JP6172203B2 - 回転体のバランス修正装置および回転体のバランス修正方法 - Google Patents
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Description
前記第2加工部分は、前記回転中心から遠い外周側の位置から同回転中心に近い内周側の位置に向けて並ぶ複数の加工部分からなり、前記制御装置は、単位時間当たりの照射エネルギーが一定のレーザーを前記複数の加工部分に照射するものであり、前記レーザーの照射対象が前記複数の加工部分のうちの前記内周側の加工部分であるときほど前記回転体の回転速度を高くすることが好ましい。
以下、回転体のバランス修正装置およびバランス修正方法の第1実施形態について説明する。
図2はバランス修正処理の実行手順を示しており、同図2のフローチャートに示される一連の処理は制御装置50によって実行される。図3は、バランス修正処理の実行手順を示すタイミングチャートである。図4は、タービンホイール14(またはコンプレッサインペラ15)の先端部分におけるレーザーの照射領域を示している。
そして、ステップS111において実行された回転体のバランスの測定結果に基づいて、回転体のバランスの再度の修正が必要であるか否かが判断される(ステップS112)。そして、回転体のバランスの再度の修正が必要であると判断される場合には(ステップS112:YES)、ステップS112において回転体のバランスの再度の修正が不要であると判断されるようになるまで、ステップS110〜S112の処理が繰り返し実行される。この場合には、ステップS110における第1目標照射期間および第2目標照射期間の算出に際して、その算出パラメータとしてステップS111で測定されたアンバランス位相およびアンバランス量が用いられる。
以下、バランス修正処理を通じて回転体のバランスを修正することによる作用について説明する。
以上説明したように、本実施形態によれば、以下に記載する効果が得られる。
以下、回転体のバランス修正装置およびバランス修正方法の第2実施形態について、第1実施形態との相違点を中心に説明する。
図6は上記バランス修正処理の実行手順を示しており、同図6のフローチャートに示される一連の処理は制御装置50によって実行される。なお、再度のバランスの修正にかかる処理以外の処理は、本実施形態のバランス修正処理(図6)と第1実施形態のバランス修正処理(図2参照)とで同一であるため、同一の処理には同一の符号を付して示し、その詳細な説明は割愛する。
(作用)
以下、バランス修正処理を通じて回転体のバランスを修正することによる作用について説明する。
(3)再度の回転体のバランスの修正に際してレーザーの照射によって除去される部分である加工部分として、回転中心Lから遠い外周側の位置から同回転中心Lに近い内周側の位置に向けて並ぶ複数の加工部分(領域S2,S3)を設定した。そして、回転体のバランスの再度の修正に際して、回転中心Lに近い内周側の加工部分にレーザーを照射するときほど、ターボ回転速度を高い速度に調節するようにした。そのため、第2加工部分における各加工部分の除去についての設定を容易に行うことができ、バランスの修正を容易に行うことができる。
なお、上記各実施形態は、以下のように変更して実施してもよい。
・バランス修正処理におけるタービンホイール14の先端部分を一定量だけ除去する処理(ステップS103)やコンプレッサインペラ15の先端部分を一定量だけ除去する処理(ステップS105)においてレーザーを照射する期間は、任意に変更することができる。要は、アンバランス位相を中心とする一定の回転位相範囲にレーザーが照射されるようになる期間であれば、任意の期間を定めることができる。
・バランス修正処理のステップS107においてレーザーの照射によって除去される部分である第1加工部分として、回転中心Lから遠い外周側の位置から同回転中心Lに近い内周側の位置に向けて並ぶ複数の加工部分を設定するようにしてもよい。これにより、加工部分が1つのみ設定される場合と比較して、加工部分を設定可能な領域を広くすることができ、レーザーの照射によって除去可能な除去量の最大値を大きくすることができる。そのため、バランス修正処理の設定の自由度を高くすることができる。
Claims (6)
- 回転体のバランスを測定する測定装置と、前記回転体の表面にレーザーを照射する照射装置と、前記測定装置および前記照射装置の作動を制御する制御装置と、を備え、
前記回転体を回転させた状態で、前記測定装置によって前記バランスを測定した結果に基づき定まる前記回転体の第1加工部分に前記照射装置によってレーザーを照射して同第1加工部分を除去することにより、前記回転体のバランスを修正する回転体のバランス修正装置において、
前記制御装置は、前記第1加工部分を除去した後に、前記回転体のバランスを再度測定し、その測定結果が前記バランスの修正が不十分であるとの結果である場合には、前記第1加工部分の除去時における前記回転体の回転速度よりも低い速度で同回転体を回転させるとともに、前記バランスを再度測定した結果に基づき定まる前記回転体の第2加工部分に前記照射装置によってレーザーを照射して同第2加工部分を除去する
ことを特徴とする回転体のバランス修正装置。 - 請求項1に記載の回転体のバランス修正装置において、
前記照射装置は、前記回転体の回転中心の延伸方向における同回転体の端部にレーザーを照射して、同端部における前記回転中心の周囲を円弧形状に除去するものであり、
前記制御装置は、前記第2加工部分を、前記第1加工部分よりも前記回転中心に近い内周側の位置にする
ことを特徴とする回転体のバランス修正装置。 - 請求項2に記載の回転体のバランス修正装置において、
前記第2加工部分は、前記回転中心から遠い外周側の位置から同回転中心に近い内周側の位置に向けて並ぶ複数の加工部分からなり、
前記制御装置は、単位時間当たりの照射エネルギーが一定のレーザーを前記複数の加工部分に照射するものであり、前記レーザーの照射対象が前記複数の加工部分のうちの前記内周側の加工部分であるときほど前記回転体の回転速度を高くする
ことを特徴とする回転体のバランス修正装置。 - 回転体のバランスを測定する第1測定工程と、
前記第1測定工程によって前記バランスを測定した結果に基づき前記回転体の第1加工部分を定める第1設定工程と、
前記回転体を第1速度で回転させた状態で前記第1加工部分にレーザーを照射して同第1加工部分を除去することにより、前記回転体のバランスを修正する第1修正工程と、
前記第1修正工程の後に、前記回転体のバランスを測定する第2測定工程と、
前記第2測定工程における前記バランスの測定結果が前記第1修正工程における前記回転体のバランスの修正が不十分であることを示す結果である場合に、前記第2測定工程によって前記バランスを測定した結果に基づき前記回転体の第2加工部分を定める第2設定工程と、
前記第1速度よりも低い第2速度で前記回転体を回転させた状態で前記第2加工部分にレーザーを照射して同第2加工部分を除去することにより、前記回転体のバランスを再度修正する第2修正工程と
を含む回転体のバランス修正方法。 - 請求項4に記載の回転体のバランス修正方法において、
前記第1修正工程における前記第1加工部分の除去と前記第2修正工程における前記第2加工部分の除去とを、前記回転体の回転中心の延伸方向における同回転体の端部にレーザーを照射して、同端部における前記回転中心の周囲を円弧形状に除去することにより実行し、
前記第2修正工程において、前記第2加工部分を前記第1加工部分よりも前記回転中心に近い内周側の位置にする
ことを特徴とする回転体のバランス修正方法。 - 請求項5に記載の回転体のバランス修正方法において、
前記第2設定工程では、前記第2加工部分として、前記回転中心から遠い外周側の位置から同回転中心に近い内周側の位置に向けて並ぶ複数の加工部分を定め、
前記第2修正工程では、単位時間当たりの照射エネルギーが一定のレーザーを前記複数の加工部分に照射し、前記レーザーの照射対象が前記複数の加工部分のうちの前記内周側の加工部分であるときほど前記回転体の回転速度を高くする
ことを特徴とする回転体のバランス修正方法。
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