JP6265974B2 - スラリー再生装置、スラリー再生方法及び再生スラリー - Google Patents
スラリー再生装置、スラリー再生方法及び再生スラリー Download PDFInfo
- Publication number
- JP6265974B2 JP6265974B2 JP2015509900A JP2015509900A JP6265974B2 JP 6265974 B2 JP6265974 B2 JP 6265974B2 JP 2015509900 A JP2015509900 A JP 2015509900A JP 2015509900 A JP2015509900 A JP 2015509900A JP 6265974 B2 JP6265974 B2 JP 6265974B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- slurry
- iron
- storage tank
- used slurry
- separation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B24—GRINDING; POLISHING
- B24B—MACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
- B24B57/00—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents
- B24B57/02—Devices for feeding, applying, grading or recovering grinding, polishing or lapping agents for feeding of fluid, sprayed, pulverised, or liquefied grinding, polishing or lapping agents
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
- B28D—WORKING STONE OR STONE-LIKE MATERIALS
- B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
- B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
- B28D5/007—Use, recovery or regeneration of abrasive mediums
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/10—Greenhouse gas [GHG] capture, material saving, heat recovery or other energy efficient measures, e.g. motor control, characterised by manufacturing processes, e.g. for rolling metal or metal working
Description
Claims (10)
- ワイヤソーによってインゴットを切断するときに生じた切屑及び鉄分を含む使用済スラリーを再利用可能に再生するスラリー再生装置であって、
前記鉄分を含む使用済スラリーに空気を供給可能な空気供給部と、
前記空気供給部から供給された空気中の酸素により前記鉄分が酸化されることによって形成された酸化鉄を含む使用済スラリーを遠心分離する遠心分離部と、を備える、スラリー再生装置。 - 前記使用済スラリーを貯留する貯留槽と、
前記貯留槽に貯留された前記使用済スラリーを攪拌可能な攪拌機と、を備え、
前記空気供給部は、前記貯留槽に貯留されている前記使用済スラリーに空気を供給し、
前記遠心分離部は、前記貯留槽から当該貯留槽に貯留されている前記使用済スラリーを導出し、この導出した使用済スラリーを遠心分離する、請求項1に記載のスラリー再生装置。 - 前記遠心分離部は、前記使用済スラリーを水平若しくは略水平軸を回転中心に回転させて遠心分離する横型遠心分離機を有する、請求項1又は2に記載のスラリー再生装置。
- 前記遠心分離された使用済スラリーを膜分離する膜分離部をさらに備える、請求項1〜3のいずれか1項に記載のスラリー再生装置。
- 前記貯留槽から当該貯留槽に貯留されている前記使用済スラリーを導出して膜分離し、この膜分離後の使用済スラリーである被膜透過液を前記貯留槽に戻す膜分離部をさらに備え、
前記遠心分離部は、遠心分離した後の前記使用済スラリーを前記貯留槽に戻す、請求項2に記載のスラリー再生装置。 - ワイヤソーによってインゴットを切断するときに生じた切屑及び鉄分を含む使用済スラリーを再利用可能に再生するスラリー再生方法であって、
前記鉄分を含む使用済スラリーに空気を供給し、この空気中の酸素により前記鉄分が酸化されることによって形成された酸化鉄を含む使用済スラリーを遠心分離する、スラリー再生方法。 - 貯留槽に貯留された前記使用済スラリーに空気を供給し、
前記貯留槽に貯留され且つ前記空気を供給された前記使用済スラリーを、さらに攪拌し、
この攪拌された使用済スラリーを遠心分離する、請求項6に記載のスラリー再生方法。 - 前記遠心分離の回転中心となる軸は、水平若しくは略水平軸である、請求項6又は7に記載のスラリー再生方法。
- 前記遠心分離された後の前記使用済スラリーをさらに膜分離する、請求項6〜8のいずれか1項に記載のスラリー再生方法。
- 前記貯留槽から当該貯留槽に貯留されている前記使用済スラリーを導出して膜分離し且つ当該膜分離後の使用済スラリーである被膜透過液を前記貯留槽に戻すと共に、前記遠心分離した後の使用済スラリーを前記貯留槽に戻す、請求項7に記載のスラリー再生方法。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013078747 | 2013-04-04 | ||
JP2013078747 | 2013-04-04 | ||
PCT/JP2014/001835 WO2014162708A1 (ja) | 2013-04-04 | 2014-03-28 | スラリー再生装置、スラリー再生方法及び再生スラリー |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPWO2014162708A1 JPWO2014162708A1 (ja) | 2017-02-16 |
JP6265974B2 true JP6265974B2 (ja) | 2018-01-24 |
Family
ID=51658021
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015509900A Expired - Fee Related JP6265974B2 (ja) | 2013-04-04 | 2014-03-28 | スラリー再生装置、スラリー再生方法及び再生スラリー |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6265974B2 (ja) |
CN (1) | CN105121095B (ja) |
TW (1) | TWI539986B (ja) |
WO (1) | WO2014162708A1 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101900788B1 (ko) | 2017-01-03 | 2018-09-20 | 에스케이실트론 주식회사 | 웨이퍼 연마 시스템 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5834098A (ja) * | 1981-08-26 | 1983-02-28 | Ebara Infilco Co Ltd | 有機性汚泥の処理方法 |
JP3317839B2 (ja) * | 1996-02-16 | 2002-08-26 | 花王株式会社 | スライスしたウエハー又は板状物の洗浄剤組成物および洗浄方法 |
JP2003506214A (ja) * | 1999-08-06 | 2003-02-18 | トラスティーズ オブ スティーブンス インスティテュート オブ テクノロジー | 重金属および有機化合物で汚染された水の処理のための鉄粉末および砂濾過方法 |
ITRM20050329A1 (it) * | 2005-06-24 | 2006-12-25 | Guido Fragiacomo | Procedimento per il trattamento di sospensioni abrasive esauste per il recupero delle loro componenti riciclabili e relativo impianto. |
JPWO2008020507A1 (ja) * | 2006-08-16 | 2010-01-07 | 旭硝子株式会社 | 研磨剤スラリー廃液からの研磨剤回収方法及び装置 |
JP4973461B2 (ja) * | 2007-11-15 | 2012-07-11 | パナソニック株式会社 | 排水の処理装置および排水の処理方法 |
US20110059002A1 (en) * | 2008-04-11 | 2011-03-10 | John Allan Fallavollita | Methods and apparatus for recovery of silicon and silicon carbide from spent wafer-sawing slurry |
JP5289833B2 (ja) * | 2008-06-19 | 2013-09-11 | 野村マイクロ・サイエンス株式会社 | 電子部品用シリコンの加工方法及び再生方法 |
US8231006B2 (en) * | 2008-12-31 | 2012-07-31 | Memc Singapore Pte. Ltd. | Methods to recover and purify silicon particles from saw kerf |
JP2011005561A (ja) * | 2009-06-23 | 2011-01-13 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコンインゴットの切断方法および切断システム |
JP2011104693A (ja) * | 2009-11-16 | 2011-06-02 | Sharp Corp | 基板研磨装置 |
CN101758457B (zh) * | 2010-01-19 | 2012-05-30 | 中国科学院上海微系统与信息技术研究所 | 一种化学机械抛光液回收和重复利用的方法 |
KR101019032B1 (ko) * | 2010-08-24 | 2011-03-04 | 주식회사 시노펙스케미코아 | 웨이퍼 가공폐수 처리장치 및 처리방법 |
CN102398221A (zh) * | 2010-09-15 | 2012-04-04 | 亚泰半导体设备股份有限公司 | 化学机械研磨浆液回收再利用系统及其方法 |
CN102423871A (zh) * | 2011-07-01 | 2012-04-25 | 上海华力微电子有限公司 | 一种抛光液的循环再利用方法 |
JP5802609B2 (ja) * | 2011-09-07 | 2015-10-28 | ジー・フォースジャパン株式会社 | クーラント再生方法 |
-
2014
- 2014-03-28 CN CN201480019659.XA patent/CN105121095B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2014-03-28 JP JP2015509900A patent/JP6265974B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2014-03-28 WO PCT/JP2014/001835 patent/WO2014162708A1/ja active Application Filing
- 2014-04-03 TW TW103112426A patent/TWI539986B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN105121095A (zh) | 2015-12-02 |
CN105121095B (zh) | 2018-04-27 |
WO2014162708A1 (ja) | 2014-10-09 |
TW201446317A (zh) | 2014-12-16 |
JPWO2014162708A1 (ja) | 2017-02-16 |
TWI539986B (zh) | 2016-07-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5332914B2 (ja) | シリコンインゴットの切断方法 | |
JP2011502054A (ja) | 使用済み研磨スラリーを処理するための方法 | |
JP5802609B2 (ja) | クーラント再生方法 | |
JP5941995B2 (ja) | クーラント再生方法、及びクーラント再生装置 | |
JP6265974B2 (ja) | スラリー再生装置、スラリー再生方法及び再生スラリー | |
KR20160002815U (ko) | 액 보충 장치 및 이것을 구비한 쿨런트 재생 장치 | |
JP2010064197A (ja) | シリコン含有排水の処理方法及び装置 | |
JP3187466U (ja) | スラリー再生装置 | |
JP6085500B2 (ja) | ワイヤソースラリのクーラント回収装置 | |
TWI533973B (zh) | Saw the slurry management device | |
JP2008188683A (ja) | シリコンインゴット切削方法および切削装置 | |
JP3187465U (ja) | スラリー再生装置 | |
JP4369054B2 (ja) | 使用済グリコール系スラリーの分離、再生および再使用法 | |
JP6198438B2 (ja) | ワイヤソースラリ廃液のクーラント回収装置 | |
JP2012020365A (ja) | クーラント回収システム | |
JP2014019603A (ja) | シリコンスラッジの洗浄装置及びシリコンの回収方法 | |
TWI546160B (zh) | 冷卻劑再生方法 | |
JP2011083845A (ja) | 研磨用固液回収分離装置 | |
JP2013237130A (ja) | クーラントを回収する方法 | |
JP5756423B2 (ja) | 分離回収装置 | |
JP2013004896A (ja) | 使用済み冷却液の回収方法及び回収装置 | |
KR101125359B1 (ko) | 폐절삭연마혼합액 재생방법 | |
JP5740255B2 (ja) | 再生クーラント、及びクーラント再生方法 | |
KR20130084935A (ko) | 폐절삭연마혼합액 재생방법 | |
JP2001009721A (ja) | 研磨材の回収装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20161201 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20170919 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20171113 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20171128 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20171219 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6265974 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |