JP6255111B2 - 半導体装置、インバータモジュール、インバータ、鉄道車両、および半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Description
以下では、本実施の形態の半導体装置である半導体チップの構造について、図1〜図5を用いて説明する。図1は、本実施の形態の半導体装置である半導体チップの一部を示す平面レイアウトである。図2は、図1のA−A線における断面図である。図3は、図1のB−B線における断面図である。図4は、図1のC−C線における断面図である。図5は、本実施の形態の半導体装置である半導体チップの周縁部の断面図である。
前記実施の形態1において説明したMOSFETおよび接合ダイオードを有する半導体装置は、スイッチング素子として電力変換装置に用いることが出来る。本実施の形態のインバータモジュールを含む電力変換装置(インバータ)の回路図を図22に示す。
前記実施の形態2において説明した3相モータシステムは、ハイブリッド車、電気自動車などの自動車に用いることができる。本実施の形態における3相モータシステムを用いた自動車を図23および図24を用いて説明する。図23は、本実施の形態における電気自動車の構成を示す概略図であり、図24は、本実施の形態における昇圧コンバータを示す回路図である。
前記実施の形態2に示した3相モータシステムは、鉄道車両に用いることができる。前記実施の形態2における3相モータシステムを用いた鉄道車両を、図25に示す。図25は、実施の形態2の鉄道車両に備えられたコンバータおよびインバータを示す回路図である。
2、3 エピタキシャル層
4 P型ボディ層
4a P型接続層
5 N+型ソース層
6 P+型コンタクト層
7 溝7
8 ゲート絶縁膜
9 ゲート電極
10 層間絶縁膜
11 開口部
12 金属膜
13 ドレイン電極
BP 埋め込みP型層
JD 接合ダイオードJD
Q1 トレンチ型MOSFET
Claims (14)
- 炭化ケイ素を含む第1導電型の半導体基板と、
前記半導体基板上に形成された、炭化ケイ素を含む前記第1導電型のドリフト層と、
前記ドリフト層の上面に形成された複数の溝のそれぞれの内側に、ゲート絶縁膜を介して形成されたゲート電極と、
隣り合う前記複数の溝同士の間の前記ドリフト層の上面に形成された、前記第1導電型のソース層と、
前記ドリフト層内に形成され、前記ソース層の下面と、前記ソース層を挟んで並ぶ前記複数の溝の対向する側壁のうちのいずれか一方とに接する、前記第1導電型とは異なる第2導電型の第1半導体層と、
前記ドリフト層内において、前記複数の溝および前記第1半導体層よりも下に形成された、前記第2導電型の埋め込み半導体層と、
を有し、
前記ゲート電極、前記ソース層および前記ドリフト層は、トレンチ型のMOSFETを構成し、
前記MOSFETは、前記第1半導体層と前記ドリフト層との接合により構成される内蔵ダイオードを有し、
前記ソース層と、隣り合う前記複数の溝同士の間で前記ソース層に接する前記ドリフト層とは、接合ダイオードを構成しており、
前記ソース層、前記第1半導体層、および前記埋め込み半導体層には、前記MOSFETのソース電位が印加される、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記ドリフト層は、第2半導体層と、前記第2半導体層上の第3半導体層とを含む積層構造を有しており、
前記埋め込み半導体層は、前記第2半導体層の上面に形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記接合ダイオードと前記内蔵ダイオードとは、前記MOSFETに対して逆並列に接続されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記接合ダイオードは、前記内蔵ダイオードよりも立ち上がり電圧が低く、かつ低抵抗である、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
平面視において、前記埋め込み半導体層は、隣り合う前記複数の溝同士の間において、前記複数の溝のそれぞれから離間して形成されている、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記接合ダイオードは、前記第1半導体層から拡がる空乏層の動きにより整流効果を奏する、半導体装置。 - 請求項1記載の半導体装置において、
前記埋め込み半導体層は、所定の電位が印加されることで、前記ドリフト層内の電界を緩和する役割を有する、半導体装置。 - (a)炭化ケイ素を含む第1導電型の半導体基板を用意する工程、
(b)前記半導体基板の主面上に、炭化ケイ素を含む前記第1導電型の第2半導体層を形成する工程、
(c)前記第2半導体層の上面に、前記第1導電型とは異なる第2導電型の埋め込み半導体層を形成する工程、
(d)前記(c)工程の後、前記第2半導体層上に、炭化ケイ素を含む前記第1導電型の第3半導体層を形成することで、第2半導体層および第3半導体層を含むドリフト層を形成する工程、
(e)前記(d)工程の後、前記第3半導体層の上面に、前記第2導電型の第1半導体層を複数並べて形成する工程、
(f)前記(d)工程の後、前記第3半導体層の上面に、前記第1導電型のソース層を形成する工程、
(g)前記(e)工程および前記(f)工程の後、前記第3半導体層の上面に、複数の溝を並べて形成する工程、
(h)前記複数の溝のそれぞれの内側に、ゲート絶縁膜を介してゲート電極を形成する工程、
を有し、
前記第1半導体層は、前記ソース層の下面と、前記ソース層を挟んで並ぶ前記複数の溝の対向する側壁のうちのいずれか一方とに接しており、
前記ゲート電極、前記ソース層および前記ドリフト層は、トレンチ型のMOSFETを構成し、
前記MOSFETは、前記第1半導体層と前記ドリフト層との接合により構成される内蔵ダイオードを有し、
前記ソース層と、隣り合う複数の前記溝同士の間において前記ソース層に接する前記ドリフト層とは、接合ダイオードを構成している、半導体装置の製造方法。 - 請求項8記載の半導体装置の製造方法において、
前記接合ダイオードと前記内蔵ダイオードとは、前記MOSFETに対して逆並列に接続されている、半導体装置の製造方法。 - 請求項8記載の半導体装置の製造方法において、
前記接合ダイオードは、前記内蔵ダイオードよりも立ち上がり電圧が低く、かつ低抵抗である、半導体装置の製造方法。 - 請求項8記載の半導体装置の製造方法において、
前記ソース層、前記第1半導体層、および前記埋め込み半導体層には、前記MOSFETのソース電位が印加される、半導体装置の製造方法。 - 請求項1記載の半導体装置を有する、インバータモジュール。
- 請求項1記載の半導体装置を有するインバータモジュールと、
前記インバータモジュール内の前記半導体装置を制御する制御回路と、
を有する、インバータ。 - 請求項1記載の半導体装置を用いたインバータと、
前記インバータからの電力供給を受けて車両を駆動する電動機と、
を備える、鉄道車両。
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