＭはＦｅより酸化し易い金属元素である。）を含む磁性粒子どうしが互いに酸化膜を介して結合してなる磁性体。
2. １．５〜７．５ｗｔ％のＳｉ、２〜８ｗｔ％の金属Ｍ、Ｓ、Ｆｅ、酸素原子及び不可避不純物のみからなる請求項１記載の磁性体。
3. 見かけ密度が５．７〜７．２ｇ／ｃｍ^３である請求項１又は２記載の磁性体。
4. 金属ＭがＣｒ又はＡｌである請求項１〜３のいずれか１項記載の磁性体。
5. 前記磁性粒子がアトマイズ法で製造されてなるものである請求項１〜４のいずれか１項記載の磁性体。
6. 前記磁性粒子がアトマイズ法で製造され、前記アトマイズ法による製造の際にＳが添加されてなるものである請求項１〜４のいずれか１項記載の磁性体。
7. 前記酸化膜が磁性粒子自体の酸化物を含み、前記酸化膜を介する結合は熱処理によりなされてなるものである請求項１〜６のいずれか１項記載の磁性体。
8. 請求項１〜７のいずれか１項記載の磁性体を含有する磁心を備える電子部品。

Images