JP6265666B2 - 適応的書き込み操作を用いる不揮発性メモリ(nvm) - Google Patents
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Description
Claims (18)
- メモリアレイのメモリセルに対して書き込み操作を実行する方法であって、該方法は、
第1の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して前記書き込み操作の第1の複数のパルスを印加するステップであって、該第1の複数のパルスは所定数のパルスである、印加するステップと、
前記メモリセルのサブセットの閾値電圧と、暫定検証電圧との比較を実行するステップと、
前記メモリセルの前記サブセットのいずれかの閾値電圧が前記暫定検証電圧との前記比較に失敗する場合、前記第1の所定のランプ速度と比較して増大されたランプ速度を有する第2の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して第2の複数のパルスを印加することによって、前記書き込み操作を継続するステップと,
前記メモリセルのサブセットの各々の前記閾値電圧が前記暫定検証電圧との前記比較をパスする場合、前記第1の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して前記第2の複数のパルスを印加することによって、前記書き込み操作を継続するステップと、
を含む、方法。 - 前記書き込み操作を実行するステップは消去手順を実行するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の複数のパルスを前記印加すること、および前記第2の複数のパルスを前記印加することは前記メモリセルのすべてのメモリセルに対して実行される、請求項2に記載の方法。
- 前記第1の複数のパルスの各パルスおよび前記第2の複数のパルスの各パルスが印加された後、前記メモリセルの前記サブセットの閾値電圧と消去検証電圧との比較を実行し、前記メモリセルのサブセットの各々の前記閾値電圧が前記消去検証電圧との前記比較をパスする場合、前記メモリセルに対する前記書き込み操作のソフトプログラム手順を継続する、請求項3に記載の方法。
- 前記メモリセルは複数のページ内に配列され、複数のメモリセルとしての各ページ、前記メモリセルの前記サブセットは前記複数のページのうちの第1のページとしてさらに特徴づけられる、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の所定のランプ速度は第1の電圧インクリメントを使用し、前記第2の所定のランプ速度は、前記第1の電圧インクリメントよりも大きい第2の電圧インクリメントを使用する、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の所定のランプ速度は前記第1の複数のパルスに第1のパルス幅を使用し、前記第2の所定のランプ速度は前記第2の複数のパルスに、前記第1のパルス幅よりも小さい第2のパルス幅を使用する、請求項1に記載の方法。
- 前記書き込み操作を実行するステップはプログラム手順またはソフトプログラム手順を実行するステップを含む、請求項1に記載の方法。
- 前記第1の複数のパルスの各パルスおよび前記第2の複数のパルスの各パルスの前記印加の後、前記メモリセルの前記サブセットの閾値電圧とプログラム検証電圧との比較を実行し、
前記メモリセルに対して前記書き込み操作の前記第1の複数のパルスを印加するステップは、前記第1の複数のパルスが、その閾値電圧が前記プログラム検証電圧との前記比較に失敗する前記メモリセルの前記サブセットのメモリセルにのみ印加されることをさらに特徴づけられ、
前記メモリセルに対して前記書き込み操作の前記第2の複数のパルスを印加するステップは、前記第2の複数のパルスが、その閾値電圧が前記プログラム検証電圧との前記比較に失敗する前記メモリセルのサブセットのメモリセルにのみ印加されることをさらに特徴づけられる、請求項8に記載の方法。 - 前記第2の複数のパルスは第2の所定数のパルスであり、前記方法は、
前記メモリセルの前記サブセットの閾値電圧と第2の暫定検証電圧との比較を実行するステップと、
前記メモリセルのサブセットのいずれかの閾値電圧が前記第2の暫定検証電圧との前記比較に失敗する場合、前記第2の所定のランプ速度と比較して増大されたランプ速度を有する第3の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して第3の複数のパルスを印加することによって、前記書き込み操作を継続するステップと、
前記メモリセルのサブセットの各々の閾値電圧が前記第2の暫定検証電圧との前記比較をパスする場合、前記第1の所定のランプ速度または前記第2の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して第4の複数のパルスを印加することによって、前記書き込み操作を継続するステップと、をさらに含む、請求項1に記載の方法。 - メモリアレイのメモリセルに対して書き込み操作を実行する方法であって、該方法は、
前記書き込み操作の消去手順において、
第1の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルのサブセットに所定数のパルスを印加するステップと、
前記メモリセルのサブセットの少なくとも1つのメモリセルの閾値電圧が暫定検証電圧よりも大きいか否かを判定するステップと、
前記メモリセルのサブセットの各メモリセルに対して複数の追加のパルスを印加するステップとを含み、
前記メモリセルのサブセットの少なくとも1つの前記閾値電圧が前記暫定検証電圧よりも大きい場合、前記複数の追加のパルスは、前記第1の所定のランプ速度と比較して増大されたランプ速度を有する第2の所定のランプ速度に応じて印加され、
前記メモリセルのサブセットの各メモリセルの前記閾値電圧が前記暫定検証電圧よりも大きくない場合、前記複数の追加のパルスは、前記第1の所定のランプ速度に応じて印加される、方法。 - 前記消去手順の後、前記方法は、
前記メモリセルに対してソフトプログラム手順を実行することによって前記書き込み操作を継続するステップを含む、請求項11に記載の方法。 - 前記書き込み操作の前記消去手順において、前記方法は、
前記所定数のパルスの各パルスおよび前記複数の追加のパルスの各パルスが印加された後、前記メモリセルの前記サブセットの閾値電圧と消去検証電圧とを比較するステップをさらに含み、前記メモリセルのサブセットのすべてのメモリセルの前記閾値電圧が前記消去検証電圧を下回る場合、前記メモリセルに対する前記書き込み操作のソフトプログラム手順によって継続する、請求項11に記載の方法。 - 前記メモリセルは複数のページ内に配列され、複数のメモリセルとしての各ページ、前記メモリセルの前記サブセットは前記複数のページのうちの第1のページとしてさらに特徴づけられる、請求項11に記載の方法。
- 前記第1の所定のランプ速度は第1の電圧インクリメントを使用し、前記第2の所定のランプ速度は、前記第1の電圧インクリメントよりも大きい第2の電圧インクリメントを使用する、請求項11に記載の方法。
- 前記第1の所定のランプ速度は第1のパルス幅を使用し、前記第2の所定のランプ速度は前記第1のパルス幅よりも小さい第2のパルス幅を使用する、請求項11に記載の方法。
- 不揮発性メモリ(NVM)システムであって、
不揮発性であるメモリセルのアレイと、
前記アレイに結合されるコントローラと、を備え、
該コントローラは、書き込み操作のために、第1の所定のランプ速度に応じて前記書き込み操作の第1の複数のパルスを前記アレイに印加し、ここで、前記第1の複数のパルスは所定数のパルスであり、前記アレイのサブセットの閾値電圧と、暫定検証電圧とを比較し、
前記サブセットのいずれかのメモリセルの閾値電圧が前記暫定検証電圧との前記比較に失敗する場合、前記コントローラは、前記第1の所定のランプ速度と比較して増大されたランプ速度を有する第2の所定のランプ速度に応じて第2の複数のパルスを前記アレイに印加することによって、前記書き込み操作を継続し、
前記サブセットの各メモリセルの閾値電圧が前記暫定検証電圧との前記比較をパスする場合、前記コントローラは、前記第1の所定のランプ速度に応じて前記メモリセルに対して前記第2の複数のパルスを印加することによって、前記書き込み操作を継続する、NVMシステム。 - 前記書き込み操作は、プログラム手順、ソフトプログラム手順、および消去手順のうちの少なくとも1つを含む、請求項17に記載のNVMシステム。
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