JP6190264B2 - 半導体製造装置 - Google Patents

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Description

本発明の実施形態は、半導体パッケージに電磁波シールドを施す半導体製造装置に関する。
携帯電話やスマートフォン等の携帯通信機器に用いられる半導体装置は、通信特性に悪影響を与えないように、外部への不要な電磁波の漏洩をできるだけ抑える必要がある。このため、電磁波シールド機能を有する半導体パッケージが提案されている。
半導体パッケージの電磁波シールドは、例えば、パッケージの材料である樹脂の表面を電磁波シールド用の金属膜で覆い、この金属膜を半導体パッケージ内の半導体チップのグラウンド層と電気的に接触させることで行われる。
樹脂の表面を金属膜で覆う工程は、半導体プロセスの前工程で用いられるスパッタ装置を用いて行うことができる。スパッタ装置では、複数の半導体パッケージに対して同時に均一な金属膜を形成することができる。したがって、パッケージング処理まで終わった多数の半導体パッケージを搬送キャリア上に載置してスパッタ装置まで搬送し、搬送キャリアごとスパッタ真空チャンバに入れてスパッタ処理を行うことで、作業性を向上できる。
パッケージ済でまだ電磁波シールドを行っていない半導体パッケージは、専用のトレイに入れられて保管されている。一つのトレイには、数十個の半導体パッケージが収納されており、トレイごと搬送キャリアに載置して、スパッタ装置まで搬送すれば、スパッタ処理の効率を向上できる。
トレイには、個々の半導体パッケージを収納するための複数の凹部が設けられている。凹部のサイズは半導体パッケージのサイズに合わせて形成されており、それほど空きスペースはない。また、半導体パッケージの上面だけでなく、側面の全体にわたってスパッタ金属を付着させるために、トレイ内の隣接する凹部同士の壁の高さは低くしている。このため、トレイの各凹部に半導体パッケージを収納する際や、半導体パッケージが収納されたトレイを搬送する際に、凹部から半導体パッケージが飛び出して、壁に乗り上げてしまうことがありうる。この場合、半導体パッケージが斜めに収納されることになり、このままスパッタ装置でスパッタ処理を行うと、スパッタ金属が半導体パッケージの底面側まで付着して、底面のパッドと電気的に短絡してしまうおそれがある。
特開2012−39104号公報
本発明が解決しようとする課題は、信頼性よく電磁波シールドを行うことが可能な半導体製造装置を提供することである。
本実施形態によれば、電磁波シールドを行うべき未シールドの半導体パッケージが搭載されたトレイを搬送キャリアに載置した状態で、前記半導体パッケージの上面よりも上方に配置される上蓋と、
前記上蓋の下面に前記半導体パッケージが接触して前記上蓋が上方に持ち上げられる異常を検出する変位検出部と、を備える半導体製造装置が提供される。
一実施形態による半導体製造装置1の装置概要図。 図1の半導体製造装置1の搬送動作を説明する図。 図2に対応する工程フロー図。 トレイ17を把持するトレイ移送アーム21と上蓋22との位置関係を示す図。 変位センサが異常を検出する一例を示す図。 搬送キャリア15を把持するキャリア移送アーム31と上蓋32との位置関係を示す図。 上蓋22,32を分割構造にする例を示す図。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態における上下方向は、半導体チップが設けられる面を上とした場合の相対方向を示し、重力加速度に応じた上下方向とは異なる場合もありうる。
図1は一実施形態による半導体製造装置1の装置概要図である。図1の半導体製造装置1は、第1ハンドラ11と、第2ハンドラ12と、制御部(搬送制御部)14とを備えている。
第2ハンドラ12は、トレイ収納供給部5からトレイ17を取り出す。第1ハンドラ11は、トレイ17が搭載された搬送キャリア15をスパッタ装置6に引き渡す。また、第1ハンドラ11は、スパッタ装置6が搬出した搬送キャリア15を、第2ハンドラ12の第1搬送台19に乗せる。
第2ハンドラ12は、トレイ収納供給部5から未シールドのICパッケージ(半導体パッケージ)を搭載したトレイ(以下、未シールドのトレイと呼ぶ)を取り出して搬送キャリア15上に乗せる。また、第2ハンドラ12は、シールド済のICパッケージを搭載したトレイ(以下、シールド済のトレイと呼ぶ)を搬送キャリア15から回収してトレイ収納供給部5に収納する。
トレイ収納供給部5には、未シールドのICパッケージを収納するトレイ(以下、未シールドのトレイと呼ぶ)と、シールド済のICパッケージを収納するトレイ(以下、シールド済のトレイと呼ぶ)とが縦積みされて収納されている。第2ハンドラ12は、縦積みされた未シールドのトレイ17を一つずつ取り出して搬送キャリア15に載置する。第2ハンドラ12は、搬送キャリア15上のシールド済のトレイ17を、トレイ収納供給部5内の縦積みされたシールド済のトレイの上に収納する。図1では、トレイ収納供給部5が未シールドのトレイを縦積みしたトレイカセットと、シールド済のトレイを縦積みしたトレイカセットとを有する例を示している。なお、トレイカセットを用いずに、複数のトレイ17を縦積みしてもよい。
各トレイ17は同じサイズであり、一つのトレイ17には、それぞれICパッケージを収納するための複数の凹部が設けられている。隣接する2つの凹部の間には、ICパッケージの高さに対し約半分の高さの壁部が設けられており、トレイ17ごとスパッタ装置6に入れたときに、トレイ内のすべてのICパッケージの上面および側面にスパッタ材料が付着するようにしている。
制御部14は、第1ハンドラ11と第2ハンドラ12との間でのトレイ17および搬送キャリア15の搬送を制御する。より具体的には、制御部14は、搬送キャリア15の現在位置、搬送キャリア15上のトレイの数、スパッタ処理の進捗状況などを制御する。制御部14は、例えばパーソナルコンピュータやワークステーションなどで実現可能である。
図1の例では、搬送キャリア15の上面に4つのトレイ17を載せている。トレイ17の長手方向の長さは搬送キャリア15の短手方向の長さにほぼ一致し、トレイ17の短手方向の長さは搬送キャリア15の長手方向の長さのほぼ1/4である。よって、搬送キャリア15の長手方向に沿って、4つのトレイ17を並べて配置することで、搬送キャリア15の上面のほぼ全面にトレイ17を配置することができ、搬送キャリア15の上面がほとんど露出しなくなる。この状態で、第1ハンドラ11にて搬送キャリア15をスパッタ装置6に渡して、スパッタ装置6でスパッタ処理を行うと、搬送キャリア15の上面にはほとんどスパッタ材料が付着しなくなる。よって、スパッタ処理による搬送キャリア15の上面の汚れを抑制でき、搬送キャリア15を清掃する時間間隔を長くすることができる。
また、スパッタ処理は、複数のトレイ17を単位としてロット処理を行うことが考えられるが、トレイ17の残り枚数によっては、搬送キャリア15の上面の一部にしかトレイ17を配置できないこともありうる。このままでは、搬送キャリア15の汚れが増大してしまうため、トレイ17と同じ形状およびサイズのダミートレイ18を予め用意しておく。搬送キャリア15の上面の一部にしか未シールドのトレイ17を配置できない場合は、空き領域にダミートレイ18を置くようにするのが望ましい。これにより、スパッタ処理すべきトレイ17の枚数によらず、搬送キャリア15の汚れ具合を均一化できる。
なお、トレイ17の形状およびサイズは任意に設定して構わない。ただし、搬送キャリア15の上面ができるだけ露出しないようにトレイ17を配置するのが望ましいため、搬送キャリア15の形状およびサイズに合わせて、トレイ17の形状およびサイズを最適化するのが望ましい。したがって、搬送キャリア15の上面に載せるトレイ17の数も任意に設定可能である。搬送キャリア15の形状およびサイズと、トレイ17の形状およびサイズとに応じて、できるだけ搬送キャリア15の上面が露出しないように、最適な数のトレイ17を搬送キャリア15上に載置するのが望ましい。
また、一つのトレイ17に搭載可能なICパッケージの数には特に制限はない。トレイ17の形状およびサイズと、ICパッケージの形状およびサイズとにより任意に設定すればよい。
図2は図1の半導体製造装置1の搬送動作を説明する図であり、図1を横から見た図である。また、図3は図2に対応する工程フロー図である。まず、第2ハンドラ12は、トレイ収納供給部5から、未シールドのICパッケージが搭載されたトレイ17を取り出して、搬送キャリア15に載せる(ステップS1)。第2ハンドラ12は、不図示のトレイ移送アームにてトレイ17の長手方向両端側を把持して、搬送キャリア15上に載置する。上述したように、搬送キャリア15には例えば4つのトレイ17を載せることができるため、このステップS1の処理は4回連続して行われる。なお、ステップS1の処理を開始するにあたって、搬送キャリア15は、予め第1搬送台19の上に載せておく。
また、第2ハンドラ12は、必要に応じて、ダミートレイ18を搬送キャリア15上に載置する。ダミートレイ18がトレイ収納供給部5とは異なる場所に置かれている場合には、第2ハンドラ12は、トレイ移送アームを二次元方向に動かして、所望のトレイ17またはダミートレイ18を搬送キャリア15上に載置する。
次に、第2ハンドラ12は、第1搬送台19をトレイ収納供給部5の近傍からスパッタ装置6の方向に所定距離移動させる。これにより、未シールドのICパッケージを搭載したトレイ17が載った搬送キャリア15も、第1搬送台19とともに所定距離搬送されることになる。第2ハンドラ12は、第1搬送台19を例えばサーボモータの駆動力を利用して動かす。なお、第1搬送台19と第2搬送台16の駆動方法については特に問わない。
次に、第1ハンドラ11は、搬送キャリア15を持ち上げて、スパッタ装置6への収納が可能になるまで、所定のウェイティング場所20で待機させる(ステップS2)。第1ハンドラ11は、不図示のキャリア移送アームにて搬送キャリア15の短手方向両端側を把持して、搬送キャリア15をウェイティング場所20まで持ち上げる。ウェイティング場所20で搬送キャリア15を待機させるのは、それ以前にスパッタ装置6に送り込まれた搬送キャリア15のスパッタ処理が終わるまではスパッタ装置6内に搬送キャリア15を入れられないためである。したがって、スパッタ装置6がスパッタ処理を行っていない場合は、上述したステップS3の処理は省略することができる。
スパッタ装置6からシールド済の搬送キャリア15が搬出されて、スパッタ装置6への収納が可能になると、第1ハンドラ11は、ウェイティング場所20で待機中の搬送キャリア15をスパッタ装置6用の第2搬送台16まで搬送する(ステップS3)。この場合も、第1ハンドラ11は、キャリア移送アームにて搬送キャリア15の短手方向両端側を把持して、第2搬送台16の上に置く。第2搬送台16は、スパッタ装置6に付属のものであり、第2搬送台16の上に載置された搬送キャリア15は、スパッタ装置6のスパッタ真空チャンバに送り込まれる(ステップS4)。より詳細には、キャリア移送アームにて第2搬送台16上に搬送キャリア15を置くと、第1ハンドラ11はスパッタ装置6に対して、搬送キャリア15を第2搬送台16に置いたことを報知する信号を送信する。この信号を受けたスパッタ装置6は、第2搬送台16をスパッタ真空チャンバ内に引き込んでスパッタ処理を開始する。
スパッタ処理が完了すると、スパッタ真空チャンバから第2搬送台16が搬出されるため(ステップS4)、第1ハンドラ11は、第2搬送台16からキャリア移送アームにて搬送キャリア15を把持して、第1搬送台19まで搬送する(ステップS5)。より詳細には、スパッタ装置6から第2搬送台16が搬出されると、スパッタ装置6がそのことを報知する信号を送信するため、この信号を受信したときに、第1ハンドラ11はキャリア移送アームにて搬送キャリア15を把持して、第1搬送台19の上に載置する。
なお、未シールドのトレイ17を載せた搬送キャリア15を第1搬送台19から持ち上げてウェイティング場所20を経て第2搬送台16まで下ろすキャリア移送アームと、シールド済のトレイ17を載せた搬送キャリア15を第2搬送台16から第1搬送台19まで搬送するキャリア移送アームとは別個に設けられている。よって、ウェイティング場所20で搬送キャリア15を待機させている間に、シールド済のトレイ17を載せた搬送キャリア15を第2搬送台16から第1搬送台19まで搬送でき、作業効率を向上できる。
続いて、第2ハンドラ12は、第1搬送台19をトレイ収納供給部5の方向に所定距離だけ移動させる。これにより、電磁波シールド済のトレイ17を収納する搬送キャリア15も、第1搬送台19とともに所定距離だけ移動することになる。
次に、第2ハンドラ12は、第1搬送台19に載った搬送キャリア15上の各トレイ17をトレイ移送アームにて順に持ち上げて、トレイ収納供給部5に収納する(ステップS6)。このステップS6の処理は、搬送キャリア15上のすべてのトレイ17をトレイ収納供給部5に収納し終わるまで、繰り返し行われる。
スループットを向上するためにスパッタ処理は連続して行われる。例えば、スパッタ装置6内には、例えば3つの搬送キャリア15が収納され、スパッタ処理が終わった搬送キャリア15を一つずつ取り出すとともに、新たな搬送キャリア15を一つずつスパッタ装置6に収納するという作業を並行して行う。より詳細には、同時刻には、第1ハンドラ11のウェイティング場所20と第1搬送台19とにそれぞれ別個の搬送キャリア15が置かれる。これにより、流れ作業で連続的に搬送キャリア15上のトレイ17に搭載された各ICパッケージの電磁波シールドを行うことができる。
図4はトレイ17を把持するトレイ移送アーム(第1アーム)21と上蓋(第1上蓋)22との位置関係を示す図である。トレイ移送アーム21は、第2ハンドラ12に設けられている。トレイ移送アーム21は、第1関節部23を介してトレイ移送アーム基部(第1支持体)24に設けられる。トレイ移送アーム21は、例えば、トレイ17の長手方向の端部を片側2箇所ずつ把持する。よって、トレイ移送アーム21は例えば計4つ設けられる。
トレイ移送アーム基部24は、その略中心部で上下方向に延在する第1軸部材25に移動自在に支持されている。トレイ移送アーム基部24の下面側に上蓋22が設けられる。上蓋22の上面側には複数の突起部26が設けられており、これら突起部26がトレイ移送アーム基部24に上下方向に移動可能な状態で取り付けられる。これら突起部26またはその周辺には、それぞれ変位センサ27が取り付けられている。変位センサ27は、例えばリニアゲージセンサであり、上蓋22の上下方向の変位を検出する。変位センサ27は、トレイ17内のICパッケージ30が上蓋22に接触して上蓋22が持ち上がったことを検出できるものであれば、検出方式は特に問わない。変位センサ27の数には特に制限はないが、例えば、上蓋22の突起部26が上蓋22の四隅と中央部にある場合は、各突起部26ごとに変位センサ27を設けるのが望ましい。
第2ハンドラ12は、トレイ収納供給部5から未シールドのトレイ17を取り出すときに、このトレイ17の長手方向両端部をトレイ移送アーム21で把持する。トレイ移送アーム21がトレイ17の長手方向両端部を把持している状態では、上蓋22は、トレイ17に正しく収納されたICパッケージ30の上面から所定距離だけ上方に配置されるように予め高さ調整をしておく。
ここで、図5に示すように、トレイ17に収納されたICパッケージ30の少なくとも一つがトレイ17の凹部に隣接した壁部28に乗り上げてしまった場合は、ICパッケージ30の上面位置がより高くなり、上蓋22と接触して、上蓋22の少なくとも一部が上方に持ち上がってしまう。この場合、持ち上がった箇所に近い変位センサ27が上蓋22の持ち上がりを検出する。制御部14は、少なくとも一つの変位センサ27が上蓋22の持ち上がりを検出すると、第2ハンドラ12に対して、トレイ17の搬送作業の停止を指示する。
この指示を受けると、第2ハンドラ12は、トレイ移送アーム基部24、トレイ移送アーム21および上蓋22を第1軸部材25に沿って上方に高く待避させて、トレイ17内の各ICパッケージ30の収納位置を検査する。この検査は、例えば作業者の目視により行う。あるいは、トレイ17の外観を撮影して、その撮影画像を正常な撮影画像とパターンマッチングで比較して、収納位置が正しくない、すなわち異常があるICパッケージ30を自動化処理で見つけてもよい。
手動または自動化処理で見つけた収納位置が正しくないICパッケージ30については、作業員が手動で収納し直す。あるいは、例えば別のアーム等を用いて、自動的にICパッケージ30を収納し直してもよい。
図6は搬送キャリア15を把持するキャリア移送アーム(第2アーム)31と上蓋(第2上蓋)32との位置関係を示す図である。キャリア移送アーム31は、第1ハンドラ11に設けられている。キャリア移送アーム31は、第2関節部33を介してキャリア移送アーム基部(第2支持体)34に設けられる。キャリア移送アーム31は、例えば、搬送キャリア15の短手方向の端部を片側2箇所ずつ把持する。よって、キャリア移送アーム31は例えば計4つ設けられる。
キャリア移送アーム基部34は、その中心部で上下方向に延在する第2軸部材35に移動自在に支持されている。キャリア移送アーム基部34の下面側に上蓋32が設けられる。上蓋32とトレイ17との位置関係、および上蓋32の近傍に取り付けられた変位センサ27の機能は図4と同様である。
キャリア移送アーム31で搬送キャリア15を搬送中に変位センサ27が上蓋32の持ち上がりを検出すると、制御部14は、第1ハンドラ11に対して搬送キャリア15の搬送を停止させる。この場合、作業員の目視または自動化処理にて、異常のあるICパッケージ30を見つけて、そのICパッケージ30をトレイ17内の正しい位置に収納し直す。
図4のトレイ移送アーム基部24に接合された上蓋22と変位センサ27は、トレイ17の搬送中における異常を検出し、図6のキャリア移送アーム基部34に接合された上蓋32と変位センサ27は、搬送キャリア15の搬送中における異常を検出する。
図4の上蓋22と図6の上蓋32は、複数のICパッケージ30を覆うように配置されているが、上蓋22,32のサイズには特に制限はない。例えば、図7のように、上蓋22,32を分割構造にして、一つまたは複数のICパッケージ30ごとに、分割上蓋22,32で覆うようにしてもよい。この場合、どのICパッケージ30で収納異常が起きたかを特定しやすくなる。
図1の例では、シールド済のトレイ17を搬送キャリア15から回収してトレイ収納供給部5に収納した後、同じ搬送キャリア15を連続的に使用して別の未シールドのトレイ17の搬送を行っている。搬送キャリア15上には複数のトレイ17が載っているため、搬送キャリア15の上面にスパッタ材料が付着する量は少ないが、同じ搬送キャリア15を連続的に使用すると、その搬送キャリア15の清掃時には、半導体製造装置1自体を停止させなければならない。そこで、複数の搬送キャリア15を収納する不図示のキャリア収納供給部を設けて、シールド済のトレイ17を回収した後の搬送キャリア15をいったんキャリア収納供給部に収納するとともに、別の搬送キャリア15をキャリア収納供給部から取り出して図2と同様の処理を行ってもよい。これにより、キャリア収納供給部に収納されている複数の搬送キャリア15を順繰りに使用することになり、各搬送キャリア15の清掃間隔を格段に長くすることができる。さらには、複数のキャリア収納供給部を設けて、各キャリア収納供給部内のすべての搬送キャリア15を一括で着脱できるようにすれば、一つのキャリア収納供給部内のすべての搬送キャリア15を一括で清掃できるとともに、他のキャリア収納供給部を用いて連続的にスパッタ処理を行うことができ、清掃期間中も半導体製造装置1を停止させなくて済む。
このように、本実施形態では、トレイ17を搬送する際、および搬送キャリア15を搬送する際に、トレイ17の上方に上蓋32を配置するとともに、トレイ17内のICパッケージ30が上蓋32に接触して上蓋32が上方に持ち上がったことを検出する変位センサ27を設けるため、スパッタ装置にトレイ17を入れる前に、トレイ17内のすべてのICパッケージ30を正常な収納位置に収納させることができる。これにより、ICパッケージ30の上面および側面に均一なスパッタ金属を付着させることができるとともに、ICパッケージ30の底面側へのスパッタ金属の付着を防止でき、底面のパッドとスパッタ金属との短絡不良の発生を抑制できる。
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
1 半導体製造装置、11 第1ハンドラ、12 第2ハンドラ、14 制御部、15 搬送キャリア、16 第2搬送台、17 トレイ、18 ダミートレイ、19 第1搬送台、20 ウェイティング場所、21 トレイ移送アーム、22 上蓋、23 第1関節部、24 トレイ移送アーム基部、25 第1軸部材、26 突起部、27 変位センサ、28 壁部、30 ICパッケージ、31 キャリア移送アーム、32 上蓋、33 第2関節部、34 キャリア移送アーム基部、35 第2軸部材

Claims (6)

  1. 電磁波シールドを行うべき未シールドの半導体パッケージを搬送するアームの基部に取り付けられ半導体パッケージの上面よりも上方に配置される上蓋と、
    前記上蓋の下面に前記半導体パッケージが接触して前記上蓋が上方に持ち上げられる異常を検出する変位検出部と、を備え、
    前記上蓋は、トレイ収納供給部から半導体パッケージが搭載されたトレイを取り出して第1搬送台に引き渡すためにトレイを把持する第1アームの基部に取り付けられる第1上蓋と、複数のトレイが搭載された搬送キャリアを第2搬送台に引き渡すために搬送キャリアを把持する第2アームの基部に取り付けられる第2上蓋と、を有する、半導体製造装置。
  2. 前記第1上蓋は、前記第1アームにより前記トレイを把持する際に、前記半導体パッケージの上面から所定間隔を隔てた上方に配置され、
    前記第2上蓋は、前記第2アームにより前記搬送キャリアを把持する際に、前記半導体パッケージの上面から所定間隔を隔てた上方に配置される請求項1に記載の半導体製造装置。
  3. 前記半導体パッケージの上面よりも上方に前記上蓋を配置した状態で前記半導体パッケージを搬送し、搬送途中または搬送待機中に前記変位検出部にて前記異常が検出されると、前記半導体パッケージの搬送を停止する搬送制御部を備える請求項1または2に記載の半導体製造装置。
  4. 前記変位検出部は、前記上蓋の複数箇所のそれぞれに対応づけて設けられ各箇所が持ち上げられる前記異常をそれぞれ検出する複数の変位センサを有する請求項1乃至3のいずれか一項に記載の半導体製造装置。
  5. 前記上蓋は、前記複数の半導体パッケージを少なくとも部分的に覆うように前記複数の半導体パッケージの上面より上方に配置される請求項1乃至4のいずれかに記載の半導体製造装置。
  6. 前記上蓋は、1以上の所定数の前記半導体パッケージの上面の上方にそれぞれ分離して配置される複数の分割上蓋を有する請求項1乃至5のいずれかに記載の半導体製造装置。
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9991276B2 (en) * 2015-09-11 2018-06-05 Toshiba Memory Corporation Semiconductor device
KR20180080794A (ko) * 2017-01-05 2018-07-13 (주)테크윙 전자부품 핸들링 시스템
CN109244016B (zh) * 2018-09-21 2020-03-03 英特尔产品(成都)有限公司 用于检测托盘盖开关机构异常的装置和方法
CN112063979B (zh) * 2019-06-11 2023-12-22 北京北方华创微电子装备有限公司 半导体加工装置及相关磁控溅射装置

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5742168A (en) * 1995-08-04 1998-04-21 Advantest Corporation Test section for use in an IC handler
JPH1058367A (ja) * 1996-08-23 1998-03-03 Advantest Corp Ic搬送装置
US6359253B1 (en) * 2000-07-12 2002-03-19 Advanced Micro Devices, Inc. Unit-in-tray pocket checker
KR100495819B1 (ko) * 2003-06-14 2005-06-16 미래산업 주식회사 반도체 소자 테스트 핸들러의 소자 안착장치
JP2006284384A (ja) * 2005-03-31 2006-10-19 Fujitsu Ltd 半導体装置の試験装置及び試験方法
CN101384913A (zh) * 2006-01-17 2009-03-11 株式会社爱德万测试 电子部件试验装置以及电子部件的试验方法
JP4912080B2 (ja) * 2006-08-16 2012-04-04 株式会社アドバンテスト 電子部品ハンドリング装置およびその運用方法、ならびに試験用トレイおよびプッシャ
US20080315376A1 (en) * 2007-06-19 2008-12-25 Jinbang Tang Conformal EMI shielding with enhanced reliability
KR101187306B1 (ko) * 2007-11-06 2012-10-05 가부시키가이샤 아드반테스트 반송장치 및 전자부품 핸들링 장치
KR100950798B1 (ko) * 2008-03-25 2010-04-02 (주)테크윙 테스트트레이용 인서트 개방유닛 및 이를 이용한반도체소자의 장착방법
KR100877551B1 (ko) * 2008-05-30 2009-01-07 윤점채 전자파 차폐 기능을 갖는 반도체 패키지, 그 제조방법 및 지그
JP4303773B1 (ja) 2008-06-27 2009-07-29 Tdk株式会社 密閉容器の蓋開閉システム及び蓋開閉方法
JP2010238878A (ja) 2009-03-31 2010-10-21 Tokyo Electron Ltd 搬送室
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