TWI600951B - Video display device - Google Patents

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TWI600951B
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黑岩晴信
向山幸伸
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東洋紡股份有限公司
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Description

影像顯示裝置
本發明係有關於影像顯示裝置。
影像顯示裝置係於行動電話、平板終端、個人電腦、電視、PDA、電子字典、汽車導航系統、音樂播放器、數位相機、數位攝影機等廣泛付諸使用。隨著影像顯示裝置之小型化、輕量化的進展，其使用已不限於辦公室或室內，亦擴及室外及車或電車等的移動中之使用。
其中，經由太陽眼鏡等偏光濾光片觀測影像顯示裝置的機會增加。關於此種影像顯示裝置的利用，專利文獻1中報導所謂「在較液晶顯示裝置之觀測側的偏光板更靠近觀測側使用遲滯小於3000nm的高分子薄膜的情況，通過偏光板觀察螢幕時出現強干涉色」的問題。而且，專利文獻1中記載，作為解決前述問題之手段，將較觀測側的偏光板更靠近觀測側所使用的高分子薄膜之遲滯作成3000~30000nm。
[先前技術文獻] [專利文獻]
[專利文獻1]WO2011/058774
如上述，專利文獻1中記載，藉由將液晶顯示裝置之觀測側的偏光板之觀測側所使用的高分子薄膜之遲滯控制於3000~30000nm，可消除以太陽眼鏡觀看液晶顯示裝置時干涉色的出現。亦即，專利文獻1中記載，藉由將較該觀測側的偏光板更靠近觀測側的配向薄膜更換為具有特定遲滯的配向薄膜，可消除干涉色的出現。然，目前所流通之薄膜的大部分為遲滯值小於3000nm的薄膜，在前述方法中，有所謂無法將此種薄膜使用於影像顯示裝置的問題。因此，本發明之一目的，係以可將遲滯值小於3000nm之類的通用的配向薄膜付諸使用，同時改善經由太陽眼鏡等的偏光薄膜觀測時的干涉色(即虹斑)所致之辨視性下降為目的。
本發明人等為解決上述問題而日夜重複研究的結果發現，即使在不使用遲滯為3000~30000nm的配向薄膜的情況，藉由使用複數個遲滯未經控制的配向薄膜，並將彼等之遲滯值的合計值控制為3000nm以上，亦可抑制經由偏光濾光片注視時所看到的虹斑等的色調雜亂所致之辨視性下降。本發明人等茲依據此種見解進一步重複多次研究與改良，終至完成本發明。
代表性之本發明如下：
項1.
一種影像顯示裝置，其具有： (1)具有連續發光光譜的白色光源；(2)影像顯示單元；(3)配置於前述影像顯示單元之觀測側的偏光膜；及(4)配置於前述偏光膜之觀測側的至少2片配向薄膜；前述至少2片配向薄膜之遲滯值的合計值為3000nm以上30000nm以下。
項2.
如項1之影像顯示裝置，其中前述至少2片配向薄膜之中，配向主軸彼此略呈平行的配向薄膜之遲滯的合計值為3000nm以上30000nm以下。
項3.
如項2之影像顯示裝置，其中配向主軸彼此略呈平行的配向薄膜係連續配置。
項4.
如項1至3中任一項之影像顯示裝置，其中前述具有連續發光光譜的白色光源係白色發光二極體。
根據本發明，影像顯示裝置之辨視性獲改善。特別是減少以經由偏光濾光片觀測時發生之虹斑為代表的畫質下降。尚且，在本說明書中，「虹斑」為包含「色不均」、「色偏移」及「干涉色」之概念。
1‧‧‧液晶顯示裝置
2‧‧‧光源
3‧‧‧光源側偏光板
4‧‧‧液晶胞
5‧‧‧觀測側偏光板
6‧‧‧觸控面板
7‧‧‧光源側偏光膜
8‧‧‧觀測側偏光膜
9a‧‧‧偏光膜保護薄膜
9b‧‧‧偏光膜保護薄膜
10a‧‧‧偏光膜保護薄膜
10b‧‧‧觀測側偏光膜保護薄膜
11‧‧‧光源側透明導電性薄膜
11a‧‧‧光源側基材薄膜
11b‧‧‧透明導電層
12‧‧‧觀測側透明導電性薄膜
12a‧‧‧觀測側基材薄膜
12b‧‧‧透明導電層
13‧‧‧間隔件
14‧‧‧光源側防爆薄膜
15‧‧‧觀測側防爆薄膜
第1圖為具備觸控面板之影像顯示裝置的代表性之示意圖。
[實施發明之形態]
影像顯示裝置典型上具有影像顯示單元及偏光板。於影像顯示單元，典型上係使用液晶胞或有機EL單元。茲將使用液晶胞作為影像顯示單元之影像顯示裝置的代表性之示意圖示於第1圖。
液晶顯示裝置(1)具有：光源(2)、液晶胞(4)、及作為機能層的觸控面板(6)。於此，在本說明書中，茲將液晶顯示裝置之顯示影像的一側(人觀測影像的一側)稱為「觀測側」，將觀測側之相反側(亦即，在液晶顯示裝置中，通常設有稱作「背光光源」之光源的一側)稱為「光源側」。且，於第1圖中，右側為觀測側、左側為光源側。
於液晶胞(4)之光源側及觀測側兩者各設有偏光板(光源側偏光板(3)及觀測側偏光板(5))。各偏光板(3、5)典型上具有在稱作「偏光膜(7、8)」之薄膜的兩側積層偏光膜保護薄膜(9a、9b、10a、10b)的結構。第1圖之影像顯示裝置(1)中，在較觀測側偏光板(5)更靠近觀測側設有作為機能層的觸控面板(6)。第1圖所示之觸控面板係電阻膜式觸控面板。觸控面板(6)係具有2片透明導電性薄膜(11、12)隔著間隔件(13)配置的結構。透明導電性薄膜(11、12)係積層基材薄膜(11a、12a)與透明導電層(11b、12b)而成者。此外，在觸控面板(6)之光源側及觀測側，經由黏著層設有屬透明基體的防爆薄膜(anti-scattering film)(14、15)。
再者，第1圖中係記載設於觀測側偏光板(5)之觀測側的作為機能層的觸控面板(6)，惟不限於觸控面板，只要為具有薄膜的層則可為任何層。又，作為觸控面板，係記載電阻膜式觸控面板，惟亦可使用投影型電容式等其他方式的觸控面板。第1圖之觸控面板係具有2片透明導電性薄膜的結構，惟觸控面板之結構不限於此，例如透明導電性薄膜及/或防爆薄膜的數量可為1片。液晶顯示裝置(1)中，防爆薄膜並非一定必須配置於觸控面板(6)的兩側，可為配置於任一側之構造，或可為在兩側未配置防爆薄膜之構造。防爆薄膜可經由黏著層配置於觸控面板上，也可不經由黏著層而配置於觸控面板上。
<配向薄膜之位置關係>
影像顯示裝置中，可依據各種目的而使用配向薄膜。且，在本說明書中，配向薄膜係指具有雙折射性之高分子薄膜。基於所謂改善辨視性之觀點，影像顯示裝置係以在較觀測側偏光膜更靠近觀測側具備至少2片配向薄膜，且各配向薄膜之遲滯值的合計值為3000nm以上30000nm以下為佳。第1圖之液晶顯示裝置中，配向薄膜典型上可使用於：位於較液晶胞(4)更靠近觀測側的偏光膜(8)(以下稱作「觀測側偏光膜」)之位於觀測側的薄膜，即位於觀測側偏光膜(8)之觀測側的偏光膜保護薄膜(10b)(以下稱作「觀測側偏光膜保護薄膜」)、位於間隔件(13)之光源側的透明導電性薄膜(11)之基材薄膜(11a)(以下稱作「光源側基材薄膜」)、位於較間隔件(13)更靠近觀測側的透明導電性薄膜(12)之基材薄膜(12a)(以下稱作「觀測側基材薄膜」)、 位於觀測側偏光膜保護薄膜(10b)與光源側基材薄膜(11a)之間的防爆薄膜(14)(以下稱作「光源側防爆薄膜」)及位於較觀測側基材薄膜12a更靠近觀測側的防爆薄膜(15)(以下稱作「觀測側防爆薄膜」)。
在影像顯示裝置中，設置至少2片配向薄膜之位置只要位於較觀測側偏光膜(8)更靠近觀測側則不特別限制，屬任意者。又，就配向薄膜的數量，只要各配向薄膜之遲滯的合計值為3000nm以上30000nm以下則不特別限制，可設為例如2片以上、3片以上、4片以上、5片以上、6片以上、7片以上。在較觀測側偏光膜更靠近觀測側使用2片~5片配向薄膜時，彼等在第1圖之液晶顯示裝置中可採用如下表1~4所例示的配置。
上述表1~4僅為影像顯示裝置係具備觸控面板的液晶顯示裝置的情形之例示，亦可為其他構造及組合。例如，上述中，防爆薄膜可為可設置於影像顯示裝置的任意之其他機能薄膜。此外，在本說明書中，於單一構件使用複數個配向薄膜(薄膜群)時，彼等係視為1片薄膜。於此，所謂「構件」，係指基於例如偏光膜保護薄膜、光源側防爆薄膜、光源側基材薄膜、觀測側基材薄膜、觀測側防爆薄膜等的機能性及/或目的之觀點，判斷為個別之構件者。
基於抑制虹斑之觀點，係以設於較影像顯示裝置的觀測側偏光膜更靠近觀測側的至少2片配向薄膜彼等之配向薄膜之遲滯的合計值為3000nm以上30000nm以下較佳。遲滯的合計值較佳為4000nm以上，較佳為5000nm以上，較佳為8000nm以上。另一方面，就遲滯的合計值的上限，基於即使進一步提高，實質上亦無法獲得進一步 的辨視性改善效果，且隨著遲滯增高，配向薄膜之厚度亦有上升之傾向，從而可能與對薄型化之要求相悖之觀點，係設為30000nm以下，較佳為20000nm以下，較佳為15000nm以下，惟亦可設成更高值。
構成前述至少2片配向薄膜之各配向薄膜之遲滯值為任意者，例如可由50nm以上且小於3000nm之範圍中適當選擇而設定。較佳為配向薄膜之遲滯的下限值可為100nm以上、250nm以上、500nm以上。又較佳為配向薄膜之遲滯的上限值可為3000nm以下、2750nm以下、2500nm以下、2250nm以下。當影像顯示裝置具備2片或3片以上之複數個配向薄膜時，較佳為彼等之遲滯皆分別為50nm以上且小於3000nm。
具有上述遲滯的配向薄膜可為單軸延伸配向薄膜，亦可為雙軸延伸配向薄膜，惟基於降低薄膜之易裂性之觀點，較佳為雙軸延伸配向薄膜。
構成上述至少2片配向薄膜之各配向薄膜之遲滯值可相互一致，亦可相異。配向薄膜之遲滯可依據周知的手法來測定。具體而言，可測定2軸方向之折射率及厚度來求得。又，還可使用商業上可得手的自動雙折射測定裝置(例如KOBRA-21ADH：王子計測機器股份有限公司製)來求得。
基於減少虹斑之觀點，前述至少2片配向薄膜係以各配向薄膜之配向主軸彼此略呈平行的方式配置為佳。亦即，至少2片配向薄膜之配向主軸彼此所形成之角的角度較佳為0度±15度以下、0度±10度以下、0度±8度以 下、0度±6度以下、0度±5度以下、0度±4度以下、0度±3度以下、0度±2度以下、0度±1度以下、或0度。且，在本說明書中，所謂「以下」之用語，係僅指附加「±」之後之數值。亦即，前述「0度±15度以下」係指以0度為中心容許上下15度之範圍內的變動。
當影像顯示裝置具有3片以上之配向薄膜時，彼等配向薄膜之配向主軸無需均相互平行，較佳為遲滯的合計成為3000nm以上的至少2片配向薄膜之配向主軸相互平行。因此，例如當影像顯示裝置具備3片配向薄膜的情形，其中2片配向薄膜的合計為3000nm以上時，只要此2片配向薄膜之配向主軸相互平行即可，較佳為3片之配向主軸均相互平行。
如上述，當影像顯示裝置所具備之複數個配向薄膜的全部或一部分的配向薄膜之配向主軸相互平行時，該相互平行的配向薄膜係以在影像顯示裝置內連續配置為佳。於此，「連續配置」係指在相互平行的2片配向薄膜之間不存在其他不平行的配向薄膜。惟，可容許在相互平行的2片配向薄膜之間包含配向薄膜以外的薄膜或其他的層。
當影像顯示裝置具備3片以上之配向薄膜，彼等之中的一部分(2片以上)的配向薄膜群之遲滯的合計為3000nm以上，且前述一部分的配向薄膜群之配向主軸相互平行時，前述一部分的配向薄膜群係以配置於其餘配向薄膜之光源側為佳。藉由採取此種配置，即使存在於較前述一部分的配向薄膜群更靠近觀測側的配向薄膜(1片以 上)，其配向主軸未與前述一部分的配向薄膜群之配向主軸平行，也不會顯著影響辨視性。因此，可無限制(關於配向主軸方向)地進行較觀測側之配向薄膜的配置。
前述至少2片配向薄膜之配向主軸的位向與觀測側偏光膜之偏光軸(出射之偏光的振動方向)的位向的關係為任意者，惟所有的配向薄膜之配向主軸的位向與觀測側偏光膜之偏光軸的位向呈平行的情況，以偏光濾光片觀看影像顯示裝置之影像時有輝度明顯降低的情況。基於此種觀點，配向薄膜之配向主軸係以不與觀測側偏光膜之偏光軸完全平行為佳。
較佳為前述至少2片配向薄膜其配向主軸與觀測側偏光膜之偏光軸所形成之角接近45度。舉例而言，前述角為45度±30度以下，較佳為45度±20度以下，較佳為45度±15度以下，較佳為45度±10度以下，較佳為45度±7度以下，較佳為45度±5度以下，較佳為45度±3度以下。此外，此時之配向主軸係藉由下式而計算： {(配向薄膜1之角度×配向薄膜1之遲滯)+(配向薄膜2之角度×配向薄膜2之遲滯)+…(配向薄膜n之角度×配向薄膜n之遲滯)}×{1/(配向薄膜1~n之遲滯的合計值)}
於此，上式中「角度」係指配向薄膜之配向主軸與觀測側偏光膜之偏光軸所形成之角的角度。
特別是使用於電腦等的液晶顯示裝置之偏光板，其偏光軸大多並非配置於與螢幕之縱向或橫向平行的位置，而是以傾斜45度的方式配置。在自橫斜向觀看影像顯示裝置的一般的形態中，係以配向薄膜之配向主 軸與螢幕之縱向平行的方式，以與偏光軸為45度的關係配置為較佳。而在自縱斜向觀看影像顯示裝置占多數的形態(例如仰視顯示器來觀看螢幕的形態、及以站立的狀態自斜上方觀看設置於等腰高度而與地面呈水平的螢幕的形態等)中，則以使配向薄膜之配向主軸與螢幕之橫向平行的方式，以與偏光軸形成45度的關係配置為較佳。藉由作成上述方式，可進一步減少對影像顯示裝置自斜向經由太陽眼鏡等的偏光薄膜觀察螢幕時的虹斑。
配向薄膜可適當選擇周知的手法來製造。舉例而言，可使用選自包含聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、對位性聚苯乙烯樹脂、聚醚醚酮樹脂、聚苯硫樹脂、聚烯烴樹脂(聚乙烯樹脂、聚丙烯樹脂、環烯烴樹脂)、(甲基)丙烯酸樹脂、乙酸纖維素樹脂(三乙酸纖維素樹脂)、液晶性聚合物樹脂及於纖維素系樹脂添加液晶化合物的樹脂之群組中的一種以上來製造。從而，配向薄膜可為聚酯薄膜、聚碳酸酯薄膜、聚苯乙烯薄膜、對位性聚苯乙烯薄膜、聚醚醚酮薄膜、聚苯硫薄膜、聚烯烴薄膜(聚乙烯薄膜、聚丙烯薄膜、環烯烴薄膜)、(甲基)丙烯酸薄膜、乙酸纖維素薄膜(三乙酸纖維素薄膜)、液晶性薄膜、於纖維素系樹脂添加液晶化合物而成的薄膜。
配向薄膜之較佳原料樹脂係聚碳酸酯及/或聚酯、對位性聚苯乙烯。此等樹脂係透明性優良，且熱特性、機械特性亦優異，可藉由延伸加工容易地控制遲滯。聚對酞酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯所代表之聚酯 係固有雙折射大，即使薄膜厚度薄，亦較容易獲得大的遲滯，因此在製造具有較高遲滯之配向薄膜的情況為較佳。特別是聚萘二甲酸乙二酯即使在聚酯之中其固有雙折射率亦較大，因此在特別欲提高遲滯的情況、或在欲保持高遲滯的同時減薄薄膜厚度的情況較合適。
<配向薄膜之製造方法>
以下，以聚酯薄膜為例，說明配向薄膜之製造方法。聚酯薄膜可使任意的二羧酸與二醇縮合而得。作為二羧酸，可列舉例如對酞酸、異酞酸、鄰苯二甲酸、2,5-萘二甲酸、2,6-萘二甲酸、1,4-萘二甲酸、1,5-萘二甲酸、二苯基甲酸、二苯氧基乙烷二甲酸、二苯碸甲酸(diphenyl sulfone carboxylic acid)、蒽二甲酸、1,3-環戊二甲酸、1,3-環己二甲酸、1,4-環己二甲酸、六氫對酞酸、六氫異酞酸、丙二酸、二甲基丙二酸、丁二酸、3,3-二乙基丁二酸、戊二酸、2,2-二甲基戊二酸、己二酸、2-甲基己二酸、三甲基己二酸、庚二酸、壬二酸、二聚酸、癸二酸、辛二酸、十二烷二甲酸等。
作為二醇，可列舉例如乙二醇、丙二醇、六亞甲二醇、新戊二醇、1,2-環己二甲醇、1,4-環己二甲醇、十亞甲二醇、1,3-丙二醇、1,4-丁二醇、1,5-戊二醇、1,6-己二醇、2,2-雙(4-羥基苯基)丙烷、雙(4-羥基苯基)碸等。
構成聚酯薄膜之二羧酸成分與二醇成分可分別使用1種或2種以上。作為構成聚酯薄膜之具體的聚酯樹脂，可列舉例如聚對酞酸乙二酯、聚對酞酸丙二酯、 聚對酞酸丁二酯、聚萘二甲酸乙二酯等，較佳為聚對酞酸乙二酯及聚萘二甲酸乙二酯，較佳為聚對酞酸乙二酯。聚酯樹脂亦可含有其他的共聚合成分，基於機械強度之觀點，共聚合成分之比例較佳為3莫耳%以下，較佳為2莫耳%以下，較佳為1.5莫耳%以下。此等樹脂係透明性優良，且熱特性、機械特性亦優異。又，此等樹脂可藉由延伸加工容易地控制遲滯。
聚酯薄膜可依循一般的製造方法而得。具體而言，可舉出藉由將聚酯樹脂熔融，並將擠出成片狀而成形的未配向聚酯，在玻璃轉移溫度以上的溫度下，利用輥之速度差予以朝縱向延伸後，藉由拉幅機朝橫向延伸，再施以熱處理而得的配向聚酯薄膜。聚酯薄膜可為單軸延伸薄膜，亦可為雙軸延伸薄膜。上述高遲滯配向薄膜亦可為朝斜向45度延伸者。
用於製得聚酯薄膜的製造條件可依據周知的手法適當設定。舉例而言，縱延伸溫度及橫延伸溫度通常為80~130℃，較佳為90~120℃。縱延伸倍率通常為1.0~3.5倍，較佳為1.0倍~3.0倍。又，橫延伸倍率通常為2.5~6.0倍，較佳為3.0~5.5倍。
將遲滯控制於特定範圍可藉由適當設定延伸倍率或延伸溫度、薄膜厚度來進行。舉例而言，縱延伸與橫延伸的延伸倍率差愈高、延伸溫度愈低、薄膜厚度愈厚，愈易獲得高遲滯。反之，縱延伸與橫延伸的延伸倍率差愈低、延伸溫度愈高、薄膜厚度愈薄，愈易獲得低遲滯。熱處理溫度通常較佳為140~240℃，較佳為180 ~240℃。
為抑制1片聚酯薄膜內之遲滯的變動，薄膜之厚度不均度小為較佳。為賦予遲滯差而降低縱延伸倍率時，有縱厚度不均度之值變高的情形。縱厚度不均度之值在延伸倍率的某特定範圍內有遽升之區域，因此，係以避開此種範圍的方式設定製膜條件為較佳。
配向聚酯薄膜之厚度不均度較佳為5.0%以下，更佳為4.5%以下，再佳為4.0%以下，尤佳為3.0%以下。薄膜之厚度不均度可藉由任意手段來加以測定。舉例而言，選取在薄膜流動方向呈連續的帶狀試樣(長3m),並使用市售之測定器(如Seiko-EM(股)製電子測微計Millitron 1240)，以1cm間距測定100點的厚度，求取厚度之最大值(dmax)、最小值(dmin)、平均值(d)，藉由下式可算出厚度不均度(%)。
厚度不均度(%)=((dmax-dmin)/d)×100
<影像顯示單元及光源>
影像顯示裝置典型上可具備作為影像顯示單元之液晶胞或有機EL單元。又基於抑制虹斑之觀點，影像顯示裝置係具有具連續且廣幅之發光光譜的白色光源為較佳。當影像顯示裝置具備液晶胞時，影像顯示裝置係以具備此種光源作為獨立於影像顯示單元的光源為佳。另一方面，為有機EL單元時，由於其本身具備光源之機能，故較佳為有機EL單元本身放出具有連續且廣幅之發光光譜的光。具有連續且廣幅之發光光譜的光源之方式及結構不特別限制，可為例如邊緣發光方式或正下方型方式 。「連續且廣幅之發光光譜」係指在至少450~650nm之波長區域，較佳為在可見光區域不存在光強度為零之波長區域的發光光譜。可見光區域係例如400~760nm之波長區域，可為360~760nm、400~830nm、或360~830nm。
作為具有連續且廣幅之發光光譜的白色光源，可舉出例如白色發光二極體(白色LED)。對於白色LED可例舉採螢光體方式者(亦即，藉由將使用化合物半導體之發出藍色光、或者紫外光之發光二極體與螢光體組合而發白光之元件)及有機發光二極體(Organic light-emitting diode：OLED)等。基於所謂具有連續且廣幅之發光光譜，且發光效率亦優良之觀點，包含將使用化合物半導體之藍色發光二極體與釔鋁石榴石系黃色螢光體組合而成之發光元件的白色發光二極體為較佳。
液晶胞可適當選擇使用能在液晶顯示裝置使用的任意液晶胞，其方式或結構不特別限制。例如，可適當選擇使用VA模式、IPS模式、TN模式、STN模式或彎曲配向(π型)等的液晶胞。因此，液晶胞可適當選擇使用以周知的液晶材料及今後可開發之液晶材料所製作的液晶。於一實施形態中，較佳之液晶胞係穿透型液晶胞。
有機EL單元可適當選擇使用該技術領域中所熟知的有機EL單元。有機EL單元係發光體(有機電致發光體)，典型上具有在透明基材上依序積層透明電極、有機發光層與金屬電極的結構。有機發光層係各種有機 薄膜之積層體，可列舉如包含三苯胺衍生物等的電洞注入層與包含蒽等螢光性有機固體的發光層之積層體、及此類發光層與包含苝衍生物等的電子注入層之積層體等。如此，有機EL單元因兼備作為影像顯示單元之機能及作為光源之機能，當影像顯示裝置具備有機EL單元時，則不需要獨立之光源。亦即，影像顯示裝置中的光源與影像顯示裝置只要可發揮彼等之機能，則可彼此獨立存在，亦可為一體化之形態。
使用有機EL單元作為影像顯示單元時，影像顯示裝置中的偏光板並非必須。惟，由於有機發光層之厚度為10nm左右而極薄，當外部光源被金屬電極反射再度向觀測側射出，而自外部觀測時，有機EL顯示裝置的顯示面有觀之如鏡面的情形。為將此種外部光源之鏡面反射予以遮蔽，係以在有機EL單元之觀測側設置偏光板及1/4波長板為佳。因此，當影像顯示裝置具有有機EL單元及偏光板時，只要將第1圖之液晶胞(4)視作有機EL單元，並將觀測側偏光板(5)視作偏光板，則可直接應用液晶顯示裝置(1)之配向薄膜之位置關係。
<偏光板及偏光膜保護薄膜>
偏光板係具有以2片保護薄膜(有時稱作「偏光膜保護薄膜」)夾持薄膜狀偏光膜的兩側的結構。偏光膜可適當選擇使用該技術領域中使用的任意偏光膜(或偏光薄膜)。作為代表性的偏光膜，可舉出使碘等二色性材料染附於聚乙烯醇(PVA)薄膜等而成者，惟不限定於此，可適當選擇使用周知的及今後可開發的偏光膜。
PVA薄膜可使用市售品，可使用如「Kuraray Vinylon(Kuraray(股)製)」、「Tohcello Vinylon(Tohcello(股)製)」、「Nichigo Vinylon(日本合成化學(股)製)」等。作為二色性材料可列舉碘、重氮化合物、聚次甲基(polymethine)染料等。
偏光膜可藉由任意手法而得，例如可藉由將PVA薄膜以二色性材料染附者在硼酸水溶液中實施單軸延伸，並在保持延伸狀態下進行清洗及乾燥而得。單軸延伸之延伸倍率通常為4~8倍左右，惟不特別限制。其他製造條件等可依據周知的手法適當設定。
觀測側偏光膜之觀測側的保護薄膜(觀測側偏光膜保護薄膜)可為配向薄膜或向來作為偏光膜保護薄膜使用的任意其他薄膜。
觀測側偏光膜之光源側的保護薄膜及光源側偏光膜的保護薄膜的種類為任意者，可適當選擇使用向來作為保護薄膜使用的薄膜。基於所謂操作處理性及得手容易性等觀點，較佳使用例如選自包含三乙酸纖維素(TAC)薄膜、丙烯酸薄膜及環狀烯烴系薄膜(例如降莰烯系薄膜)、聚丙烯薄膜及聚烯烴系薄膜(例如TPX)等之群組中的一種以上之不具有雙折射性的薄膜。
於一實施形態中，觀測側偏光膜的光源側保護薄膜及光源側偏光膜的觀測側保護薄膜較佳為具有光學補償機能的光學補償薄膜。此種光學補償薄膜可配合液晶的各種方式來適當選擇，可舉出例如由選自包含三乙酸纖維素中分散有液晶化合物(例如盤形液晶化合物 及/或雙折射性化合物)之樹脂、環狀烯烴樹脂(例如降莰烯樹脂)、乙酸丙醯酯(propionyl acetate)樹脂、聚碳酸酯薄膜樹脂、丙烯酸樹脂、苯乙烯丙烯腈共聚物樹脂、含內酯環樹脂、及含醯亞胺基聚烯烴樹脂等之群組中的1種以上而得者。
光學補償薄膜由於能以商業方式得手，故可適當選擇使用此等。可列舉如TN方式用之「WideView-EA」及「WideView-T」(富士FILM公司製)、VA方式用之「WideView-B」(富士FILM公司製)、VA-TAC(KONICA MINOLTA公司製)、「ZEONOR FILM」(日本ZEON公司製)、「ARTON」(JSR公司製)、「X-plate」(日東電工公司製)、以及IPS方式用之「Z-TAC」(富士FILM公司製)、「CIG」(日東電工公司製)、「P-TAC」(大倉工業公司製)等。
偏光膜保護薄膜可直接或經由黏著劑層積層於偏光膜上。基於提升黏著性之觀點，較佳為經由黏著劑積層。作為黏著劑，不特別限制，可使用任意者。基於使黏著劑層薄型化之觀點，較佳為水性者(亦即，將黏著劑成分溶於水或分散於水中者)。舉例而言，使用聚酯薄膜作為偏光膜保護薄膜時，係使用聚乙烯醇系樹脂、胺甲酸乙酯樹脂作為主成分，而為提升黏著性，可視需求使用摻有異氰酸酯系化合物、環氧化合物等的組成物作為黏著劑。黏著劑層之厚度較佳為10μm以下，更佳為5μm以下，再佳為3μm以下。
使用TAC薄膜作為偏光膜保護薄膜時，可使 用聚乙烯醇系黏著劑予以黏合。作為偏光膜保護薄膜，使用丙烯酸薄膜、環狀烯烴系薄膜、聚丙烯薄膜、或TPX等透濕性低的薄膜時，則較佳使用光硬化性黏著劑作為黏著劑。作為光硬化性樹脂，可舉出如光硬化性環氧樹脂與光陽離子聚合起始劑的混合物等。
偏光膜保護薄膜之厚度為任意者，例如可於15~300μm之範圍內，較佳為30~200μm之範圍內適當設定。
<觸控面板、透明導電性薄膜、基材薄膜、防爆薄膜>
影像顯示裝置可具備觸控面板。觸控面板的種類及方式不特別限制，但可列舉例如電阻膜方式觸控面板及電容方式觸控面板。觸控面板與該方式無關，通常具有1片或2片以上之透明導電性薄膜。透明導電性薄膜係具有在基材薄膜上積層透明導電層的結構。基材薄膜可使用配向薄膜、或向來作為基材薄膜使用的其他薄膜或者玻璃板等剛性板。
作為向來當作基材薄膜所使用的其他薄膜，可舉出具有透明性的各種樹脂薄膜。可使用例如由選自包含聚酯樹脂、乙酸酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、(甲基)丙烯酸樹脂、聚氯乙烯樹脂、聚偏二氯乙烯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚芳酯樹脂及聚苯硫樹脂等之群組中的1種以上之樹脂而得的薄膜。此等之中，較佳為聚酯樹脂、聚碳酸酯樹脂及聚烯烴樹脂，較佳為聚酯 樹脂。
基材薄膜之厚度為任意者，惟較佳為15~500μm之範圍。
基材薄膜亦可於表面預先實施濺鍍、電暈放電、火焰、紫外線照射、電子束照射、化學轉化、氧化等的蝕刻處理或底塗處理。藉此，得以提升與設於基材薄膜上的透明導電層等的密接性。再者，在設置透明導電層等之前，亦可視需要將基材薄膜之表面藉由溶劑清洗或超音波清洗等予以除塵、潔淨化。
透明導電層可直接積層於基材薄膜，惟可經由易黏著層及/或各種其他的層積層。作為其他的層，可列舉例如硬塗層、折射率匹配(IM,index matching)層及低折射率層等。作為代表性的透明導電性薄膜之積層結構，可舉出如下6種形態，惟並非限定於此等。
(1)基材薄膜/易黏著層/透明導電層
(2)基材薄膜/易黏著層/硬塗層/透明導電層
(3)基材薄膜/易黏著層/IM(折射率匹配)層/透明導電層
(4)基材薄膜/易黏著層/硬塗層/IM(折射率匹配)層/透明導電層
(5)基材薄膜/易黏著層/硬塗層(因高折射率而兼作IM)/透明導電層
(6)基材薄膜/易黏著層/硬塗層(高折射率)/低折射率層/透明導電性薄膜
IM層因其自身為高折射率層/低折射率層之積層構 造(透明導電性薄膜側為低折射率層)，藉由加以使用，能夠觀看液晶顯示螢幕時不易看見ITO圖案。如上述(6)，亦可使IM層之高折射率層與硬塗層一體化，基於薄型化之觀點為較佳。
上述(3)~(6)之構造係特別適合使用於電容式觸控面板中。又，上述(2)~(6)之構造，基於所謂可防止低聚物在基材薄膜表面析出之觀點為較佳，且較佳為在基材薄膜之另一單面亦設置硬塗層。
基材薄膜上之透明導電層係藉由導電性金屬氧化物所形成。構成透明導電層的導電性金屬氧化物不特別限定，係可使用選自包含銦、錫、鋅、鎵、銻、鈦、矽、鋯、鎂、鋁、金、銀、銅、鈀、鎢之群組中的至少1種金屬的導電性金屬氧化物。該金屬氧化物亦可視需求進一步含有上述群組所示之金屬原子。較佳之透明導電層為例如摻錫氧化銦(ITO)層及摻銻氧化錫(ATO)層，較佳為ITO層。又，透明導電層亦可為Ag奈米線、Ag印墨、Ag印墨之自組導電膜、網目狀電極、CNT印墨、導電性高分子。
透明導電層之厚度不特別限制，惟較佳為10nm以上，更佳為15~40nm，更佳為20~30nm。透明導電層之厚度為15nm以上時，易於獲得表面電阻例如為1×103Ω/□以下的良好連續被膜。又透明導電層之厚度為40nm以下時，則可作成透明性更高的層。
透明導電層可依據周知的程序來形成。可例示例如真空蒸鍍法、濺鍍法、離子鍍法。透明導電層可 為非晶性、亦可為結晶性者。作為形成結晶性透明導電層之方法，較佳為藉由在基材上暫時形成非晶膜後，將該非晶膜與可撓性透明基材一起進行加熱‧結晶化而形成。
本發明之透明導電性薄膜亦可去除其透明導電層之面內的一部分而予以圖案化。透明導電層經圖案化的透明導電性薄膜係具有：在基材薄膜上形成透明導電層的圖案形成部；及在基材薄膜上不具有透明導電層的開口部。圖案形成部的形狀例如除條帶狀外，亦可舉出方形等。
觸控面板係具有1片或2片以上之防爆薄膜作為上述透明基體為較佳。防爆薄膜可使用上述配向薄膜、或向來作為防爆薄膜使用的各種薄膜(例如對於上述基材薄膜所記載的透明樹脂薄膜)。當設有2片以上之防爆薄膜時，彼等可由同一材料形成，亦可為相異。
偏光膜保護薄膜、基材薄膜、及防爆薄膜，在不妨礙本發明效果的範圍內可使其含有各種添加劑。可列舉例如紫外線吸收劑、無機粒子、耐熱性高分子粒子、鹼金屬化合物、鹼土金屬化合物、磷化合物、抗靜電劑、耐光劑、難燃劑、熱安定劑、抗氧化劑、凝膠抑制劑(gelation inhibitor)、界面活性劑等。此外，為發揮高透明性，亦以聚酯薄膜實質上不含粒子為佳。「實質上不含粒子」，係指例如為無機粒子時，在以螢光X射線分析(fluorescent X-ray analysis)來定量無機元素的情況，以重量計其含量為50ppm以下，較佳為10ppm以下，特 佳為檢測極限以下。
配向薄膜尚可具有各類機能層。作為此類機能層，可使用例如選自包含硬塗層、防眩層、抗反射層、低反射層、低反射防眩層、抗反射防眩層、抗靜電層、聚矽氧層、黏著層、防汙層、拒水層(water-repellent layer)及抗藍光(blue cut)層等之群組中的1種以上。藉由設置防眩層、抗反射層、低反射層、低反射防眩層、抗反射防眩層，可望有由斜向觀察時的色斑獲改善之效果。
於設置各類機能層時，較佳為配向薄膜表面具有易黏著層。此時，基於抑制反射光所導致的干涉之觀點，較佳為將易黏著層之折射率調整成為機能層之折射率與配向薄膜之折射率的幾何平均附近。易黏著層之折射率的調整可採用周知的方法，例如可藉由使黏合劑樹脂含有鈦或鋯、其他金屬物種(metal species)來容易地加以調整。
(硬塗層)
硬塗層只要為具有硬度及透明性的層即可，通常係利用作為「以紫外線或電子束為代表而使其硬化之游離輻射硬化性樹脂、以熱使其硬化之熱硬化性樹脂等的各種硬化性樹脂之硬化樹脂層」而形成者。為了對此等硬化性樹脂賦予適當柔軟性、其他物性等，亦可適當添加熱塑性樹脂等。即使於硬化性樹脂之中，基於可獲得具有代表性且優良的硬質塗膜之觀點，較佳為游離輻射硬化性樹脂。
作為上述游離輻射硬化性樹脂，只要適當採用向來周知之樹脂即可。再者，作為游離輻射硬化性樹脂，可使用具代表性的具有乙烯性雙鍵之自由基聚合性化合物、環氧化合物等之類的陽離子聚合性化合物等，此等化合物作為單體、低聚物、預聚合物等，可單獨或適當組合2種以上而使用之。代表性的化合物係屬自由基聚合性化合物的各種(甲基)丙烯酸酯系化合物。(甲基)丙烯酸酯系化合物之中，作為以較低分子量使用的化合物，可列舉例如聚酯(甲基)丙烯酸酯、聚醚(甲基)丙烯酸酯、(甲基)丙烯酸丙烯醯酯(acryl(meth)acrylate)、環氧(甲基)丙烯酸酯、胺甲酸乙酯(甲基)丙烯酸酯等。
作為單體，例如(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸乙基己酯、苯乙烯、甲基苯乙烯、N-乙烯吡咯啶酮等單官能單體；或者例如三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三丙二醇二(甲基)丙烯酸酯、二乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、二新戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,6-己二醇二(甲基)丙烯酸酯、新戊二醇二(甲基)丙烯酸酯等多官能單體等均可適當加以使用。(甲基)丙烯酸酯係指丙烯酸酯或者甲基丙烯酸酯。
以電子束使游離輻射硬化性樹脂硬化時，不需要光聚合起始劑，惟以紫外線使其硬化時，使用周知的光聚合起始劑。舉例而言，自由基聚合系統的情形，作為光聚合起始劑，可單獨或混合使用苯乙酮類、二苯甲酮類、9-氧硫(thioxanthone)類、安息香、安息香甲醚等。陽離子聚合系統的情形，作為光聚合起始劑， 可單獨或混合使用芳香族重氮鹽、芳香族鋶鹽、芳香族錪鹽、茂金屬化合物、安息香磺酸酯等。
硬塗層之厚度只要作成適當的厚度即可，例如為0.1~100μm，惟通常係作成1~30μm。又，硬塗層可適當採用周知的各種塗布法來形成。
游離輻射硬化性樹脂中，為調整適當物性等，亦可適當添加熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂等。作為熱塑性樹脂或熱硬化性樹脂，可舉出各類型者，例如丙烯酸樹脂、胺甲酸乙酯樹脂、聚酯樹脂等。
為了對硬塗層賦予耐光性，並防止日光等所含之紫外線造成的變色、強度劣化、龜裂發生等，亦較佳為在游離輻射硬化性樹脂中添加紫外線吸收劑。當添加紫外線吸收劑時，為了確實防止因該紫外線吸收劑阻礙硬塗層之硬化，游離輻射硬化性樹脂係藉由電子束予以硬化為較佳。作為紫外線吸收劑，只要由苯并三唑系化合物、二苯甲酮系化合物等有機系紫外線吸收劑、或者粒徑0.2μm以下之微粒狀氧化鋅、氧化鈦、氧化鈰等無機系紫外線吸收劑等周知之物當中選出使用即可。紫外線吸收劑之添加量，在游離輻射硬化性樹脂組成物中係0.01~5質量%左右。為進一步提升耐光性，添加受阻胺系自由基捕捉劑等的自由基捕捉劑與紫外線吸收劑併用為較佳。再者，電子束照射係加速電壓70kV~1MV、照射劑量5~100kGy(0.5~10Mrad)左右。
(防眩層)
作為防眩層，只要適當採用向來周知者即可，一般 而言係作為樹脂中分散有防眩劑的層而形成。作為防眩劑，可使用無機系或有機系之微粒。此等微粒的形狀係呈真球狀、橢圓形等。微粒宜為呈透明性者為佳。此類微粒，例如作為無機系微粒可舉出氧化矽珠，作為有機系微粒則可舉出樹脂珠。作為樹脂珠，可列舉例如苯乙烯珠、三聚氰胺珠、丙烯酸珠、丙烯酸-苯乙烯珠、聚碳酸酯珠、聚乙烯珠、苯并胍胺-甲醛珠等。微粒通常相對於樹脂分100質量份，可添加2~30質量份，較佳為10~25質量份左右。
分散保持有防眩劑的上述樹脂係與硬塗層相同，盡可能使硬度愈高愈佳。因此，作為上述樹脂，可使用例如於上述硬塗層所述游離輻射硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等的硬化性樹脂等。
防眩層之厚度只要作成適當的厚度即可，通常係作成1~20μm左右。防眩層可適當採用周知的各種塗布法來形成。再者，供形成防眩層的塗液中，為防止防眩劑沉澱，較佳為適當添加氧化矽等周知之防沉降劑。
(抗反射層)
作為抗反射層，只要適當採用向來周知者即可。一般而言，抗反射層至少包含低折射率層，而進一步包含使低折射率層與(折射率高於該低折射率層的)高折射率層交互鄰接積層且將表面側作為低折射率層的多層之層。低折射率層及高折射率層之各厚度只要作成對應用途的適當厚度即可，較佳為鄰接積層時各為0.1μm左右，低折射率層單獨時為0.1~1μm左右。
作為低折射率層，可列舉以薄膜形成法(例如蒸鍍、濺鍍、CVD等的物理或化學氣相沉積法)形成使氧化矽、氟化鎂等低折射率物質含於樹脂中的層、氟系樹脂等低折射率樹脂的層、使低折射率物質含於低折射率樹脂中的層、包含氧化矽、氟化鎂等低折射率物質的層的薄膜；以由氧化矽溶膠液形成氧化矽凝膠膜的溶膠凝膠法所形成的膜；或者使作為低折射率物質之含空隙微粒含於樹脂中的層等。
上述含空隙微粒係指內部含氣體之微粒、含氣體之多孔質結構微粒等，且相對於微粒固體部分原本的折射率，因該氣體產生的空隙使微粒整體之視折射率降低的微粒。作為此類含空隙微粒，可舉出日本特開2001-233611號公報所揭示的氧化矽微粒等。又作為含空隙微粒，除氧化矽之類的無機物以外，亦可舉出日本特開2002-805031號公報等所揭示的中空聚合物微粒。含空隙微粒之粒徑係例如5~300nm左右。
作為高折射率層，可舉出以薄膜形成法(例如蒸鍍、濺鍍、CVD等的物理或化學氣相沉積法)形成使氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅等高折射率物質含於樹脂中的層、無氟樹脂等高折射率樹脂的層、使高折射率物質含於高折射率樹脂中的層、包含氧化鈦、氧化鋯、氧化鋅等高折射率物質的層的薄膜等。
(抗靜電層)
作為抗靜電層，只要適當採用向來周知者即可，一般而言，係作為樹脂中含有抗靜電層的層而形成。作為 抗靜電層，可使用有機系或無機系之化合物。舉例而言，作為有機系化合物之抗靜電層，可列舉陽離子系抗靜電劑、陰離子系抗靜電劑、兩性系抗靜電劑、非離子系抗靜電劑、有機金屬系抗靜電劑等，且此等抗靜電劑除可作為低分子化合物使用外，亦可作為高分子化合物使用。又作為抗靜電劑，亦可使用聚噻吩、聚苯胺等導電性聚合物等。且作為抗靜電劑，亦可使用例如包含金屬氧化物的導電性微粒等。導電性微粒之粒徑，基於透明性之觀點，例如平均粒徑為0.1nm~0.1μm左右。再者，作為該金屬氧化物，可列舉例如ZnO、CeO2、Sb2O2、SnO2、ITO(摻銦氧化錫)、In2O3、Al2O3、ATO(摻銻氧化錫)、AZO(摻鋁氧化鋅)等。
作為含有抗靜電層的上述樹脂，例如，除使用如上述硬塗層所述之游離輻射硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等的硬化性樹脂等外，當形成抗靜電層作為中間層而不需要抗靜電層本身的表面強度時，亦使用熱塑性樹脂等。抗靜電層之厚度只要作成適當厚度即可，通常係作成0.01~5μm左右。抗靜電層可適當採用周知的各種塗布法來形成。
(防汙層)
作為防汙層，只要適當採用向來周知者即可，一般而言，可使用樹脂中含有矽油、矽氧樹脂等矽系化合物；氟系界面活性劑、氟系樹脂等氟系化合物；蠟等防汙染劑的塗料並以周知的塗布法來形成。防汙層之厚度只要作成適當厚度即可，通常可作成1~10μm左右。
[實施例]
以下，茲舉出實施例對本發明更具體地加以說明，惟本發明不因下述實施例而受限制，在可合乎本發明意旨的範圍內可適當加以變更來實施，且彼等均包含於本發明技術範圍內。
如下所述，製得5種配向薄膜(配向薄膜1~5)。
配向薄膜1
將固有黏度0.62dl/g之PET樹脂粒於135℃減壓乾燥(1Torr)6小時後，供給至擠壓機，於285℃予以溶解。將該聚合物以不鏽鋼燒結體之濾材(標稱過濾精密度10μm粒子95%濾除)過濾，自噴嘴擠出成片狀後，使用靜電流延法(electrostatic casting method)予以捲繞於表面溫度30℃之流延鼓輪(casting drum)並冷卻固化，而作成未延伸薄膜。
將上述未延伸薄膜，以加熱的輥群及紅外線加熱器加熱至100℃，其後以具有周速差的輥群朝長度方向延伸達3.6倍，得到單軸配向聚對酞酸乙二酯薄膜。將單軸延伸薄膜導引至拉幅延伸機，一面以夾子夾持薄膜之端部，一面予以導向溫度125℃之熱風區，朝寬度方向延伸達3.8倍。接著，在保持朝寬度方向延伸的寬度之狀態下，以溫度225℃、30秒施予處理，繼而朝寬度方向進行3%的緩和處理，得到薄膜厚度約80μm的聚對酞酸乙二酯薄膜。將其作為配向薄膜1。
配向薄膜2
除將薄膜厚度作成約50μm以外係以與實施例1同樣的方法進行製膜，得到配向薄膜2。
配向薄膜3
除將薄膜厚度作成約38μm以外係以與實施例1同樣的方法進行製膜，得到配向薄膜3。
配向薄膜4
除將薄膜厚度作成約28μm以外係以與實施例1同樣的方法進行製膜，得到配向薄膜4。
配向薄膜5
藉由將厚度100μm之聚丙烯薄膜於140℃實施100%延伸處理，得到遲滯1200nm之丙烯薄膜(配向薄膜5)。
以下述手法測定所得配向薄膜1~5之遲滯。亦即，使用二片偏光板，求出薄膜之配向主軸方向，並以配向主軸方向呈正交的方式切出4cm×2cm之長方形，而作成測定用試樣。對於該試樣，藉由亞貝折射率計(ATAGO公司製NAR-4T)求取正交的二軸之折射率(Nx，Ny)及厚度方向之折射率(Nz)，並求出前述二軸之折射率差的絕對值(|Nx-Ny|)作為折射率之不等向性(△Nxy)。其後，藉由折射率之不等向性(△Nxy)與薄膜之厚度d(nm)的積(△Nxy×d)求出遲滯(Re)。測定結果示於下表5。又，以與遲滯的測定同樣的方法求取Nx、Ny、Nz與薄膜厚度d(nm)，算出(△Nxz×d)、(△Nyz×d)之平均值而求出厚度方向遲滯(Rth)。
製造將上述配向薄膜1~5如下表6所示使用於第1圖之觀測側偏光膜保護薄膜(10b)、光源側防爆薄膜(14)、光源側基材薄膜(11a)、觀測側基材薄膜(12a)及觀測側防爆薄膜(15)之任一者或全部的液晶顯示裝置。除試驗No.3及26外，使用2片以上之配向薄膜的所有液晶顯示裝置中的配向薄膜係以配向主軸相互平行的方式配置。試驗No.3中，係以2片配向薄膜之配向主軸所形成之角度成為4度的方式配置配向薄膜。試驗No.26中，係以3片配向薄膜之中，觀測側的2片配向薄膜之配向主軸呈0度(平行)，且剩餘一片配向薄膜其配向主軸與其他薄膜之配向主軸所形成之角度成為30度的方式配置。光源係使用白色LED或冷陰極管。於表3中，觀測側偏光膜保護薄膜(10b)記載為「TAC薄膜」時，係指使用TAC薄膜之意。光源側防爆薄膜(14)及觀測側防爆薄膜(15)一欄呈空白時，係指未使用彼等之意。光源側基材薄膜(11a)及觀測側基材薄膜(11b)一欄呈空白時，係表示未使用觸控面板；如記載為「玻璃基材」時，則意指使用玻璃基材。
於所得液晶顯示裝置之觀測側表面，以與觀測側表面平行的方式配置偏光薄膜，使其顯示白影像。在維持前述平行狀態下使偏光薄膜之偏光軸旋轉360度 ，同時經由偏光薄膜注視白影像並確認虹斑發生之有無及程度，依據下述基準加以評定。
<評定基準>
◎：從正面觀察時，未觀察到虹斑。
○：從正面觀察時，觀察到極微弱的虹斑。
×：從正面觀察時，觀察到明確的虹斑。
將評定結果示於下表6。
由表6之結果可確認，藉由將位於影像顯示裝置中較觀測側的偏光膜更靠近觀測側的配向薄膜之遲滯的合計值控制為3000nm以上，並利用具有連續發光光譜的光源，得以抑制虹斑。又確認藉由將前述遲滯的合計值控制為4000nm以上，可發揮更顯著的虹斑抑制效果。進而確認藉由使配置於較觀測側偏光膜更靠近觀測側的配向薄膜之配向主軸呈平行，可獲得更優良的虹斑抑制效果。
再者，經確認即使在沿著配向薄膜之配向主軸方向自斜向觀察螢幕而觀察到虹斑的情況，沿著與配向薄膜之配向主軸垂直的方向自斜向觀察螢幕時，亦可抑制虹斑的發生。

Claims (6)

  1. 一種影像顯示裝置，其具有：(1)具有連續發光光譜的白色光源；(2)影像顯示單元；(3)配置於較該影像顯示單元更靠近觀測側的偏光膜；及(4)配置於較該偏光膜更靠近觀測側的至少2片配向薄膜；該至少2片配向薄膜之遲滯值的合計值為3000nm以上30000nm以下；該各配向薄膜之遲滯分別為250nm以上且小於3000nm。
  2. 如請求項1之影像顯示裝置，其中該至少2片配向薄膜之中，配向主軸彼此略呈平行的配向薄膜之遲滯的合計值為3000nm以上30000nm以下。
  3. 如請求項2之影像顯示裝置，其中配向主軸彼此略呈平行的配向薄膜係連續配置。
  4. 如請求項2之影像顯示裝置，其中各配向薄膜係分別為偏光膜保護薄膜、透明導電性薄膜之基材薄膜、防爆薄膜(anti-scattering film)之任一者。
  5. 如請求項1之影像顯示裝置，其中各配向薄膜係分別為偏光膜保護薄膜、透明導電性薄膜之基材薄膜、防爆薄膜之任一者。
  6. 如請求項1至5中任一項之影像顯示裝置，其中該具有連續發光光譜的白色光源係白色發光二極體。
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