JP6303423B2 - 透明導電性積層体及び画像表示装置 - Google Patents
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Description
本発明は、透明導電性積層体及び画像表示装置に関する。
従来、透明基材フィルム上に導電性層として直接ＩＴＯなどの金属酸化物層を積層した透明導電性積層体を用いて製造されたタッチパネルが広く知られている。このようなタッチパネルは、液晶表示パネル等の表示パネル上に配置され、例えば、ＰＤＡ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ Ｄｉｇｉｔａｌ Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ）、携帯情報端末、カーナビゲーションシステム等における入力手段として用いられている。
このようなタッチパネルは、屋外で使用されることが多いが、表示画面での外光反射により視認性が低下しやすいという問題があった。このような外光反射による視認性低下の問題に対し、使用者は、例えば、偏光サングラスをかけて視認性の改善を図ることが多かった。
しかしながら、従来のタッチパネルの表示画面を偏光サングラス越しに観察した場合、表示画面に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が生じ、表示品質が損なわれてしまうという問題点があった。
しかしながら、従来のタッチパネルの表示画面を偏光サングラス越しに観察した場合、表示画面に色の異なるムラ（以下、「ニジムラ」ともいう）が生じ、表示品質が損なわれてしまうという問題点があった。
このような問題点に対し、例えば、特許文献１に、２枚の透明基材フィルムと導電性薄膜とを積層してなり、２枚の透明基材フィルムの合計の位相差値を４０００ｎｍ以上とした透明導電性積層体を用いたタッチパネルが開示されている。
しかしながら、特許文献１に開示の透明導電性積層体では、充分にニジムラの発生を抑制できないことがあり、また、充分にニジムラの発生を抑制できるようにすると、膜厚が厚くなってしまい、近年の薄型化にはそぐわないものであった。このため、より高度に、より薄膜にて、ニジムラの発生を抑制できる透明導電性積層体が求められていた。
しかしながら、特許文献１に開示の透明導電性積層体では、充分にニジムラの発生を抑制できないことがあり、また、充分にニジムラの発生を抑制できるようにすると、膜厚が厚くなってしまい、近年の薄型化にはそぐわないものであった。このため、より高度に、より薄膜にて、ニジムラの発生を抑制できる透明導電性積層体が求められていた。
本発明は、上記現状に鑑みて、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制できる透明導電性積層体、及び、該透明導電性積層体を備えた画像表示装置を提供することを目的とする。
本発明は、少なくとも２枚の透明基材フィルムが積層され、少なくとも１枚の上記透明基材フィルムの片方面側に導電性膜が形成されている透明導電性積層体であって、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であり、上記透明基材フィルムの少なくとも１枚は、配向度が３以上であり、上記配向度は、上記透明基材フィルムの表面配向パラメータＹの最大値をＹ ｍａｘ 、最小値をＹ ｍｉｎ としたとき、Ｙ ｍａｘ ／Ｙ ｍｉｎ で表される値であり、上記表面配向パラメータＹは、配向パラメータとして、上記透明基材フィルム表面を１０°ごとに面内回転させて測定したＦＴＩＲ−Ｓ偏光ＡＴＲ法の１回反射スペクトル上で、１３４０ｃｍ −１ における吸収強度（Ｉ １３４０ ）と１４１０ｃｍ −１ における吸収強度（Ｉ １４１０ ）との比として、Ｙ＝Ｉ １３４０ ／Ｉ １４１０ により求められることを特徴とする透明導電性積層体である。
本発明の透明導電性積層体において、少なくとも２枚の透明基材フィルムは、それぞれの配向軸が重なるように積層されていることが好ましい。
本発明の透明導電性積層体において、少なくとも２枚の透明基材フィルムは、それぞれの配向軸が重なるように積層されていることが好ましい。
また、本発明は、本発明の透明導電性積層体を備えることを特徴とする画像表示装置でもある。
また、本発明の画像表示装置は、バックライト光源として、白色発光ダイオード、又は、有機エレクトロルミネッセンスを用いることが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。
また、本発明の画像表示装置は、バックライト光源として、白色発光ダイオード、又は、有機エレクトロルミネッセンスを用いることが好ましい。
以下に、本発明を詳細に説明する。
なお、本発明では、特別な記載がない限り、モノマー、オリゴマー、プレポリマー等の硬化性樹脂前駆体も“樹脂”と記載する。
本発明者らは、上述した従来の問題に鑑みて鋭意検討した結果、少なくとも２枚の透明基材フィルムと導電性膜とが積層された構成の透明導電性積層体において、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であって、上記２枚の透明基材フィルムのうち、少なくとも１枚の配向度を３以上とすることで、該透明導電性積層体を用いてなる画像表示装置の表示画面を偏光サングラス越しに視認した場合であっても、ニジムラの発生を高度に抑制できることを見出し、本発明を完成するに至った。
本発明の透明導電性積層体は、少なくとも２枚の透明基材フィルムが積層され、少なくとも１枚の上記透明基材フィルムの片方面側に導電性膜が形成されている。
本発明の透明導電性積層体において、上記透明基材フィルムは、少なくとも１枚の配向度が３以上である。上記配向度が３未満であると、本発明の透明導電性積層体を用いてなる画像表示装置の表示画面でのニジムラの発生を充分に抑制することができない。
上記配向度の好ましい下限は５、好ましい上限は１５であり、より好ましい下限は７、より好ましい上限は１２である。
本発明の透明導電性積層体において、上記透明基材フィルムは、少なくとも１枚の配向度が３以上である。上記配向度が３未満であると、本発明の透明導電性積層体を用いてなる画像表示装置の表示画面でのニジムラの発生を充分に抑制することができない。
上記配向度の好ましい下限は５、好ましい上限は１５であり、より好ましい下限は７、より好ましい上限は１２である。
ここで、上記配向度とは、上記透明基材フィルムの表面配向パラメータＹの最大値をＹｍａｘ、最小値をＹｍｉｎとしたとき、Ｙｍａｘ／Ｙｍｉｎで表される値であり、上記表面配向パラメータＹは、配向パラメータとして、透明基材フィルム表面を１０°ごとに面内回転させて測定したＦＴＩＲ−Ｓ偏光ＡＴＲ法の１回反射スペクトル上で、１３４０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１３４０）と１４１０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１４１０）との比として、Ｙ＝Ｉ１３４０／Ｉ１４１０により求められる。
本発明の透明導電性積層体は、上記透明基材フィルムが少なくとも２枚積層されており、上記配向度が３以上の透明基材フィルムは、いずれの透明基材フィルムであってもよい。なかでも、本発明の透明導電性フィルムを用いて画像表示装置としたときに、少なくとも表示画面側と反対側に積層される透明基材フィルムの配向度が３以上であることが好ましい。
すなわち、例えば、本発明の透明導電性積層体が、２枚の透明基材フィルムが積層された構成である場合、上記画像表示装置の表示画面側と反対側に積層された透明基材フィルムの配向度が３以上、上記表示画面側に積層された透明基材フィルムの配向度が３未満の透明導電性積層体は、配向度の関係が逆となるように透明基材フィルムが積層された透明導電性積層体と比較して、より好適に表示画面にニジムラが発生することを防止することができる。
なお、本発明の透明導電性積層体において、上記透明基材フィルムが少なくとも２枚積層された構造とは特に限定されず、例えば、２枚の透明基材フィルムが粘着層を介して積層された構造や、２枚の透明基材フィルムがスペーサを介して配置（空気層を介して配置）された構造等が挙げられる。
すなわち、例えば、本発明の透明導電性積層体が、２枚の透明基材フィルムが積層された構成である場合、上記画像表示装置の表示画面側と反対側に積層された透明基材フィルムの配向度が３以上、上記表示画面側に積層された透明基材フィルムの配向度が３未満の透明導電性積層体は、配向度の関係が逆となるように透明基材フィルムが積層された透明導電性積層体と比較して、より好適に表示画面にニジムラが発生することを防止することができる。
なお、本発明の透明導電性積層体において、上記透明基材フィルムが少なくとも２枚積層された構造とは特に限定されず、例えば、２枚の透明基材フィルムが粘着層を介して積層された構造や、２枚の透明基材フィルムがスペーサを介して配置（空気層を介して配置）された構造等が挙げられる。
上記配向度を有する透明基材フィルムを得る方法としては、例えば、透明基材フィルムの原料を溶融し、シート状に押出し成形された未延伸フィルムを、ガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記未延伸フィルムの横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られる透明基材フィルムの透明性が低下しやすくなり、上記横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られる透明基材フィルムの配向度が小さくなり、ニジムラ抑制効果が小さくなる。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸フィルムの横延伸を上記条件で行う前に、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、配向度の値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
上記未延伸フィルムの横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られる透明基材フィルムの透明性が低下しやすくなり、上記横延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られる透明基材フィルムの配向度が小さくなり、ニジムラ抑制効果が小さくなる。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸フィルムの横延伸を上記条件で行う前に、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、配向度の値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
上記透明基材フィルムとしては特に限定されず、例えば、ポリカーボネート、アクリル、ポリエステル等を原料として用いられたフィルムが挙げられるが、なかでも、コスト及び機械的強度において有利なポリエステルフィルムであることが好適である。
本発明の透明導電性積層体において、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムは、それぞれ同一の材料からなるフィルムであってもよく、異なる材料からなるフィルムであってもよい。
本発明の透明導電性積層体において、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムは、それぞれ同一の材料からなるフィルムであってもよく、異なる材料からなるフィルムであってもよい。
上記透明基材フィルムは、「光軸ばらつき」が抑制されたものであることが好ましい。このような透明基材フィルムは、ＭＯＲ（Ｍａｘｉｍｕｍ Ｏｒｉｅｎｔｅｄ Ｒａｔｉｏ）値が１．６〜２．３であることが好ましく、より好ましくは１．８〜２．１である。なお、上記ＭＯＲ値とは、透過型分子配向計で測定された透過マイクロ波強度の最大値と最小値の比（最大値／最小値）であり、異方性フィルムの光軸ばらつきの度合い指標として一般的に用いられる。
本発明の透明導電性積層体において、少なくとも２枚の透明基材フィルムは、面内に複屈折率を有することが好ましいが、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーション値の合計が４０００ｎｍ以上である。リタデーションの合計値が４０００ｎｍ未満であると、本発明の透明導電性積層体を液晶表示装置（ＬＣＤ）で使用した場合、ニジムラが発生し、表示品位が低下してしまう。一方、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値の上限としては特に限定されないが、３万ｎｍ程度であることが好ましい。３万ｎｍを超えると、上記透明基材フィルムの膜厚が相当に厚くなるため好ましくない。
上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値は、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることがより好ましく、７０００〜２万ｎｍであることが更に好ましい。
なお、本発明の透明導電性積層体において、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーション値の合計が４０００ｎｍ以上であれば、個々の透明基材フィルムのリタデーション値は特に限定されない。
上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値は、薄膜化の観点から、５０００〜２５０００ｎｍであることがより好ましく、７０００〜２万ｎｍであることが更に好ましい。
なお、本発明の透明導電性積層体において、上記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーション値の合計が４０００ｎｍ以上であれば、個々の透明基材フィルムのリタデーション値は特に限定されない。
なお、上記リタデーションとは、透明基材フィルムの面内において最も屈折率が大きい方向（遅相軸方向）の屈折率（ｎｘ）と、遅相軸方向と直交する方向（進相軸方向）の屈折率（ｎｙ）と、透明基材フィルムの厚み（ｄ）とにより、以下の式によって表わされるものである。
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、ＫＯＢＲＡ−ＩＭＳ等によって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、透明基材フィルムの配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。透明基材フィルムの厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、透明基材フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
屈折率は、アッベ屈折率計のほかに、エリプソメーターを用いて、測定することもできるし、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて、偏光（Ｓ偏光）測定にて、透明基材フィルムの測定面とは反対面に、黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ったサンプルの５度反射率（Ｒ）を測定し、下記式より求めることもできる。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
リタデーション（Ｒｅ）＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
また、上記リタデーションは、例えば、王子計測機器社製ＫＯＢＲＡ−ＷＲ、ＫＯＢＲＡ−ＩＭＳ等によって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）することができる。
また、二枚の偏光板を用いて、透明基材フィルムの配向軸方向（主軸の方向）を求め、配向軸方向に対して直交する二つの軸の屈折率（ｎｘ、ｎｙ）を、アッベ屈折率計（アタゴ社製 ＮＡＲ−４Ｔ）によって求める。ここで、より大きい屈折率を示す軸を遅相軸と定義する。透明基材フィルムの厚みｄ（ｎｍ）は、電気マイクロメータ（アンリツ社製）を用いて測定し、単位をｎｍに換算する。屈折率差（ｎｘ−ｎｙ）と、透明基材フィルムの厚みｄ（ｎｍ）との積より、リタデーションを計算することもできる。
屈折率は、アッベ屈折率計のほかに、エリプソメーターを用いて、測定することもできるし、分光光度計（Ｖ７１００型、自動絶対反射率測定ユニットＶＡＲ−７０１０ 日本分光社製）を用いて、偏光（Ｓ偏光）測定にて、透明基材フィルムの測定面とは反対面に、黒ビニールテープ（例えば、ヤマトビニールテープＮｏ２００−３８−２１ ３８ｍｍ幅）を貼ったサンプルの５度反射率（Ｒ）を測定し、下記式より求めることもできる。
Ｒ（％）＝（１−ｎ）２／（１＋ｎ）２
なお、本発明では、上記ｎｘ−ｎｙ（以下、Δｎとも表記する）は、０．０５以上であることが好ましい。上記Δｎが０．０５未満であると、上述したリタデーション値を得るために必要な上記透明基材フィルムの膜厚が厚くなってしまうことがある。一方、上記Δｎは、０．２５以下であることが好ましい。０．２５を超えると、透明基材フィルムを過度に延伸する必要が生じるため、透明基材フィルムが裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験での透明基材フィルムの耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
以上の観点から、上記Δｎのより好ましい下限は０．０７、より好ましい上限は０．２０である。なお、上記Δｎが０．２０を超えると、耐湿熱性試験での透明基材フィルムの耐久性が劣ることがある。耐湿熱性試験での耐久性が優れることから、上記Δｎの更に好ましい上限は０．１５である。
上記透明基材フィルムがポリエステルフィルムである場合、該ポリエステルフィルムを構成する材料としては特に限定されないが、芳香族二塩基酸又はそのエステル形成性誘導体とジオール又はそのエステル形成性誘導体とから合成される線状飽和ポリエステルが挙げられる。かかるポリエステルの具体例としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）及びその異性体（例えば、２，６−ＰＥＮ、１，４−ＰＥＮ、１，５−ＰＥＮ、２，７−ＰＥＮ、及び、２，３−ＰＥＮ）等が挙げられる。
また、上記ポリエステルフィルムに用いられる材料としては、上述したポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％未満）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしては、なかでもポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、上記ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においては、ＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い画像表示装置を製造することが可能な、透明導電性積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
また、上記ポリエステルフィルムに用いられる材料としては、上述したポリエステルの共重合体であってもよく、上記ポリエステルを主体（例えば８０モル％以上の成分）とし、少割合（例えば２０モル％未満）の他の種類の樹脂とブレンドしたものであってもよい。上記ポリエステルとしては、なかでもポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートが力学的物性や光学物性等のバランスが良いので特に好ましい。特に、上記ポリエステルフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）からなることが好ましい。ポリエチレンテレフタレートは汎用性が高く、入手が容易であるからである。本発明においては、ＰＥＴのような、汎用性が極めて高いフィルムであっても、表示品質の高い画像表示装置を製造することが可能な、透明導電性積層体を得ることができる。更に、ＰＥＴは、透明性、熱又は機械的特性に優れ、延伸加工によりリタデーションの制御が可能であり、固有複屈折が大きく、膜厚が薄くても比較的容易に大きなリタデーションが得られる。
上記ポリエステルフィルムを得る方法としては、上述したリタデーションを充足する方法であれば特に限定されないが、例えば、材料の上記ＰＥＴ等のポリエステルを溶融し、シート状に押出し成形された未延伸ポリエステルをガラス転移温度以上の温度においてテンター等を用いて横延伸後、熱処理を施す方法が挙げられる。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステルフィルムの透明性が低下しやすくなり、延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステルフィルムの複屈折が小さくなり、上述したリタデーションの合計値を４０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行う前に、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上記横延伸温度としては、８０〜１３０℃が好ましく、より好ましくは９０〜１２０℃である。また、横延伸倍率は２．５〜６．０倍が好ましく、より好ましくは３．０〜５．５倍である。上記横延伸倍率が６．０倍を超えると、得られるポリエステルフィルムの透明性が低下しやすくなり、延伸倍率が２．５倍未満であると、延伸張力も小さくなるため、得られるポリエステルフィルムの複屈折が小さくなり、上述したリタデーションの合計値を４０００ｎｍ以上とできないことがある。
また、本発明においては、二軸延伸試験装置を用いて、上記未延伸ポリエステルの横延伸を上記条件で行う前に、該横延伸に対する流れ方向の延伸（以下、縦延伸ともいう）を行ってもよい。この場合、上記縦延伸は、延伸倍率が２倍以下であることが好ましい。上記縦延伸の延伸倍率が２倍を超えると、Δｎの値を上述した好ましい範囲にできないことがある。
また、上記熱処理時の処理温度はしては、１００〜２５０℃が好ましく、より好ましくは１８０〜２４５℃である。
上述した方法で作製したポリエステルフィルムのリタデーションの合計値を４０００ｎｍ以上に制御する方法としては、延伸倍率や延伸温度、作製するポリエステルフィルムの膜厚を適宜設定する方法が挙げられる。具体的には、例えば、延伸倍率が高いほど、延伸温度が低いほど、また、膜厚が厚いほど、高いリタデーションを得やすくなり、延伸倍率が低いほど、延伸温度が高いほど、また、膜厚が薄いほど、低いリタデーションを得やすくなる。
上記ポリエステルフィルムの厚みとしては、１０〜２５０μｍの範囲内であることが好ましい。１０μｍ未満であると、裂け、破れ等を生じやすくなり、工業材料としての実用性が著しく低下することがある。一方、２５０μｍを超えると、ポリエステルフィルムが非常に剛直であり、高分子フィルム特有のしなやかさが低下し、やはり工業材料としての実用性が低下するので好ましくない。上記ポリエステルフィルムの厚さのより好ましい下限は２５μｍ、より好ましい上限は２００μｍであり、更に好ましい上限は１５０μｍである。
本発明の透明導電性積層体において、少なくとも２枚の上記透明基材フィルムは、それぞれの配向軸が重なるように積層されていることが好ましい。このように積層されていることで、本発明の透明導電性積層体を用いた画像表示装置の表示画面でのニジムラの発生をより好適に防止することができる。
なお、上記配向軸が重なるように積層されているとは、積層されるそれぞれの透明基材フィルムの配向軸のなす角度が±１５°以内であることを意味する。
また、上記配向軸とは、上記透明基材フィルムの厚み方向に直交する面内において、屈折率が最大の方向に沿った軸を意味する。
なお、上記配向軸が重なるように積層されているとは、積層されるそれぞれの透明基材フィルムの配向軸のなす角度が±１５°以内であることを意味する。
また、上記配向軸とは、上記透明基材フィルムの厚み方向に直交する面内において、屈折率が最大の方向に沿った軸を意味する。
また、上記透明基材フィルムは、可視光領域における透過率が８０％以上であることが好ましく、８４％以上であるものがより好ましい。なお、上記透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）により測定することができる。
また、本発明において、上記透明基材フィルムには本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、けん化処理、グロー放電処理、コロナ放電処理、紫外線（ＵＶ）処理、及び火炎処理等の表面処理を行ってもよい。
本発明の透明導電性積層体は、少なくとも１枚の上記透明基材フィルムの片方面側に導電性膜が形成されている。
上記導電性膜としては特に限定されず、例えば、金属酸化物からなる透明導電性膜が挙げられる。
上記金属酸化物からなる透明導電性膜としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）等からなる膜を挙げることができる。
また、上記透明導電性膜は、公知のタッチパネル電極と同様のパターンが形成されていてもよい。
上記導電性膜としては特に限定されず、例えば、金属酸化物からなる透明導電性膜が挙げられる。
上記金属酸化物からなる透明導電性膜としては、例えば、スズドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、アルミニウムドープ酸化亜鉛（ＡＺＯ）、ガリウムドープ酸化亜鉛（ＧＺＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化インジウム（Ｉｎ２Ｏ３）、酸化タングステン（ＷＯ３）等からなる膜を挙げることができる。
また、上記透明導電性膜は、公知のタッチパネル電極と同様のパターンが形成されていてもよい。
上記導電性膜の製膜方法としては、例えば、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等の公知の方法を挙げることができる。
また、上記導電性膜の膜厚は、例えば、１００〜４００Åであることが好ましい。
また、上述したパターンが形成された導電性膜は、上記方法で製膜した導電性膜に公知のエッチング処理を施すことで形成することができる。
また、上記導電性膜の膜厚は、例えば、１００〜４００Åであることが好ましい。
また、上述したパターンが形成された導電性膜は、上記方法で製膜した導電性膜に公知のエッチング処理を施すことで形成することができる。
上記導電性膜は、少なくとも１枚の上記透明基材フィルムの片方面側に形成されている。このような本発明の透明導電性積層体としては、例えば、積層された２枚の上記透明基材フィルムの間に上記導電性膜が形成された構造が挙げられる。
また、本発明の透明導電性積層体は、少なくとも２枚の透明基材フィルムが積層され、少なくとも１枚の上記透明基材フィルムの片方面側に導電性膜が形成されているが、更に従来公知の機能層、例えば、ハードコート層、反射防止層、防眩層及びアンチニュートンリング層等が設けられていてもよい。
本発明の透明導電性積層体は、タッチパネル部材として用いることができる。
上記タッチパネル部材に用いられる本発明の透明導電性積層体の構成としては、例えば、図１に示した透明導電性積層体１のように、透明基材フィルム２と透明基材フィルム２’とが、それぞれの一方の面側に設けられた導電性膜３と導電性膜３’とが対向するように、スペーサ５を介して配置された構成や、図２に示した透明導電性積層体１０のように、導電性膜１３、透明基材フィルム１２、導電性膜１３’及び透明基材フィルム１２’がこの順に積層された構成等が挙げられる。
なお、図１及び図２は、本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネル部材の一例を模式的に示した断面図である。
上記タッチパネル部材に用いられる本発明の透明導電性積層体の構成としては、例えば、図１に示した透明導電性積層体１のように、透明基材フィルム２と透明基材フィルム２’とが、それぞれの一方の面側に設けられた導電性膜３と導電性膜３’とが対向するように、スペーサ５を介して配置された構成や、図２に示した透明導電性積層体１０のように、導電性膜１３、透明基材フィルム１２、導電性膜１３’及び透明基材フィルム１２’がこの順に積層された構成等が挙げられる。
なお、図１及び図２は、本発明の透明導電性積層体を用いたタッチパネル部材の一例を模式的に示した断面図である。
図１に示したタッチパネル部材は、抵抗膜方式のタッチパネル部材であり、導電性膜３及び３’のパターンは、通常、それぞれ縞状であり、該導電性膜３及び３’は、それぞれの縞状のパターンが直交するように対向配置されている。そして、透明基材フィルム２の導電性膜３側と反対側面には従来公知のハードコート層４が積層されている。このような構成のタッチパネル部材は、ハードコート層４の透明基材フィルム２側と反対側表面を、入力ペン６を用いてスペーサ５の弾性力に抗して押圧打点したとき、導電性膜３及び３’同士が接触して、電気回路のＯＮ状態となり、上記押圧を解除すると、元のＯＦＦ状態に戻る、透明スイッチ構体として機能する。
また、図２に示したタッチパネル部材は、静電容量タイプのタッチパネル部材であり、図１に示したような抵抗膜方式のように導電性膜同士が直接接触することは無く、導電性膜１３の透明基材フィルム１２側と反対側面にはカバーガラス１４が積層されており、該カバーガラス１４の導電性膜１３側と反対側表面を指先１５などで押圧したときの静電容量の変化を捉えて位置を検出する。なお、図２に示したタッチパネル部材は、透明基材フィルム１２’の導電性膜１３’側と反対側表面に従来公知のアンチニュートンリング層が設けられていてもよい。
また、図２に示したタッチパネル部材は、静電容量タイプのタッチパネル部材であり、図１に示したような抵抗膜方式のように導電性膜同士が直接接触することは無く、導電性膜１３の透明基材フィルム１２側と反対側面にはカバーガラス１４が積層されており、該カバーガラス１４の導電性膜１３側と反対側表面を指先１５などで押圧したときの静電容量の変化を捉えて位置を検出する。なお、図２に示したタッチパネル部材は、透明基材フィルム１２’の導電性膜１３’側と反対側表面に従来公知のアンチニュートンリング層が設けられていてもよい。
本発明の透明導電性積層体を備える画像表示装置もまた、本発明の一つである。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
上記画像表示装置は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＦＥＤ、ＥＬＤ（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、ＣＲＴ、タブレットＰＣ、タッチパネル、電子ペーパー等の画像表示装置であってもよい。
上記の代表的な例であるＬＣＤは、透過性表示体と、上記透過性表示体を背面から照射する光源装置とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＬＣＤである場合、この透過性表示体の表面に、本発明の透明導電性積層体が形成されてなるものである。
上記画像表示装置が液晶表示装置の場合、光源装置の光源は本発明の透明導電性積層体の下側から照射される。なお、液晶表示素子と偏光板との間に、位相差板が挿入されてよい。この液晶表示装置の各層間には必要に応じて接着剤層が設けられてよい。
上記画像表示装置であるＰＤＰは、表面に電極を形成した表面ガラス基板と、当該表面ガラス基板に対向して間に放電ガスが封入されて配置され、電極及び、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成した背面ガラス基板とを備えてなるものである。上記画像表示装置がＰＤＰである場合、上記表面ガラス基板の表面、又はその前面板（ガラス基板又はフィルム基板）に本発明の透明導電性積層体を備えるものでもある。
上記画像表示装置は、電圧をかけると発光する硫化亜鉛、ジアミン類物質：発光体をガラス基板に蒸着し、基板にかける電圧を制御して表示を行うＥＬＤ装置、又は、電気信号を光に変換し、人間の目に見える像を発生させるＣＲＴなどの画像表示装置であってもよい。この場合、上記のような各表示装置の表面又はその前面板の表面に本発明の透明導電性積層体を備えるものである。
ここで、上記画像表示装置が液晶表示装置の場合、該液晶表示装置において、バックライト光源としては特に限定されないが、波長３８０〜７８０ｎｍの領域において連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源が好ましく、例えば、白色発光ダイオード（白色ＬＥＤ）、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）等が挙げられる。バックライト光源がこのような連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源であることにより、より好適にニジムラの発生を解消できる。
一方、上記画像表示装置のバックライト光源として冷陰極蛍光管（ＣＣＦＬ）も知られているが、ＣＣＦＬは特殊波長にピーク有するため、ニジムラの発生を抑制できないことがある。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
一方、上記画像表示装置のバックライト光源として冷陰極蛍光管（ＣＣＦＬ）も知られているが、ＣＣＦＬは特殊波長にピーク有するため、ニジムラの発生を抑制できないことがある。
上記白色ＬＥＤとは、蛍光体方式、すなわち化合物半導体を使用した青色光又は紫外光を発する発光ダイオードと蛍光体を組み合わせることにより白色を発する素子のことである。なかでも、化合物半導体を使用した青色発光ダイオードとイットリウム・アルミニウム・ガーネット系黄色蛍光体とを組み合わせた発光素子からなる白色発光ダイオードは、連続的で幅広い発光スペクトルを有していることから反射防止性能及び明所コントラストの改善に有効であるとともに、発光効率にも優れるため、上記バックライト光源として好適である。また、消費電力の小さい白色ＬＥＤを広汎に利用可能になるので、省エネルギー化の効果も奏することが可能となる。
本発明の透明導電性積層体は、いずれの場合も、テレビジョン、コンピュータ、電子ペーパー、タッチパネル、タブレットＰＣなどのディスプレイ表示に使用することができる。特に、ＣＲＴ、液晶パネル、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＦＥＤなどの高精細画像用ディスプレイの表面に好適に使用することができる。
本発明は、上述した構成からなるものであるため、表示画像にニジムラが生じることを極めて高度に抑制することができる透明導電性積層体を提供できる。
本発明の内容を下記の実施例により説明するが、本発明の内容はこれらの実施態様に限定して解釈されるものではない。また、特別に断りの無い限り、「部」及び「％」は質量基準である。
＜透明基材フィルムのリタデーション＞
透明基材フィルムのリタデーションは、王子計測機器社製のＫＯＢＲＡ−ＩＭＳによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）した。
透明基材フィルムのリタデーションは、王子計測機器社製のＫＯＢＲＡ−ＩＭＳによって測定（測定角０°、測定波長５８９．３ｎｍ）した。
＜配向度＞
透明基材フィルム（ポリエステルフィルム）の配向度は、ＵＶＩＲ ＦＴＳ６００（Ｂｉｏ−Ｒａｄ社製、ＦＴ−ＩＲ）を用いて、下記の方法で測定した。
透明基材フィルムの配向度は、配向パラメータＹより定義されるものであり、上記配向パラメータＹの測定は、ＦＴＩＲ−Ｓ偏光ＡＴＲ法の１回反射における赤外線吸収スペクトル解析による。
すなわち、透明基材フィルム（ポリエステルフィルム）の測定面を１回反射ＡＴＲ付属装置にセットし、１回反射のスペクトルを測定し、ベースラインを適正化した後に１３４０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１３４０）と１４１０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１４１０）とを数値化する。ここで、１３４０ｃｍ−１の吸収バンドは、ωＣＨ２縦揺れ振動で、トランス体の存在を示し、その強度はトランス体の濃度、すなわちポリエステル分子が伸張された、配向の強い状態を定量的に示すものである。１４１０ｃｍ−１の吸収バンドは、Ｃ＝Ｃ伸縮振動で、面内回転での吸収強度が一定となるために、基準バンドとして吸収強度の規格化を実施するためのものである。また、配向パラメータＹは下記式で表され、配向分布は、透明基材フィルムの進相軸方向又は遅相軸方向を起点として、１０°毎に面内回転させ、０°〜１７０°の範囲でそれぞれ同様に測定する。
Ｙ＝Ｉ１３４０／Ｉ１４１０
このようにして測定した１８点の配向パラメータＹの中での最大値をＹｍａｘ、最小値をＹｍｉｎとして、Ｙｍａｘ／Ｙｍｉｎを透明基材フィルムの配向度とする。
なお、上記透明基材フィルムの配向分布の測定における起点は、進相軸方向又は遅相軸方向のいずれであってもよく、いずれの方向を起点とした場合であっても、求められる配向度は同じとなる。
透明基材フィルム（ポリエステルフィルム）の配向度は、ＵＶＩＲ ＦＴＳ６００（Ｂｉｏ−Ｒａｄ社製、ＦＴ−ＩＲ）を用いて、下記の方法で測定した。
透明基材フィルムの配向度は、配向パラメータＹより定義されるものであり、上記配向パラメータＹの測定は、ＦＴＩＲ−Ｓ偏光ＡＴＲ法の１回反射における赤外線吸収スペクトル解析による。
すなわち、透明基材フィルム（ポリエステルフィルム）の測定面を１回反射ＡＴＲ付属装置にセットし、１回反射のスペクトルを測定し、ベースラインを適正化した後に１３４０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１３４０）と１４１０ｃｍ−１における吸収強度（Ｉ１４１０）とを数値化する。ここで、１３４０ｃｍ−１の吸収バンドは、ωＣＨ２縦揺れ振動で、トランス体の存在を示し、その強度はトランス体の濃度、すなわちポリエステル分子が伸張された、配向の強い状態を定量的に示すものである。１４１０ｃｍ−１の吸収バンドは、Ｃ＝Ｃ伸縮振動で、面内回転での吸収強度が一定となるために、基準バンドとして吸収強度の規格化を実施するためのものである。また、配向パラメータＹは下記式で表され、配向分布は、透明基材フィルムの進相軸方向又は遅相軸方向を起点として、１０°毎に面内回転させ、０°〜１７０°の範囲でそれぞれ同様に測定する。
Ｙ＝Ｉ１３４０／Ｉ１４１０
このようにして測定した１８点の配向パラメータＹの中での最大値をＹｍａｘ、最小値をＹｍｉｎとして、Ｙｍａｘ／Ｙｍｉｎを透明基材フィルムの配向度とする。
なお、上記透明基材フィルムの配向分布の測定における起点は、進相軸方向又は遅相軸方向のいずれであってもよく、いずれの方向を起点とした場合であっても、求められる配向度は同じとなる。
（実施例１）
（透明基材フィルム１の作製）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率１．５倍にて延伸（縦延伸）した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率４．５倍に延伸（横延伸）を行い、配向度１０．１、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝５０００ｎｍの透明基材フィルム１を得た。
（透明基材フィルム１の作製）
ポリエチレンテレフタレート材料を２９０℃で溶融して、フィルム形成ダイを通して、シート状に押出し、水冷冷却した回転急冷ドラム上に密着させて冷却し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを二軸延伸試験装置（東洋精機社製）にて、１２０℃にて１分間予熱した後、１２０℃にて、延伸倍率１．５倍にて延伸（縦延伸）した後、その延伸方向とは９０度の方向に延伸倍率４．５倍に延伸（横延伸）を行い、配向度１０．１、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝５０００ｎｍの透明基材フィルム１を得た。
（導電性膜１の形成）
透明基材フィルム１の片側に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物からなる透明な導電性膜１（以下、ＩＴＯ膜ともいう）を形成し、導電性膜付き透明基材フィルム１を得た。
透明基材フィルム１の片側に、アルゴンガス８０％と酸素ガス２０％とからなる０．５Ｐａの雰囲気中で、インジウム−スズ合金を用いた反応性スパッタリング法により、厚さ３０ｎｍの酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物からなる透明な導電性膜１（以下、ＩＴＯ膜ともいう）を形成し、導電性膜付き透明基材フィルム１を得た。
（透明基材フィルム２の作製）
透明基材フィルム１の膜厚と延伸倍率を調整した以外は、同様の方法にて、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を得た。
透明基材フィルム１の膜厚と延伸倍率を調整した以外は、同様の方法にて、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を得た。
（導電性膜２の形成）
透明基材フィルム２を用いた以外は導電性膜１の形成と同様にして透明基材フィルム２の片側に導電性膜２を形成し、導電性膜付き透明基材フィルム２を得た。
透明基材フィルム２を用いた以外は導電性膜１の形成と同様にして透明基材フィルム２の片側に導電性膜２を形成し、導電性膜付き透明基材フィルム２を得た。
（ハードコート層の形成）
導電性膜付き透明基材フィルム２の導電性膜２が形成されていない面に、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を、ＭＩＢＫ溶媒に３０質量％溶解させ、光重合開始剤（Ｉｒｇ１８４、ＢＡＳＦ社製）を固形分に対して５質量％添加したハードコート層用組成物を、バーコーターにより、乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗工し塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を７０℃で１分間加熱して、溶剤を除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、固定化し、ハードコート層及び導電性膜付き透明基材フィルム２を得た。
導電性膜付き透明基材フィルム２の導電性膜２が形成されていない面に、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）を、ＭＩＢＫ溶媒に３０質量％溶解させ、光重合開始剤（Ｉｒｇ１８４、ＢＡＳＦ社製）を固形分に対して５質量％添加したハードコート層用組成物を、バーコーターにより、乾燥後の膜厚が５μｍとなるように塗工し塗膜を形成した。次いで、形成した塗膜を７０℃で１分間加熱して、溶剤を除去し、塗工面に紫外線を照射することにより、固定化し、ハードコート層及び導電性膜付き透明基材フィルム２を得た。
（透明導電性積層体の作製）
導電性膜付き透明基材フィルム１と、ハードコート層及び導電性膜付き透明基材フィルム２とを、透明基材フィルム１の遅相軸と透明基材フィルム２の遅相軸とが平行となるように、また、透明基材フィルム１と導電性膜２とが対向するように、粘着層を介して積層し、透明導電性積層体を作製した。
導電性膜付き透明基材フィルム１と、ハードコート層及び導電性膜付き透明基材フィルム２とを、透明基材フィルム１の遅相軸と透明基材フィルム２の遅相軸とが平行となるように、また、透明基材フィルム１と導電性膜２とが対向するように、粘着層を介して積層し、透明導電性積層体を作製した。
（ニジムラの評価）
透明基材フィルム１が観測者側となるように、バックライト光源に白色ＬＥＤを用いた液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に、透明導電性積層体を配置し、液晶表示装置を作製した。なお、透明導電性積層体の透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２の遅相軸と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。結果を表１に示した。また、図３に白色ＬＥＤの発光スペクトルを示した。
◎：ニジムラが観測されない
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×：ニジムラが観測され、使用上問題がある
××：ニジムラが強く観測される
透明基材フィルム１が観測者側となるように、バックライト光源に白色ＬＥＤを用いた液晶モニター（ＦＬＡＴＯＲＯＮ ＩＰＳ２２６Ｖ（ＬＧ Ｅｌｅｃｔｒｏｎｉｃｓ Ｊａｐａｎ社製））の観察者側の偏光板上に、透明導電性積層体を配置し、液晶表示装置を作製した。なお、透明導電性積層体の透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２の遅相軸と、液晶モニターの観察者側の偏光板の吸収軸とのなす角度が４５°となるように配置した。
そして、暗所及び明所（液晶モニター周辺照度４００ルクス）にて、正面及び斜め方向（約５０度）から偏光サングラス越しに表示画像の観察を行い、ニジムラの有無を以下の基準に従い評価した。観察は１０人で行い、最多数の評価を観察結果としている。結果を表１に示した。また、図３に白色ＬＥＤの発光スペクトルを示した。
◎：ニジムラが観測されない
○：ニジムラが観測されるが、実使用上問題ないレベル
×：ニジムラが観測され、使用上問題がある
××：ニジムラが強く観測される
（実施例２）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度１０．１、膜厚２０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚２５μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２５００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度１０．１、膜厚２０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚２５μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２５００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（実施例３）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度７．３、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝４０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度７．３、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝８０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度７．３、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝４０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度７．３、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝８０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（実施例４）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度３．５、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２５００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度３．５、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２５００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（実施例５）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（比較例１）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度２．０、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝４０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度２．０、膜厚１００μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝４０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（比較例２）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度２．０、膜厚２５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度２．０、膜厚５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度２．０、膜厚２５０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１万ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（比較例３）
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度１０．１、膜厚１５μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１５００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚２０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
膜厚と延伸倍率を調整し、配向度１０．１、膜厚１５μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝１５００ｎｍの透明基材フィルム１、及び、配向度１０．１、膜厚２０μｍ、リタデーション（Ｒｅ）＝２０００ｎｍの透明基材フィルム２を作製し、これら透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用いた以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、ニジムラ評価を実施した。結果を表１に示した。
（参考例１）
実施例３と同様にして作製した透明導電性積層体を用い、更に、バックライト光源としてＣＣＦＬを用いた液晶モニター（ＬＣＤ２０９０ ＵＸｉ（ＮＥＣ社製））を用いた以外は実施例１同様の方法にて、ニジムラ評価を実施した。なお、図４にＣＣＦＬの発光スペクトルを示した。
実施例３と同様にして作製した透明導電性積層体を用い、更に、バックライト光源としてＣＣＦＬを用いた液晶モニター（ＬＣＤ２０９０ ＵＸｉ（ＮＥＣ社製））を用いた以外は実施例１同様の方法にて、ニジムラ評価を実施した。なお、図４にＣＣＦＬの発光スペクトルを示した。
（参考例２）
実施例１で作製した透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用い、透明基材フィルム１の遅相軸と透明基材フィルム２の遅相軸とが直交となるようにすることで、リタデーション（Ｒｅ）の合計が５０００ｎｍとなるようにした以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、実施例１と同様にしてニジムラ評価を実施した。
実施例１で作製した透明基材フィルム１及び透明基材フィルム２を用い、透明基材フィルム１の遅相軸と透明基材フィルム２の遅相軸とが直交となるようにすることで、リタデーション（Ｒｅ）の合計が５０００ｎｍとなるようにした以外は、実施例１と同様に透明導電性積層体を作製し、実施例１と同様にしてニジムラ評価を実施した。
表１に示したように、透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であり、かつ、少なくとも一方の透明基材フィルムの配向度が３以上であった実施例に係る透明導電性積層体を用いた液晶モニターは、いずれもニジムラの評価に優れていた。
一方、透明基材フィルムの配向度がいずれも３未満であった比較例１、２に係る透明導電性積層体を用いた液晶モニターは、透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であっても、ニジムラの評価に劣り、透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ未満であった比較例３に係る透明導電性積層体を用いた液晶モニターは、透明基材フィルムの配向度がいずれも３以上であっても、ニジムラの評価に劣っていた。
また、実施例３と参考例１の比較より、画像表示装置のバックライト光源は、連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源が、ニジムラ防止の観点から好ましいことが確認できた。
また、実施例２と参考例２の結果を比較すると、ニジムラ評価は同等であったが、透明基材フィルム１と透明基材フィルム２との合計膜厚は、実施例２が４５μｍ、参考例２が１５０μｍであり、透明基材フィルム１、２の遅相軸が平行となるように配置した場合の方が、より薄膜で透明導電性積層体を作製できることが確認できた。
一方、透明基材フィルムの配向度がいずれも３未満であった比較例１、２に係る透明導電性積層体を用いた液晶モニターは、透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であっても、ニジムラの評価に劣り、透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ未満であった比較例３に係る透明導電性積層体を用いた液晶モニターは、透明基材フィルムの配向度がいずれも３以上であっても、ニジムラの評価に劣っていた。
また、実施例３と参考例１の比較より、画像表示装置のバックライト光源は、連続的で幅広い発光スペクトルを有する光源が、ニジムラ防止の観点から好ましいことが確認できた。
また、実施例２と参考例２の結果を比較すると、ニジムラ評価は同等であったが、透明基材フィルム１と透明基材フィルム２との合計膜厚は、実施例２が４５μｍ、参考例２が１５０μｍであり、透明基材フィルム１、２の遅相軸が平行となるように配置した場合の方が、より薄膜で透明導電性積層体を作製できることが確認できた。
本発明の透明導電性積層体は、画像表示装置に用いた際に、表示画像にニジムラが生じることを高度に抑制できる。
１、１０ 透明導電性積層体
２、２’、１２、１２’ 透明基材フィルム
３、３’、１３、１３’ 導電性膜
４ ハードコート層
５ スペーサ
６ 入力ペン
１４ カバ−ガラス
１５ 指先
２、２’、１２、１２’ 透明基材フィルム
３、３’、１３、１３’ 導電性膜
４ ハードコート層
５ スペーサ
６ 入力ペン
１４ カバ−ガラス
１５ 指先
Claims (4)
- 少なくとも２枚の透明基材フィルムが積層され、少なくとも１枚の前記透明基材フィルムの片方面側に導電性膜が形成されている透明導電性積層体であって、
前記少なくとも２枚の透明基材フィルムのリタデーションの合計値が４０００ｎｍ以上であり、
前記透明基材フィルムの少なくとも１枚は、配向度が３以上であり、
前記配向度は、前記透明基材フィルムの表面配向パラメータＹの最大値をＹ ｍａｘ 、最小値をＹ ｍｉｎ としたとき、Ｙ ｍａｘ ／Ｙ ｍｉｎ で表される値であり、前記表面配向パラメータＹは、配向パラメータとして、前記透明基材フィルム表面を１０°ごとに面内回転させて測定したＦＴＩＲ−Ｓ偏光ＡＴＲ法の１回反射スペクトル上で、１３４０ｃｍ −１ における吸収強度（Ｉ １３４０ ）と１４１０ｃｍ −１ における吸収強度（Ｉ １４１０ ）との比として、Ｙ＝Ｉ １３４０ ／Ｉ １４１０ により求められる
ことを特徴とする透明導電性積層体。 - 少なくとも２枚の透明基材フィルムは、それぞれの配向軸が重なるように積層されている請求項１記載の透明導電性積層体。
- 請求項１又は２記載の透明導電性積層体を備えることを特徴とする画像表示装置。
- バックライト光源として、白色発光ダイオード、又は、有機エレクトロルミネッセンスを用いる請求項３記載の画像表示装置。
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