JP6173168B2 - レーザー加工装置 - Google Patents

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本発明は、レーザー光線を照射して板状の被加工物を加工するレーザー加工装置に関する。
表面にIC等のデバイスが形成された円盤状のウェーハは、分割予定ライン(ストリート)に沿ってダイシングされ、各デバイスに対応する複数のチップへと分割される(例えば、特許文献1参照)。このチップは、デバイスで発生する熱を効率的に排出できるように、例えば、チップに適合する大きさの放熱板と共に電子機器へと組み込まれる。
放熱板は、ステンレス等の金属板にレーザー光線を照射して、当該金属板を所望のサイズに分断することで形成される。金属板の分断には、例えば、COをレーザー媒質として発振されるレーザー光線が用いられ、照射領域には、金属板を冷却するための冷却媒体が吹き付けられる(例えば、特許文献2参照)。
ウェーハや金属板のような板状の被加工物を加工するレーザー加工装置では、被加工物を貫通したレーザー光線によるチャックテーブルの損傷が問題となる。そこで、近年では、レーザー光線の照射領域に対応して溝を形成することで、チャックテーブルに照射されるレーザー光線のパワーを低減して損傷を抑制する技術が提案されている(例えば、特許文献3参照)。
特開平10−323779号公報 特開2000−61677号公報 特開2013−121598号公報
ところで、金属板やガラス基板等の加工では、非常に大きなパワーのレーザー光線を用いるので、この場合において、チャックテーブルの損傷を適切に抑制するためには、かなり深い溝をチャックテーブルに形成しなくてはならない。しかしながら、このような深い溝をチャックテーブルに形成するのは容易でないため、チャックテーブルに係る費用が大きくなってしまうという問題がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、チャックテーブルに係る費用を抑制可能なレーザー加工装置を提供することである。
本発明によれば、互いに交差する複数の分割予定ラインで区画される板状の被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物の該分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し被加工物を複数のチップに切断するレーザー光線照射手段と、を備えたレーザー加工装置であって、該チャックテーブルは、被加工物の該チップに対応する保持面と、該保持面から裏面までを貫通する第一の吸引路と、を有し、各チップと対になる複数の保持ブロックと、該保持ブロックを支持する支持面と、該支持面から裏面までを貫通し該第一の吸引路に接続する第二の吸引路と、を有する支持基台と、該支持基台が載置される載置面と、負圧源と連通し該支持基台の該第二の吸引路に負圧を伝達する負圧伝達部と、を有するベース部と、を備え、該複数の保持ブロックは、互いに離間するように該支持基台の該チップに対応する位置に着脱自在に装着され、隣接する該保持ブロックの間隔によって被加工物の該分割予定ラインに対応したレーザー光線逃げ溝が形成されることを特徴とするレーザー加工装置が提供される。
本発明において、該保持ブロックの該保持面側には凹部が形成され、該凹部には該保持面から吸着部が突出するように位置付けられた吸着パッドが該第一の吸引路と連通して配設されていることが好ましい。
本発明のレーザー加工装置において、チャックテーブルは、ベース部と、ベース部に載置される支持基台と、支持基台に対して着脱自在に装着される複数の保持ブロックと、を備え、隣接する保持ブロックの間隔によって被加工物の分割予定ラインに対応したレーザー光線逃げ溝が形成されるので、異なる高さの保持ブロックを用いることでレーザー光線逃げ溝の深さを容易に変更できる。
すなわち、深いレーザー光線逃げ溝を形成する場合でも、チャックテーブルに係る費用を抑制できる。また、レーザー光線の照射によって被加工物を保持する保持面を損傷させた場合にも、保持ブロックを交換するだけで保持面を適正な状態に復元できるので、新たなチャックテーブルを用意する場合等と比べてチャックテーブルに係る費用を抑制できる。
レーザー加工装置の構成例を模式的に示す斜視図である。 チャックテーブルの構成例を模式的に示す斜視図である。 チャックテーブルの構成例を模式的に示す分解斜視図である。 保持ブロックの構成例を模式的に示す分解斜視図である。 レーザー加工装置を用いた加工方法の一例を模式的に示す一部断面側面図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の実施の形態について説明する。図1は、本実施の形態に係るレーザー加工装置の構成例を模式的に示す斜視図である。図1に示すように、レーザー加工装置2は、各構成を支持する基台4を備えている。基台4は、基部6と、基部6の後端において立設された柱部8とを含む。
基部6の上面には、板状の被加工物11を吸引保持するチャックテーブル10が配置されている。被加工物11は、例えば、金属、ガラス、半導体等の材料でなる円盤状の板状物であり、互いに交差する複数の分割予定ライン(ストリート)で複数の領域に区画されている。この被加工物11を分割予定ラインに沿って分割することで、複数のチップが得られる。
柱部8の上部には、前方に伸びる支持アーム8aが設けられており、この支持アーム8aの先端部には、チャックテーブル10に保持された被加工物11に向けてレーザー光線を照射するレーザー加工ヘッド(レーザー光線照射手段)12が設置されている。また、レーザー加工ヘッド12と隣接する位置には、被加工物11を撮像する撮像ユニット14が設けられている。
チャックテーブル10の下方には、チャックテーブル10を加工送り方向(X軸方向)に移動させるX軸移動機構(加工送り手段)16が設けられている。X軸移動機構16は、基部6の上面に固定されX軸方向に平行な一対のX軸ガイドレール18を備える。
X軸ガイドレール18には、X軸移動テーブル20がスライド可能に設置されている。X軸移動テーブル20の裏面側(下面側)には、ナット部(不図示)が固定されており、このナット部には、X軸ガイドレール18と平行なX軸ボールネジ22が螺合されている。
X軸ボールネジ22の一端部には、X軸パルスモータ24が連結されている。X軸パルスモータ24でX軸ボールネジ22を回転させれば、X軸移動テーブル20は、X軸ガイドレール18に沿ってX軸方向に移動する。X軸ガイドレール18と隣接する位置には、X軸方向におけるX軸移動テーブル20の位置を検出するためのX軸スケール26が設置されている。
X軸移動テーブル20の表面側(上面側)には、チャックテーブル10を加工送り方向と直交する割り出し送り方向(Y軸方向)に移動させるY軸移動機構(割り出し送り手段)28が設けられている。Y軸移動機構28は、X軸移動テーブル20の上面に固定されY軸方向に平行な一対のY軸ガイドレール30を備える。
Y軸ガイドレール30には、Y軸移動テーブル32がスライド可能に設置されている。Y軸移動テーブル32の裏面側(下面側)には、ナット部(不図示)が固定されており、このナット部には、Y軸ガイドレール30と平行なY軸ボールネジ34が螺合されている。
Y軸ボールネジ34の一端部には、Y軸パルスモータ36が連結されている。Y軸パルスモータ36でY軸ボールネジ34を回転させれば、Y軸移動テーブル32は、Y軸ガイドレール30に沿ってY軸方向に移動する。Y軸ガイドレール30と隣接する位置には、Y軸方向におけるY軸移動テーブル32の位置を検出するためのY軸スケール38が設置されている。
Y軸移動テーブル32の表面側(上面側)には、支持台40が設けられている。支持台40の上部には、チャックテーブル10が配置されている。チャックテーブル10は、支持台40に設けられた回転機構(不図示)と連結されており、Z軸の周りに回転する。
図2は、チャックテーブル10の構成例を模式的に示す斜視図であり、図3は、チャックテーブル10の構成例を模式的に示す分解斜視図である。図2及び図3に示すように、チャックテーブル10は、円盤状のベース部50を備える。
ベース部50の上面50a側には、円形の凹部52(図3)が設けられている。凹部52の底面(載置面)52aには、被加工物11に負圧を作用させるための負圧伝達部54が形成されている。
負圧伝達部54は、ベース部50の上面50aと平行な第1方向D1に伸びる1本の第1溝54aと、ベース部50の上面50aと平行で、第1方向D1と垂直な第2方向D2に伸びる6本の第2溝54bとで構成されている。すなわち、この負圧伝達部54において、第1溝54aと第2溝54bとは互いに直交している。
負圧伝達部54を構成する第1溝54aの中央には、ベース部50の下面50b側に通じる吸引路50cが設けられている。負圧伝達部54は、この吸引路50cを通じて負圧源(不図示)と接続される。
また、凹部52の底面52aには、負圧伝達部54を囲む円環状の溝56が形成されており、負圧伝達部54と溝56との間の領域には、複数のネジ穴58が設けられている。溝56には、ゴム等の材料でなるオーリング60が配置される。
溝56にオーリング60を配置した状態で、凹部52の底面52aには、凹部52の形状に合致する円形の支持基台62が載置される。支持基台62の中央領域には、支持基台62を表面(支持面)62aから裏面62bまで貫通する複数の貫通孔(第二の吸引路)62c(図5参照)が設けられている。複数の貫通孔62cは、負圧伝達部54の第2溝54bに対応して所定の間隔で配置される。
支持基台62の外周部分には、ベース部50の各ネジ穴58に対応する複数の開口64が形成されている。この開口64を通じて各ネジ穴58にネジ66を締め込むことで、支持基台62はベース部50に固定される。支持基台62がベース部50に固定されることで、複数の貫通孔62cは負圧伝達部54に接続される。
支持基台62の表面62a側には、複数の保持ブロック68が配置されている。各保持ブロック68は、支持基台62の貫通孔62cと対応する位置において互いに離間するように配置される。隣接する保持ブロック68の間隔は、例えば、1mm〜2mm程度であるが、必ずしもこれに限定されない。
図4は、保持ブロック68の構成例を模式的に示す分解斜視図である。図4に示すように、保持ブロック68は、外形が直方体状の保持ブロック本体70を備えている。保持ブロック本体70の上面は、被加工物11を保持する保持面70aとなっている。この保持面70aは被加工物11の各チップに対応する位置に当接される。
保持ブロック本体70には、保持ブロック本体70を保持面70aから裏面70bまで貫通する貫通孔(第一の吸引路)70cが形成されている。貫通孔70cの保持面70a側には、吸着パッド72を配置するパッド配置部(凹部)70dが設けられている。吸着パッド72は、ゴム等の材料で構成されており、上端の吸着部72aが保持面70aから僅かに突出するようにパッド配置部70d内に配置される。
吸着パッド72の内部には、吸着パッド72の吸着部72aから下端部72bに通じる流路72cが形成されており、吸着パッド72がパッド配置部70dに配置されることで、流路72cは貫通孔70cに接続される。
貫通孔70cの裏面70b側には、ネジ溝(不図示)が形成されており、保持ブロック68を支持基台62に固定するための固定ネジ74が締め込まれる。支持基台62の表面62a側に保持ブロック68を載置した状態で、支持基台62の貫通孔62cを通じて保持ブロック68の貫通孔70cに固定ネジ74を締め込むことで、保持ブロック68は支持基台62に固定される。
固定ネジ74の内部には、固定ネジ74の上端部74aから下端部74bに通じる流路74cが形成されており、固定ネジ74が保持ブロック68の貫通孔70cに締め込まれると、流路74cは貫通孔70cに接続される。また、保持ブロック68が支持基台62に固定されることで、貫通孔62cと貫通孔70cとが連結される。なお、保持ブロック68は、支持基台62に対して着脱自在である。
このように構成されたチャックテーブル10において、負圧源の負圧は、吸引路50c、負圧伝達部54、貫通孔62c及び貫通孔70c(流路72c,74c)を通じて、保持ブロック68の保持面70a(吸着パッド72の吸着部72a)に作用する。なお、負圧伝達部54の気密性は、オーリング60によって凹部52の底面52aと支持基台62の裏面62bとがシールされることで保たれている。
また、このチャックテーブル10では、隣接する保持ブロック68の間隔によって、被加工物11を貫通したレーザー光線のパワーを低減させるレーザー光線逃げ溝76が形成されている。保持ブロック68は、このレーザー光線逃げ溝76が被加工物11の分割予定ラインに対応して形成されるように、分割後の各チップに対応する位置に固定される。
次に、本実施の形態に係るレーザー加工装置2を用いた加工方法の一例を説明する。図5は、本実施の形態に係るレーザー加工装置2を用いた加工方法の一例を模式的に示す一部断面側面図である。
まず、レーザー加工装置2のチャックテーブル10に被加工物11を吸引保持させる保持ステップを実施する。保持ステップでは、図5(A)に示すように、被加工物11の裏面11b側をチャックテーブル10の保持面70aに対面させて、チャックテーブル10上に被加工物11を載置する。この時、被加工物11の分割予定ラインが、レーザー光線逃げ溝76の上方に位置付けられるようにする。
この状態で、負圧源を作動させると、図5(A)において破線の矢印で示すような負圧が被加工物11の裏面11bに作用して、被加工物11はチャックテーブル10の保持面70aに吸引保持される。なお、吸着パッド72の吸着部72aは、ゴム等の材料で構成されているので、被加工物11を吸引保持させると僅かに変形し、保持面70aと同じ高さに位置付けられる。その結果、被加工物11の裏面11は、保持面70aと接触する(図5(B)参照)。
保持ステップの後には、被加工物11にレーザー光線を照射して複数のチップに分割する分割ステップを実施する。分割ステップでは、まず、X軸移動機構16及びY軸移動機構28でチャックテーブル10を移動させ、被加工物11の分割予定ライン上方にレーザー加工ヘッド12を位置付ける。
次に、図5(B)に示すように、レーザー加工ヘッド12から被加工物11の表面11aに向けてレーザー光線Lを照射させつつ、レーザー加工ヘッド12とチャックテーブル10とを相対移動させる。その結果、被加工物11の分割予定ラインに沿ってレーザー光線Lが照射されて、被加工物11は各チップに分割される。
本実施の形態のチャックテーブル10では、隣接する保持ブロック68の隙間によって、レーザー光線Lのパワーを低減して損傷を抑制するためのレーザー光線逃げ溝76が形成されているので、レーザー光線Lによるチャックテーブル10の損傷を適切に抑制できる。
また、本実施の形態のチャックテーブル10は、保持ブロック68の高さhによってレーザー光線逃げ溝76の深さが決定されるので、異なる高さの保持ブロック68を用いることにより、レーザー光線逃げ溝76の深さを容易に変更できる。
すなわち、深いレーザー光線逃げ溝76を形成する必要がある場合にも、チャックテーブル10に係る費用を抑制できる。なお、レーザー光線逃げ溝76の深さは、使用するレーザー光線Lのパワー等に応じて任意に設定できる。
また、レーザー光線Lの照射によって被加工物11を保持する保持面70aを損傷させた場合にも、損傷した保持ブロック68を交換するだけで保持面70aを適正な状態に復元できるので、新たなチャックテーブル10を用意する場合等と比べてチャックテーブル10に係る費用を抑制できる。
上記実施の形態に係る構成、方法などは、本発明の目的の範囲を逸脱しない限りにおいて適宜変更して実施できる。
2 レーザー加工装置
4 基台
6 基部
8 柱部
8a 支持アーム
10 チャックテーブル
12 レーザー加工ヘッド(レーザー光線照射手段)
14 撮像ユニット
16 X軸移動機構(加工送り手段)
18 X軸ガイドレール
20 X軸移動テーブル
22 X軸ボールネジ
24 X軸パルスモータ
26 X軸スケール
28 Y軸移動機構(割り出し送り手段)
30 Y軸ガイドレール
32 Y軸移動テーブル
34 Y軸ボールネジ
36 Y軸パルスモータ
38 Y軸スケール
40 支持台
50 ベース部
50a 上面
50b 下面
50c 吸引路
52 凹部
52a 底面(載置面)
54 負圧伝達部
54a 第1溝
54b 第2溝
56 溝
58 ネジ穴
60 オーリング
62 支持基台
62a 表面(支持面)
62b 裏面
62c 貫通孔(第二の吸引路)
64 開口
66 ネジ
68 保持ブロック
70 保持ブロック本体
70a 保持面
70b 裏面
70c 貫通孔(第一の吸引路)
70d パッド配置部(凹部)
72 吸着パッド
72a 吸着部
72b 下端部
72c 流路
74 固定ネジ
74a 上端部
74b 下端部
74c 流路
76 レーザー光線逃げ溝
11 被加工物
11a 表面
11b 裏面
D1 第1方向
D2 第2方向

Claims (2)

  1. 互いに交差する複数の分割予定ラインで区画される板状の被加工物を保持面で保持するチャックテーブルと、該チャックテーブルに保持された被加工物の該分割予定ラインに沿ってレーザー光線を照射し被加工物を複数のチップに切断するレーザー光線照射手段と、を備えたレーザー加工装置であって、
    該チャックテーブルは、
    被加工物の該チップに対応する保持面と、該保持面から裏面までを貫通する第一の吸引路と、を有し、各チップと対になる複数の保持ブロックと、
    該保持ブロックを支持する支持面と、該支持面から裏面までを貫通し該第一の吸引路に接続する第二の吸引路と、を有する支持基台と、
    該支持基台が載置される載置面と、負圧源と連通し該支持基台の該第二の吸引路に負圧を伝達する負圧伝達部と、を有するベース部と、を備え、
    該複数の保持ブロックは、
    互いに離間するように該支持基台の該チップに対応する位置に着脱自在に装着され、
    隣接する該保持ブロックの間隔によって被加工物の該分割予定ラインに対応したレーザー光線逃げ溝が形成されることを特徴とするレーザー加工装置。
  2. 該保持ブロックの該保持面側には凹部が形成され、
    該凹部には該保持面から吸着部が突出するように位置付けられた吸着パッドが該第一の吸引路と連通して配設されていることを特徴とする請求項1記載のレーザー加工装置。
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