JP6233830B2 - 無電解めっき膜の密着性向上および除去方法とこれを用いたパターニング方法 - Google Patents
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Description
これらの基材上に金属薄膜を作製する方法としては、スパッタリングなど真空装置を用いたプロセスにより銅薄膜を作製し、その後電気めっきにより10μm程度の厚みの膜を作製する方法が一般的である。しかしながら、スパッタリング処理は、高価な真空装置が必要であり、さらに、roll-to-rollなどの大量生産には不向きであるため、このようなスパッタリングに代わる、高価な装置を用いずに金属膜を作製することが可能な技術として、無電解めっきが期待されている。
このような金属膜の作製方法においては、基材と金属膜との密着性を得るため、プラズマ処理や化学的なエッチング処理などの表面処理を予め基材に施すことが一般的であり、特に無電解めっきにおいては、予めこのような表面粗化工程を行わないと、十分な密着性を得ることが難しい。しかしながら、これらの表面粗化処理のうち、プラズマ処理は、スパッタリング処理と同様に、高価な真空装置が必要であり、さらに、roll-to-rollなどの大量生産に不向きである。また、化学的なエッチング処理は、有害な薬品を大量に使用するため、環境負荷が大きく、さらに、基材表面に凹凸が形成されるため、この上に形成される金属膜の平滑性が悪く、電気・光学特性に悪い影響を及ぼすなどの問題がある。
また、配線等の金属パターンの基材上の作製は、基材全面に金属膜を作製後、フォトレジストによりマスクパターンを金属膜上に作製し、エッチングすることにより行われており、上記表面粗化工程と同様に、環境負荷が大きいという問題を有している。
本手法は、さまざまな種類の金属膜に適用することができ、また、大面積処理が可能である。さらに、本手法によれば、最適なマスクを併用することにより、めっき膜の任意の箇所において、選択的に密着強度の向上または溶融・除去を行うことができ、簡潔なプロセスで金属パターンを樹脂基板上に形成することができる。
〈1〉プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、パルス幅35〜7000μsec、パルス強度0.06〜4.33J/cm2のパルス光を照射することを特徴とする、金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。
〈2〉前記パルス光が、パルス幅35〜7000μsec、パルス強度0.06〜4.33J/cm2の光であり、且つプラスチック成形品の表面と金属層との密着性を向上させることができる高強度パルス光であることを特徴とする、〈1〉の方法。
〈3〉前記パルス光が、1回の照射あるいは2回以上の照射によってプラスチック成形品の表面と金属層との密着性を向上させることができる高強度パルス光であることを特徴とする、〈2〉の方法。
〈4〉前記パルス光が、パルス幅35〜7000μsec、パルス強度0.06〜4.33J/cm2の光であり、且つプラスチック成形品の表面上の金属層を除去することができる超高強度パルス光であることを特徴とする、〈1〉の方法。
〈5〉前記パルス光が、1回の照射あるいは2回以上の照射によってプラスチック成形品の表面上の金属層を除去することができる超高強度パルス光であることを特徴とする、〈4〉の方法。
〈6〉プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、当該無電解金属めっきを施したプラスチック成形品に対し、遮光するパターンを有するフォトマスクを設置し、〈2〉または〈3〉に記載の高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面と非遮光部分の金属層との密着性を向上させた後、フォトマスクを外し、遮光部分の金属めっき膜を物理的に剥離することを特徴とする、パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。
〈7〉プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、当該無電解金属めっきを施したプラスチック成形品に対し、遮光するパターンを有するフォトマスクを設置し、〈4〉または〈5〉に記載の超高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の非遮光部分の金属層を除去した後、フォトマスクを外し、〈2〉または〈3〉に記載の高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面と金属層との密着性を向上させることを特徴とする、パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。
〈8〉プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、〈2〉または〈3〉に記載の高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面と金属層との密着性を向上させた後、当該金属層を有するプラスチック成形品に対し、遮光するパターンを有するフォトマスクを設置し、〈4〉または〈5〉に記載の超高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面上の金属層を除去し、フォトマスクを外すことを特徴とする、パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。
〈9〉プラスチック成形品を形成し、その表面上に金属めっきを施し、当該金属めっきを施したプラスチック成形品に対し、遮光するパターンを有するフォトマスクを設置し、〈4〉または〈5〉に記載の超高強度パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面上の金属層を除去した後、フォトマスクを外すことを特徴とする、パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法。
〈10〉前記金属めっき膜の膜厚は、10nm以上2000nm以下であることを特徴とする、〈1〉〜〈8〉に記載の方法。
〈11〉前記プラスチック成形品は、前記高強度パルス光を透過する材料で形成することを特徴とする、〈1〉〜〈8〉に記載の方法。
無電解めっき後、特に何も処理をしないめっき膜(上段、左から二番目の図、以下、未処理無電解めっき膜という)は、そのままでは密着度が弱く、上段の左から一番目の図に示すように、はがれやすい。
ここで、未処理無電解めっき膜に高強度のパルス光を照射すると、密着度が増す(上段左から三番目の図→下段の左図)。
また、未処理無電解めっき膜または高強度のパルス光照射により密着度が増した無電解めっき膜に超高強度のパルス光を照射すると、無電解めっき膜は溶解・除去される(下段左図→右図)。
基材上の無電解メッキ膜の作製は、例えば、特許文献1に記載された方法(ただし、無電解めっき膜作成後の加熱処理は行わない)により行うことができる。
また、本発明において用いられる超高強度パルス光とは、パルス幅35〜7000μsec、パルス強度0.06〜4.33J/cm2の範囲の、基材(プラスチック成形品)の表面上の金属層を除去することができるパルス光を意味する。
例えば、実施例1のPETフィルム上の無電解金めっき膜については、高強度パルス光は、パルス幅 40〜5000μsec、パルスエネルギー 0.49〜4.10J/cm2の範囲内に存在し、超高強度パルス光は、パルス幅 35〜2500μsec、パルスエネルギー 0.68〜4.33J/cm2の範囲内に存在する(図8および表1)。また、実施例2のCOPフィルム上の無電解金めっき膜については、高強度パルス光は、パルス幅 1600あるいは1800μsec、パルスエネルギー 3.05〜3.43J/cm2の範囲内に存在し、超高強度パルス光は、パルス幅 35〜7000μsec、パルスエネルギー 0.124〜4.33J/cm2の範囲内に存在する(図9および表2)。実施例3のPE板上の無電解金めっき膜については、高強度パルス光は、パルス幅 800〜1800μsec、パルスエネルギー 2.78〜4.01J/cm2の範囲内に存在し、超高強度パルス光は、パルス幅 35〜1600μsec、パルスエネルギー 0.873〜4.28J/cm2の範囲内に存在する(図10および表3)。
しかしながら、本発明において本発明者らにより新たに見出された知見によれば、いずれの無電解金属膜および基材を用いた場合でも、上記範囲内においてパルス光のパルス幅およびパルス強度を変更することにより、基材と無電解めっき膜との密着性を向上させることができるパルス光のパルス幅およびパルス強度の範囲が存在し、また、基材の表面上の金属層を除去することができるパルス光のパルス幅およびパルス強度の範囲が存在する。
したがって、当該知見に基づき、当業者は、必要に応じて適宜試験を行うことにより、上記範囲内において、それぞれの金属膜及び基材に応じた適切な高強度パルス光のパルス幅およびパルス強度の範囲、および、超高強度パルス光のパルス幅およびパルス強度の範囲を見出すことができる。
透明なプラスチックフィルム、例えばPETフィルムに市販のレーザープリンタを用いて必要なパターンを印刷したものを用いてもよい。
フォトマスク用金属材料としては、主にステンレス鋼、りん青銅等が用いられ、その厚さは通常50〜300μm程度である。
0.1重量%のトリメチルステアリルアンモニウムクロライド水溶液に厚さ100μmのPETフィルムを浸漬した後、ポリビニルピロリドンにより安定化された白金コロイドに1分間浸漬し、触媒となる白金ナノ粒子をフィルム表面に吸着させた。つぎに、20mM−塩化金(III)酸水溶液(1ml)と0.1M−過酸化水素水溶液(1ml)を混合して得られる無電解金めっき液中に、白金コロイドを付与したポリエチレンテレフタレート(PET)フィルムを加え、時々撹拌しながら25℃、30分間浸漬したのち水洗・乾燥して、外観が金色のPETフィルムを得た。金めっき膜の厚みは重量換算で100nmであり、良好な導電性を示した。このめっき膜はテープ剥離試験により容易にはがれ、十分な密着力が得られない。
短パルス光照射装置(Novacentrix社製Pulseforge3300)により、表1のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 40〜5000μsec、パルスエネルギー 0.49〜4.10J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、300μsec、1.21J/cm2のパルス光を1回照射したところ、テープ剥離試験ではく離を起こさない密着力が得られた。表1のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 35〜2500μsec、パルスエネルギー 0.68〜4.33J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、300μsec、2.06J/cm2のパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。
表1のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 35〜7000μsec、パルスエネルギー 0.025〜3.97J/cm2の範囲内から選択)を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。
図8にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で,厚さ100μmのシクロオレフィンポリマー(COP)フィルムに金めっき膜を作製し、表2のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅1600あるいは1800μsec、パルスエネルギー 3.05〜3.43J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、1800μsec、3.15J/cm2のパルス光を1回照射したところ,テープ剥離試験ではく離を起こさない密着力が得られた。表2のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 35〜7000μsec、パルスエネルギー 0.124〜4.33J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、300μsec、2.06J/cm2のパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表1のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 35〜3000μsec、パルスエネルギー 0.025〜4.05J/cm2の範囲内から選択)を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図9にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で,厚さ2000μmのポリエチレン(PE)板に金めっき膜を作製し、表3のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 800〜1800μsec、パルスエネルギー 2.78〜4.01J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、800μsec、2.78J/cm2のパルス光を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表3のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(パルス幅 35〜1600μsec、パルスエネルギー 0.873〜4.28J/cm2の範囲内から選択)、たとえば、300μsec、2.23J/cm2のパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表3のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図10にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリメチルメタクリレート(PMMA)フィルムに金めっき膜を作製し、表4のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光(たとえば、600μsec、1.16J/cm2)を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表4のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表4のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図11にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリフェニレンサルファイド(PPS)フィルムに金めっき膜を作製し、表5のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表5のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表5のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図12にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリスチレン(PS)フィルムに金めっき膜を作製し、表6のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表6のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表6のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図13にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリフェニレンサルファイド(PPS)フィルム上に作製した銅めっき膜では、表7のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表7のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表7のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図14にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリカーボネート(PC)フィルムに金めっき膜を作製し、表8のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表8のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表8のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図15にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリカーボネート(PC)フィルムに金めっき膜を作製し、表9のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を2回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表9のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を2回照射したところ、めっき膜は除去された。表9のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を2回照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図16にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
実施例1と同様の方法で、厚さ100μmのポリスチレン(PS)フィルムに金めっき膜を作製し、表10のAで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を裏面から1回照射することにより、テープ剥離試験によりはく離を起こさない密着力が得られた。表10のEに示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を1回照射したところ、めっき膜は除去された。表10のPで示すパルス幅、パルスエネルギーのパルス光を照射した場合は、めっき膜は残るものの、テープ剥離試験により容易に剥離し、十分な密着力が得られない。図17にパルス光のパルス幅、パルスエネルギーとパルス光照射後のめっき膜の状態(密着、除去、剥離)を示す。
PETフィルムに実施例1の方法で金めっき膜を作製し、所定パターンをレーザープリンタで印刷したPETフィルムをめっき膜上に載せ、実施例1と同様の条件で、300μsec、1.21J/cm2のパルス光を1回照射したところ、上記パターンによりマスクされパルス光が照射されなかった部分の密着力は低く、マスクを外した後、テープ剥離により、容易にはがすことができ、図6に示す金めっきパターンを得ることができた。
PETフィルムに実施例1の方法で金めっき膜を作製し、実施例11と同様に所定のパターンを印刷したPETフィルムを金めっき膜上に載せ、300μsec、2.79J/cm2のパルス光を1回照射したところ、上記パターンによりマスクされずパルス光が照射された部位のめっき膜は除去された。マスクを外した後、これに、更に300μsec、1.21J/cm2のパルス光を1回照射することにより残っためっき膜の密着性を向上させ、図7に示すパターンを得ることができた。
PETフィルムにスパッタリングにより金薄膜を作製し、実施例1と同様の条件でパルス光を照射したところ、密着性の向上は見られなかった。
実施例1と同様の方法により、PSフィルムに金めっき膜を作製し、100℃、10分間加熱処理した。これにより、金めっき膜の密着強度は向上するが、PSフィルムは変形した。
Claims (4)
- プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、パルス幅35〜7000μsec、パルス強度0.06〜4.33J/cm2の範囲内のパルス光を照射することにより、プラスチック成形品の表面と金属層との密着性を向上させる、金属層を有するプラスチック成形品の製造方法であって、
(1)プラスチックがポリエチテンテレフタレートであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、40μsecのパルス幅および0.493〜0.678J/cm 2 のパルス強度、45μsecのパルス幅および0.471〜0.702J/cm 2 のパルス強度、50μsecのパルス幅および0.457〜0.739J/cm 2 のパルス強度、60μsecのパルス幅および0.505〜0.721J/cm 2 のパルス強度、70μsecのパルス幅および0.544〜0.751J/cm 2 のパルス強度、80μsecのパルス幅および0.583〜0.766J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.532〜0.719J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.614〜0.832J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.57〜0.789J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.573〜0.803J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.511〜0.885J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.588〜0.938J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.622〜1.06J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.53〜0.985J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.582〜1.08J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.585〜1.23J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.696〜1.21J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.711〜1.39J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および0.805〜1.58J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および0.897〜1,28J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.987〜1.41J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および0.89〜1.66J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.02〜1.89J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および0.953〜1.82J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および0.91〜1.59J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.08〜1.9J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.15〜2.02J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.22〜2.13J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および1.16〜2.09J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および1.31〜2.37J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および1.54〜2.77J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および1.85〜3.34/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および1.98〜3.11J/cm 2 のパルス強度、2500μsecのパルス幅および2.18〜3.44J/cm 2 のパルス強度、3000μsecのパルス幅および2.57〜4.05J/cm 2 のパルス強度、3500μsecのパルス幅および3〜4.1J/cm 2 のパルス強度、4000μsecのパルス幅および2.94〜4.1J/cm 2 のパルス強度、4500μsecのパルス幅および3.39〜4.03J/cm 2 のパルス強度、または、5000μsecのパルス幅および3.89J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(2)プラスチックがシクロオレフィンポリマーであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、1600μsecのパルス幅および3.05〜3.43J/cm 2 のパルス強度、または、1800μsecのパルス幅および3.15J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(3)プラスチックがポリエチレンであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、800μsecのパルス幅および2.78J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および3.33J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および3.2J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および3.84J/cm 2 のパルス強度、または、1800μsecのパルス幅および4.01J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(4)プラスチックがポリメチルメタクリレートであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、80μsecのパルス幅および0.717〜0.766J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.669〜0.771J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.774〜0.832J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.868J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.908〜1.14J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および1.03〜1.28J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および1.02〜1.28J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.987〜1.41J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.16〜1.48J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.33〜1.69J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および1.43〜1.82J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および1.59〜2.02J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.9〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.34〜2.28J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.42〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および1.58〜2.38J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および1.79〜2.7J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および2.1〜3.15J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および2.52〜3.8J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および2.7〜4.06J/cm 2 のパルス強度、2500μsecのパルス幅および2.98〜3.94J/cm 2 のパルス強度、3000μsecのパルス幅および3.51〜4.05J/cm 2 のパルス強度、3500μsecのパルス幅および4.1J/cm 2 のパルス強度、または、4000μsecのパルス幅および4.1J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(5)プラスチックがポリフェニレンサルファイドであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、35μsecのパルス幅および0.557〜0.902J/cm 2 のパルス強度、40μsecのパルス幅および0.649〜0.961J/cm 2 のパルス強度、45μsecのパルス幅および0.67〜0.982J/cm 2 のパルス強度、50μsecのパルス幅および0.543〜0.928J/cm 2 のパルス強度、60μsecのパルス幅および0.608〜1.03J/cm 2 のパルス強度、70μsecのパルス幅および0.623〜0.945J/cm 2 のパルス強度、80μsecのパルス幅および0.626〜1.09J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.576〜1.26J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.614〜1.23J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.621〜1.2J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.682〜1.32J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.747〜1.3J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.86〜1.5J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.97〜1.69J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.736〜1.39J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.728〜1.53J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.739〜1.6J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.785〜1.75J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.908〜1.85J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および1.03〜2.09J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および1.14〜2.32J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.987〜2.12J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.16〜2.05J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.33〜2.33J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および1.43〜2.27J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および1.4〜2.52J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.67〜3.01J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.77〜3.2J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.87〜3.38J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および2.09〜3.77J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および2.37〜4.28J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および2.77〜4.01J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および3.34〜4.29J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および3.57〜4.06J/cm 2 のパルス強度、または、2500μsecのパルス幅および3.94J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(6)プラスチックがポリスチレンであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、35μsecのパルス幅および0.351〜0.706J/cm 2 のパルス強度、40μsecのパルス幅および0.38〜0.736J/cm 2 のパルス強度、45μsecのパルス幅および0.352〜0.767J/cm 2 のパルス強度、50μsecのパルス幅および0.355〜0.775J/cm 2 のパルス強度、60μsecのパルス幅および0.357〜0.803J/cm 2 のパルス強度、70μsecのパルス幅および0.405〜0.845J/cm 2 のパルス強度、80μsecのパルス幅および0.395〜0.816J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.451〜0.825J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.395〜0.893J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.433〜0.789J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.388〜0.868J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.461〜0.885J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.53〜0.86J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.597〜0.97J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.415〜0.985J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.45〜1.08J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.516〜1.01J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.615〜1.21J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.624〜1.02J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および0.706〜1.15J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および0.504〜1.28J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.561〜1.26J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および0.564〜1.48J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および0.647〜1.69J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および0.698〜1.82J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および0.775〜2.02J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および0.924〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および0.827〜2.28J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および0.874〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および0.976〜2.69J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および1.11〜3.05J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および1.29〜2.77J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および1.56〜3.34J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および1.66〜3.57J/cm 2 のパルス強度、2500μsecのパルス幅および1.84〜3.94J/cm 2 のパルス強度、3000μsecのパルス幅および2.16〜4.05J/cm 2 のパルス強度、3500μsecのパルス幅および2.53〜4.1J/cm 2 のパルス強度、4000μsecのパルス幅および2.94〜4.1J/cm 2 のパルス強度、4500μsecのパルス幅および3.39〜4.03J/cm 2 のパルス強度、または、5000μsecのパルス幅および3.89J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(7)プラスチックがポリフェニレンサルファイドであり、無電解めっき膜が無電解銅めっき膜であって、パルス光が、35μsecのパルス幅および0.557〜0.902J/cm 2 のパルス強度、40μsecのパルス幅および0.649〜0.961J/cm 2 のパルス強度、45μsecのパルス幅および0.67〜0.982J/cm 2 のパルス強度、50μsecのパルス幅および0.543〜0.928J/cm 2 のパルス強度、60μsecのパルス幅および0.608〜1.03J/cm 2 のパルス強度、70μsecのパルス幅および0.623〜0.945J/cm 2 のパルス強度、80μsecのパルス幅および0.626〜1.09J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.576〜1.26J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.614〜1.23J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.621〜1.2J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.682〜1.32J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.747〜1.3J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.86〜1.5J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.97〜1.69J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.736〜1.39J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.728〜1.53J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.739〜1.6J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.785〜1.75J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.908〜1.85J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および1.03〜2.09J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および1.14〜2.32J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.987〜2.12J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.16〜2.05J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.33〜2.33J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および1.43〜2.27J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および1.4〜2.52J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.67〜3.01J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.77〜3.2J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.87〜3.38J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および2.09〜3.77J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および2.37〜4.28J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および2.77〜4.01J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および3.34〜4.29J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および3.57〜4.06J/cm 2 のパルス強度、または、2500μsecのパルス幅および3.94J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(8)プラスチックがポリカーボネートであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、100μsecのパルス幅および0.614〜0.832J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.621〜0.789J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.682〜0.868J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.747〜1.04J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.716〜1.02J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.808〜1.06J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.897〜1.18J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.986〜1.19J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および1.01〜1.23J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および1.09〜1.33J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および1.26〜1.39J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および1.43J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および1.28〜1.43J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および1.12〜1.57J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.16〜1.66J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.33〜1.89J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および1.1〜2.04J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および1.22〜2.27J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.46〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.55〜2.57J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.64〜2.71J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および1.83〜3.03J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および2.07〜3.43J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および2.42〜4.01J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および2.91〜4.29J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および3.11〜4.06J/cm 2 のパルス強度、2500μsecのパルス幅および3.44〜3.94J/cm 2 のパルス強度、3000μsecのパルス幅および4.05J/cm 2 のパルス強度、または、4000μsecのパルス幅および4.1J/cm 2 のパルス強度を有するか、
(9)プラスチックがポリカーボネートであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、80μsecのパルス幅および0.626〜0.766J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.621〜0.771J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.566〜0.832J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.57〜0.789J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.475〜0.868J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.511〜1.04J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.53〜1.02J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.597〜1.06J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.594〜1.08J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.653〜1.08J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.659〜1.01J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.696〜1.21J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.805〜1.39J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および0.805〜1.43J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および0.788〜1.43J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および0.867〜1.41J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.02〜1.66J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および0.883〜1.89J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および0.953〜1.82J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および0.91〜2.02J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.08〜2.41J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.15〜2.57J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.22〜2.71J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および1.36〜3.03J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および1.54〜3.43J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および1.8〜4.01J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および2.17〜4.29J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および2.32〜4.06J/cm 2 のパルス強度、2500μsecのパルス幅および2.56〜3.94J/cm 2 のパルス強度、3000μsecのパルス幅および3.01〜4.05J/cm 2 のパルス強度、3500μsecのパルス幅および3〜4.1J/cm 2 のパルス強度、4000μsecのパルス幅および3.49〜4.1J/cm 2 のパルス強度、または、4500μsecのパルス幅および4.03J/cm 2 のパルス強度を有し、当該パルス光を2回照射するか、または、
(10)プラスチックがポリスチレンであり、無電解めっき膜が無電解金めっき膜であって、パルス光が、35μsecのパルス幅および0.605〜0.787J/cm 2 のパルス強度、40μsecのパルス幅および0.568〜0.861J/cm 2 のパルス強度、45μsecのパルス幅および0.552〜0.863J/cm 2 のパルス強度、50μsecのパルス幅および0.605〜0.85J/cm 2 のパルス強度、60μsecのパルス幅および0.572〜0.889J/cm 2 のパルス強度、70μsecのパルス幅および0.583〜0.894J/cm 2 のパルス強度、80μsecのパルス幅および0.583〜0.977J/cm 2 のパルス強度、90μsecのパルス幅および0.576〜0.939J/cm 2 のパルス強度、100μsecのパルス幅および0.665〜0.956J/cm 2 のパルス強度、110μsecのパルス幅および0.57〜0.915J/cm 2 のパルス強度、120μsecのパルス幅および0.573〜0.937J/cm 2 のパルス強度、140μsecのパルス幅および0.683〜1.04J/cm 2 のパルス強度、160μsecのパルス幅および0.65〜1.11J/cm 2 のパルス強度、180μsecのパルス幅および0.733〜1.25J/cm 2 のパルス強度、200μsecのパルス幅および0.663〜1.18J/cm 2 のパルス強度、220secのパルス幅および0.728〜1.19J/cm 2 のパルス強度、250μsecのパルス幅および0.824〜1.23J/cm 2 のパルス強度、300μsecのパルス幅および0.785〜1.46J/cm 2 のパルス強度、350μsecのパルス幅および0.805〜1.54J/cm 2 のパルス強度、400μsecのパルス幅および0.912〜1.74J/cm 2 のパルス強度、450μsecのパルス幅および1.02〜1.93J/cm 2 のパルス強度、500μsecのパルス幅および1.12〜2.12J/cm 2 のパルス強度、600μsecのパルス幅および1.16〜1.66J/cm 2 のパルス強度、700μsecのパルス幅および1.33〜1.89J/cm 2 のパルス強度、800μsecのパルス幅および1.26〜2.04J/cm 2 のパルス強度、900μsecのパルス幅および1.4〜2.27J/cm 2 のパルス強度、1000μsecのパルス幅および1.67〜2.7J/cm 2 のパルス強度、1100μsecのパルス幅および1.77〜2.87J/cm 2 のパルス強度、1200μsecのパルス幅および1.87〜3.03J/cm 2 のパルス強度、1400μsecのパルス幅および2.09〜3.39J/cm 2 のパルス強度、1600μsecのパルス幅および2.37〜3.84J/cm 2 のパルス強度、1800μsecのパルス幅および2.77〜4.01J/cm 2 のパルス強度、2000μsecのパルス幅および3.34〜4.29J/cm 2 のパルス強度、2200μsecのパルス幅および3.57〜4.06J/cm 2 のパルス強度、または、2500μsecのパルス幅および3.94J/cm 2 のパルス強度を有し、当該パルス光をポリスチレンの裏面から照射する、
ことを特徴とする、方法。 - プラスチック成形品を形成し、その表面上に無電解金属めっきを施し、当該無電解めっきを施したプラスチック成形品に対し、遮光するパターンを有するフォトマスクを設置し、パルス光を照射することにより上記プラスチック成形品の表面と非遮光部分の金属層との密着性を向上させた後、フォトマスクを外し、遮光部分の金属めっき膜を物理的に剥離することを特徴とする、パターン状の金属層を有するプラスチック成形品の製造方法であって、
請求項1に記載の各種プラスチックと無電解めっき膜の組合せに対し、請求項1に記載の、プラスチック成形品の表面と金属層とが密着するパルス幅およびパルス強度を有するパルス光を照射することを特徴とする方法。 - 前記金属めっき膜の膜厚は、10nm以上2000nm以下であることを特徴とする、請求項1または2に記載の方法。
- 前記プラスチック成形品は、前記パルス光を透過する材料で形成することを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一項に記載の方法。
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