JP6322518B2 - 半導体基板の切削方法 - Google Patents
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Description
図1(a)に示すように、中央に開口部6を有する環状のリングフレーム5の下部に粘着テープ7を貼着して開口部6を塞ぐとともに、粘着テープ7の表面を上向きに露出させる。次いで、半導体基板1の裏面1b側を粘着テープ7の表面に貼着する。このようにして図1(b)に示すように、粘着テープ7を介してリングフレーム5と半導体基板1とが一体となったワークセット8を形成する。粘着テープ7は、伸縮性及び粘着性を有していればよい。
ワークセット形成工程を実施した後、図2に示すように、チャックテーブル10においてワークセット8を保持する。チャックテーブル10は、枠体11と、半導体基板1を保持する保持面12aを有する保持部12と、リングフレーム5を保持するフレーム保持機構13とにより構成されている。保持部12は吸引源17に連通している。チャックテーブル10の下部には、チャックテーブル10を水平方向(Y軸方向)に移動させるテーブル送り手段18が接続されている。フレーム保持機構13は、リングフレーム5が載置されるフレーム載置部14と、フレーム載置部14の一端に取り付けられた軸部15と、軸部15を中心に回転しフレーム載置部14に載置されたリングフレーム5を固定するクランプ部16とを備えている。
第1の切削工程の後、図4に示すように、剥離テーブル30においてワークセット8を保持し、ワークセット8から粘着テープ7を剥離する。剥離テーブル30は、枠体31と、半導体基板1を保持する保持面32aを有する保持部32と、枠体31の外周側に形成されリングフレーム5を下方から支持するフレーム支持部33とにより構成されている。フレーム支持部33は、リングフレーム5を吸着保持する吸着部34を備えている。保持部32の保持面32a及び吸着部34は、吸引源35に連通している。また、枠体31の下部には、剥離テーブル30を水平方向(Y軸方向)に移動させるテーブル送り手段36が接続されている。
剥離工程を実施した後、金属層3の表面の高さを測定し、金属層3を所定の高さに至るまでバイト切削する。まず、図5に示すように、半導体基板1の裏面1b側を保持部12の保持面12aに載置し、半導体基板1の表面1aを上向きにさせる。そして、吸引源17の吸引力が保持面12aで作用し、保持部12で半導体基板1を吸引保持する。
4:貫通電極 5:リングフレーム 6:開口部 7:粘着テープ
8:ワークセット
10:チャックテーブル 11:枠体 12:保持部 12a:保持面
13:フレーム保持機構 14:フレーム載置部 15:軸部
16:クランプ部 17:吸引源 18:テーブル送り手段
20:バイト切削手段 21 アーム 22:バイト 23:回転手段
24:昇降手段 25:制御手段
30:剥離テーブル 31:枠体 32:保持部 32a:保持面
33:フレーム支持部 34:吸着部 35:吸引源 36:テーブル送り手段
37:把持部 38:剥離テープ
40:高さ測定手段 41:測定子
Claims (1)
- 表面に金属層を有する半導体基板の該金属層をバイトで切削する半導体基板の切削方法であって、
中央に開口部を有するリングフレームに粘着テープを貼着して該開口部を塞ぐとともに該粘着テープに半導体基板の裏面を貼着してワークセットを形成するワークセット形成工程と、
該ワークセットの該粘着テープをチャックテーブルの上面で吸引保持するとともに該リングフレームの上面を該半導体基板の表面より下に位置づけて該リングフレームを保持し、該金属層の全面に切削痕が形成されるまで該金属層を該バイトで切削して内部応力を緩和する第1の切削工程と、
該第1の切削工程の後、該ワークセットから該粘着テープを剥離する剥離工程と、
該剥離工程で該粘着テープが剥離された半導体基板の裏面を該チャックテーブルで吸引保持し、該金属層の表面の高さを測定し、該バイトで該金属層を所定の高さに切削する第2の切削工程と、を備える半導体基板の切削方法。
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