(第1実施形態)
本発明の第1実施形態に係るX線回折測定装置を含むX線回折測定システムの構成について図1乃至図4を用いて説明する。なお、このX線回折測定システムが、先行技術文献の特許文献2に示されているX線回折測定システムと異なっている点は、筐体50の切欠き部壁50cの内面に、標準試料Sとレーザ光出射器68を固定したプレート67を移動させる移動機構60が備えられている点、X線回折測定装置の筐体50における位置と姿勢の調整時に、LED光源からLED光を出射するのに替えてレーザ光出射器68からレーザ光を出射する点、コントローラ91に、設定されたタイミングで標準試料SにX線を照射して回折環を検出するための制御プログラムと、検出した回折環により合否判定および補正の設定を行うプログラムがインストールされている点、およびX線出射器10の出射口11の付近からLED光源を取付けたプレートと該プレートの回転機構が除かれている点であり、それ以外の構成は同一である。よって、特許文献2に示されているX線回折測定システムで既に説明されている箇所は、簡略的に説明するにとどめる。
このX線回折測定システムは、測定対象物OBがある場所までX線回折測定システムを運搬し、測定対象物OBに対するX線回折測定装置の位置と姿勢を調整したうえでX線回折測定を行い、測定対象物OBの残留応力を測定するものである。このX線回折測定システムにより測定対象物OBのX線回折測定をするときは、アーム式移動装置を測定対象物OBの近くに固定し、アーム式移動装置を操作してX線回折測定装置を測定対象物OBの測定ができる位置まで移動させて、測定対象物OBの測定点付近にX線が照射される姿勢にする。次に、出射X線と光軸を同一にしたレーザ光を測定対象物OBに照射し、アーム式移動装置を操作して測定対象物OBにおけるX線照射点と測定対象物OBに対するX線の照射方向が目的とする位置と方向になるとともに、該X線照射点から回折環が形成されるイメージングプレート15までの距離が設定値になるようにする。このとき、コントローラ91に設定されているタイミングであると、コントローラ91の制御により標準試料SにX線が照射され、回折環が検出されて合否判定および補正の再設定が行われる。次に、測定対象物OBへX線を照射してX線回折測定を行う、という順に作業を行う。なお、本第1実施形態では、測定対象物OBは鉄製の部材である。
X線回折測定装置は、筐体50内に、X線出射器10、イメージングプレート15を取り付けるテーブル16、テーブル16を回転及び移動させるテーブル駆動機構20、回折環を検出するレーザ検出装置30、標準試料Sとレーザ光出射器68を固定したプレート67を移動させる移動機構60等を備えている。そして、X線回折測定システムは、このX線回折測定装置とともに、アーム式移動装置(図示しない)、コンピュータ装置90及び高電圧電源95を備える。筐体50内には、上述した装置および機構に接続されて作動制御したり、検出信号を入力したりするための各種回路も内蔵されており、図1において筐体50外に示された2点鎖線で囲われた各種回路は、筐体50内の2点鎖線内に納められている。
筐体50は、略直方体状に形成されるとともに、底面壁50a、前面壁50b、後面壁50e、上面壁50f、右側面壁50g、左側面壁50h、及び底面壁50aと前面壁50bの角部を紙面の表側から裏側に向けて切り欠くように設けた切欠き部壁50cと繋ぎ壁50dを有するように形成されている。切欠き部壁50cは底面壁50aに垂直な平板と平行な平板とからなり、繋ぎ壁50dは側面壁50g,50hと垂直であり、底面壁50aと所定の角度を有している。この所定の角度は、例えば30〜45度である。右側面壁50gには、支持アーム51に接続される接続部(図示せず)が設けられており、接続部は図1及び図2の紙面の垂直周りに回転可能になっている。また、別の表現をすると、後述するX線出射器10から出射されるX線の光軸と後述する結像レンズ48の光軸とを含む平面の法線周りに回転可能になっている。支持アーム51はアーム式移動装置の先端であり、アーム式移動装置を操作することにより、筐体50(X線回折測定装置)を任意の位置と姿勢にすることができる。
X線出射器10は、筐体50内の上部にて図示左右方向に延設されて筐体50に固定されており、高電圧電源95からの高電圧の供給を受け、X線を図示下方向に出射する。X線制御回路71は、コントローラ91から指令が入力すると、X線出射器10から一定強度のX線が出射されるように、X線出射器10に高電圧電源95から供給される駆動電流及び駆動電圧を制御する。また、X線出射器10は、図示しない冷却装置を備えていて、X線制御回路71は、この冷却装置に供給される駆動信号も制御する。
テーブル駆動機構20は、筐体50に固定され、X線出射器10の下方にて移動ステージ21を備えている。移動ステージ21は、テーブル駆動機構20における対向する1対の板状のガイド25,25により挟まれていて、テーブル駆動機構20に固定されたフィードモータ22、スクリューロッド23及び軸受部24により、出射X線の光軸が含まれる筐体50の側面壁50g,50hに平行な平面内であって、出射X線の光軸に垂直な方向に移動する。フィードモータ22内には、エンコーダ22aが組み込まれており、エンコーダ22aはフィードモータ22が所定の微小回転角度だけ回転するたびに、ハイレベルとローレベルとに交互に切り替わるパルス列信号を位置検出回路72及びフィードモータ制御回路73へ出力する。
位置検出回路72及びフィードモータ制御回路73は、コントローラ91からの指令により作動する。測定開始直後において、フィードモータ制御回路73は、移動ステージ21をフィードモータ22側へ移動させるようフィードモータ22に駆動信号を出力し、位置検出回路72は、移動ステージ21が移動限界位置に達して、エンコーダ22aからパルス列信号が入力されなくなると、駆動信号停止を意味する信号をフィードモータ制御回路73に出力し、カウント値を「0」に設定する。フィードモータ制御回路73は、これにより駆動信号の出力を停止する。この移動限界位置が移動ステージ21の原点位置となり、位置検出回路72は、以後、移動ステージ21が移動するごとにエンコーダ22aからのパルス列信号をカウントし、移動方向によりカウント値を加算または減算して移動限界位置からの移動距離xを位置信号として出力する。フィードモータ制御回路73は、コントローラ91から移動ステージ21の移動先位置を入力すると、位置検出回路72から入力する位置信号が入力した移動先位置に等しくなるまで、フィードモータ22を正転又は逆転駆動する。また、フィードモータ制御回路73は、コントローラ91から移動ステージ21の移動速度を入力すると、エンコーダ22aから入力したパルス列信号の単位時間当たりのパルス数を用いて、移動ステージ21の移動速度を計算し、計算した移動速度が入力した移動速度になるようにフィードモータ22を駆動する。
一対のガイド25,25の上端は、板状の上壁26によって連結されており、上壁26には貫通孔26aが設けられていて、貫通孔26aの中心位置はX線出射器10の出射口11の中心位置に対向しており、出射X線は、出射口11及び貫通孔26aを介してテーブル駆動機構20内に入射する。後述するイメージングプレート15が回折環撮像位置にある状態(図1乃至図3の状態)において、移動ステージ21の貫通孔26aと対向する位置には、図3に拡大して示すように、貫通孔21aが形成されている。移動ステージ21には、出射口11及び貫通孔26a,21aの中心軸線位置を回転中心とするスピンドルモータ27が組み付けられており、スピンドルモータ27の出力軸27aは円筒状で断面円形の貫通孔27a1を有する。スピンドルモータ27の出力軸27aの反対側には、貫通孔27bが設けられ、貫通孔27bの内周面上には、貫通孔27bの一部の内径を小さくするための円筒状の通路部材28が固定されている。
また、スピンドルモータ27内にはエンコーダ27cが組み込まれ、エンコーダ27cは、スピンドルモータ27が所定の微小回転角度だけ回転する度に、ハイレベルとローレベルとに交互に切り替わるパルス列信号を、スピンドルモータ制御回路74及び回転角度検出回路75へ出力する。さらに、エンコーダ27cは、スピンドルモータ27が1回転するごとに、所定の短い期間だけローレベルからハイレベルに切り替わるインデックス信号を、コントローラ91及び回転角度検出回路75に出力する。
スピンドルモータ制御回路74は、コントローラ91から回転速度を入力すると、エンコーダ27cから入力するパルス列信号の単位時間当たりのパルス数から計算される回転速度が、入力した回転速度になるように、駆動信号をスピンドルモータ27に出力する。回転角度検出回路75は、エンコーダ27cから入力するパルス列信号のパルス数をカウントし、そのカウント値から回転角度θpを計算してコントローラ91に出力する。また、回転角度検出回路75は、エンコーダ27cからインデックス信号を入力すると、カウント値をリセットして「0」にする。これが回転角度0°の位置である。なお、イメージングプレート15の回転角度0°の位置とは、後述するレーザ検出装置30からのレーザ照射によりイメージングプレート15に形成された回折環を読み取る際、インデックス信号を入力した時点でレーザ光が照射されている位置である。この位置はイメージングプレート15の各半径位置においてあるためラインである。
テーブル16は円形状であり、スピンドルモータ27の出力軸27aの先端部に固定されている。テーブル16は、下面中央部から下方へ突出した突出部17を有し、突出部17の外周面には、ねじ山が形成されている。テーブル16の下面にはイメージングプレート15が取付けられる。イメージングプレート15の中心部には貫通孔15aが設けられていて、この貫通孔15aに突出部17を通し、突出部17の外周面上にナット状の固定具18をねじ込むことにより、イメージングプレート15が、固定具18とテーブル16の間に挟まれて固定される。固定具18は、円筒状の部材で、内周面に、突出部17のねじ山に対応するねじ山が形成されている。
テーブル16、突出部17及び固定具18にも貫通孔16a,17a,18aがそれぞれ設けられており、貫通孔18aの内径は通路部材28の内径と同じである。すなわち、出射X線は、貫通孔26a,21a,通路部材28,貫通孔27b,27a1,16a,17a,18aを介して出射され、通路部材28の内径及び貫通孔18aの内径は小さいので、貫通孔18aから出射されるX線は貫通孔27a1の軸線に平行な平行光となり、筐体50の円形孔50c1から出射される。
イメージングプレート15は、移動ステージ21、スピンドルモータ27及びテーブル16と共に、回折環撮像位置へ移動し、また、後述する撮像した回折環を読み取る回折環読取り領域、及び回折環を消去する回折環消去領域へ移動する。この移動において、イメージングプレート15の中心軸は、出射X線の光軸とイメージングプレート15における回転角度0°の位置(ライン)とが成す平面内に保たれた状態で、出射X線の光軸に垂直な方向に移動する。
レーザ検出装置30は、回折環を撮像したイメージングプレート15にレーザ光を照射し、イメージングプレート15が発光した光の強度を検出する。レーザ検出装置30は、回折環撮像位置にあるイメージングプレート15からフィードモータ22側に充分離れており、測定対象物OBにて回折したX線がレーザ検出装置30によって遮られないようになっている。レーザ検出装置30は、レーザ光源31、コリメートレンズ32、反射鏡33、ダイクロイックミラー34、及び対物レンズ36等を備えた光ヘッドであり、光ディスクの記録再生に用いられるものと同様な構成である。 レーザ駆動回路77は、コントローラ91から指令が入力すると、フォトディテクタ42から入力する信号の強度が所定の強度になるようレーザ光源31に駆動信号を出力し。レーザ光源31からは一定強度のレーザ光が出射される。フォトディテクタ42は後述するダイクロイックミラー34で微量が反射し、集光レンズ41を介して受光したレーザ光の強度に相当する強度の信号を出力するが、ダイクロイックミラー34での反射の割合は一定であるので、出射したレーザ光の強度に相当する強度の信号を出力すると見なせる。コリメートレンズ32はレーザ光を平行光にし、反射鏡33はレーザ光を、ダイクロイックミラー34に向けて反射し、ダイクロイックミラー34は、入射したレーザ光の大半(例えば、95%)をそのまま透過させる。対物レンズ36は、レーザ光をイメージングプレート15の表面に集光させる。対物レンズ36には、フォーカスアクチュエータ37が組み付けられており。後述するフォーカスサーボにより、レーザ光の焦点は常にイメージングプレート15の表面に合致する。
集光されたレーザ光が、イメージングプレート15の回折環が撮像されている部分に照射すると、輝尽発光(Photo−Stimulated Luminesence)現象が生じ、回折環撮像時における回折X線の強度に応じた光が発生する。この輝尽発光により発生した光はレーザ光の波長よりも波長が短く、レーザ光の反射光と共に対物レンズ36を通過するが、ダイクロイックミラー34にて大部分が反射し、レーザ光の反射光は大部分が透過する。ダイクロイックミラー34で反射した光は、集光レンズ38、シリンドリカルレンズ39を介してフォトディテクタ40に入射する。フォトディテクタ40は、4つの同一正方形状の受光素子からなる4分割受光素子からなり、4つの受光信号(a,b,c,d)を増幅回路78に出力する。なお、シリンドリカルレンズ39は非点収差を生じさせるためにある。
増幅回路78は、入力した4つの受光信号(a,b,c,d)を増幅してフォーカスエラー信号生成回路79及びSUM信号生成回路80へ出力する。フォーカスエラー信号生成回路79は、非点収差法におけるフォーカスエラー信号を生成してフォーカスサーボ回路81へ出力する。フォーカスサーボ回路81は、コントローラ91により指令が入力すると作動開始し、入力したフォーカスエラー信号に基づいて、フォーカスサーボ信号を生成してドライブ回路82に出力する。ドライブ回路82は、入力したフォーカスサーボ信号に応じてフォーカスアクチュエータ37を駆動して、対物レンズ36をレーザ光の光軸方向に変位させ、これにより、レーザ光の焦点は常にイメージングプレート15の表面に合致する。
SUM信号生成回路80は、入力した4つの受光信号を合算してSUM信号を生成し、A/D変換回路83に出力する。SUM信号の強度は、イメージングプレート15にて反射し、ダイクロイックミラー34で反射した微量のレーザ光の強度と輝尽発光により発生した光の強度を合わせた強度に相当するが、イメージングプレート15にて反射するレーザ光の強度はほぼ一定であるので、SUM信号の強度は、輝尽発光により発生した光の強度に相当する。すなわち、SUM信号の強度は、撮像された回折環における回折X線の強度に相当する。A/D変換回路83は、コントローラ91から指令が入力すると、入力するSUM信号の瞬時値をデジタルデータに変換してコントローラ91に出力する。
また、対物レンズ36に隣接して、LED光源43が設けられている。LED光源43は、LED駆動回路84によって制御されて、可視光を発して、イメージングプレート15に撮像された回折環を消去する。LED駆動回路84は、コントローラ91から指令を入力すると、LED光源43に、所定の強度の可視光を発生させるための駆動信号を供給する。
また、X線回折測定装置は移動機構60を有する。移動機構60は図4に示すように、フィードモータ61、固定ブロック62、支持部材65,66、プレート67等から構成され、プレート67にはレーザ光出射器68と標準試料Sが固定されている。そして、移動機構60は、プレート67の中心部分に固定されたレーザ光出射器68から出射されるレーザ光の光軸が、X線出射器10から出射されるX線の光軸と一致する位置までプレート67を移動する。図4ではこの位置におけるプレート67は2点鎖線で示されている。また、測定対象物OBにX線を照射するときは、測定対象物OBで発生する回折X線をイメージングプレート15が受光するのを妨害しない位置までプレート67を移動する。この位置は、図4に示されているプレート67が微量だけフィードモータ61側に移動した位置である。なお、プレート67の、レーザ光の光軸が出射X線の光軸と一致する位置までの移動は、標準試料Sに出射X線が照射される位置までの移動でもある。
支持部材65,66は溝が形成された枠体であり、筐体50の切欠き部壁50cの内面に底面が固定されている。支持部材65の溝にはプレート67の第1凸部67aが迎合し、支持部材66の溝には、プレート67の第2凸部67bが迎合している。そして、第1凸部67aに設けられた雌ねじに雄ねじが形成されたスクリューロッド63が螺合しており、スクリューロッド63が回転することでプレート67は支持部材65,66に形成された溝の長尺方向に移動する。スクリューロッド63の一端はフィードモータ61の回転軸に固定され、他端は支持部材65に回転可能に組み付けられている軸受部64の回転軸に固定されている。そして、フィードモータ61は筐体50の切欠き部壁50cの内面に固定された固定ブロック62により固定されている。これにより、フィードモータ61が回転駆動することで、プレート67は移動する。また、フィードモータ61の回転方向を正方向、負方向と変えることで、プレート67は2方向に移動する。
プレート67の中心部分には第3凸部67cが形成され、この第3凸部67cにレーザ光出射器68が固定されている。レーザ光出射器68は小型で下端に開口のある円筒状の筐体内にレーザ光源、コレメーティングレンズを有したものであり、レーザ駆動回路85から駆動信号が入力すると、平行なレーザ光が開口から出射する。そして、レーザ駆動回路85は、コントローラ91からの指令により駆動信号の出力と出力停止を行うので、レーザ光照射はコントローラ91の指令により行われる。
プレート67の第3凸部67cが形成された面の反対側の面には、長方形状の溝が形成され、この溝に標準試料Sが嵌めこまれている。標準試料Sは金属の粉末であり、無応力の試料である。このため標準試料SにX線が照射されたとき、正常であればイメージングプレート15には真円の回折環が形成される。標準試料Sは金属の粉末であるが、平板ガラスの中に封入されたものであるため筐体内で粉末が飛散することはなく、イメージングプレート15等に汚れが発生することはない。
フィードモータ61はフィードモータ制御回路86から駆動信号が入力すると正方向又は負方向の回転駆動がされ、プレート67がフィードモータ61側又は軸受部64側に移動する。フィードモータ制御回路86は、コントローラ91からの回転方向と回転開始の指令により正方向又は負方向の回転駆動のための駆動信号を出力するので、プレート67の移動はコントローラ91の指令により行われる。プレート67は軸受部64側に移動すると、第1凸部67a及び第2凸部67bが支持部材65,66の端部に当たり、移動が停止する。この停止位置が、レーザ光出射器68から出射されるレーザ光の光軸がX線出射器10から出射されるX線の光軸と一致する位置であり、標準試料Sに出射X線が照射される位置である。以下、この位置をA位置という。また、プレート67がフィードモータ61側へ移動すると、第1凸部67a及び第2凸部67bが支持部材65,66の反対側の端部に当たり、移動が停止する。この停止位置が、測定対象物OBで発生する回折X線をイメージングプレート15が受光するのを妨害しない位置である。以下、この位置をB位置という。
フィードモータ61はエンコーダ61aを備えており、エンコーダ61aはフィードモータ61が所定の微小回転角度だけ回転する度に、ハイレベルとローレベルとに交互に切り替わるパルス列信号をフィードモータ制御回路86に出力する。フィードモータ制御回路86は、コントローラ91から回転方向と回転開始の指令が入力されると、フィードモータ61に駆動信号を出力し、エンコーダ61aからパルス列信号の入力が停止すると、駆動信号の出力を停止する。これにより、プレート67が、上述したA位置又はB位置になった時点で、フィードモータ61への駆動信号は停止する。
コントローラ91は上述したように、A位置又はB位置へのプレート67の移動を制御するとともにレーザ光出射器68からのレーザ光の出射を制御する。また、X線制御回路71他、図1において筐体50外に示された2点鎖線で囲われた各種回路への指令も行うので、コントローラ91はプレート67をA位置にし、レーザ光出射器68からレーザ光の出射させたとき、X線出射器10からX線を標準試料Sに照射し、イメージングプレート15に回折環を撮像することができる。このとき、X線は筐体50外には出射されないので筐体50外の漏れX線量は極めて低い。
イメージングプレート15から標準試料SのX線照射点までの距離は、イメージングプレート15から測定対象物OBのX線照射点までの距離に比べて小さいので、標準試料Sが測定対象物OBと同じ元素であると、イメージングプレート15に撮像される回折環は測定対象物OBによる回折環よりも小さくなる。イメージングプレート15の劣化の速さは回折環を撮像する位置が最も大きいので、標準試料Sによる回折環が測定対象物OBによる回折環よりも小さいと、合否判定の精度は悪くなる。また、標準試料Sによる回折環が測定対象物OBによる回折環よりも小さいと、標準試料Sによる回折環を用いた測定対象物OBによる回折環の補正も精度が悪くなる。このため、標準試料Sの元素を測定対象物OBの元素とは異ならせて、標準試料SのX線回折角を測定対象物OBのX線回折角より小さくして、標準試料Sによる回折環が測定対象物OBによる回折環と同じ位置に撮像されるようにする。このためには、標準試料SのX線照射点からイメージングプレート15までの距離Lsが以下の式で定まる距離になるよう、移動機構60とイメージングプレート15の位置関係を設定すればよい。
(数1)
Ls = L0・{tan(180°−2Θ0)/tan(180°−2Θs)}
ここで、L0は予め設定されている測定対象物OBのX線照射点からイメージングプレート15までの距離であり、2Θsは標準試料SのX線回折角であり、2Θ0は測定対象物OBのX線回折角である。なお、表現を変えると、(180°−2Θs)は標準試料Sにおいて発生する回折X線が出射X線に対して成す角度であり、(180°−2Θ0)は測定対象物OBにおいて発生する回折X線が出射X線に対して成す角度である。
例えば、X線出射器10が、電子をぶつけるターゲットがクロムであるX線管を用いた場合、出射されるX線で最も強度が大きいものは、2.291ÅのCrKα線であるが、このX線が鉄製の部材である測定対象物OBに照射されたとき、211面で強い回折が起こり、X線回折角2Θ0は78.2°、発生する回折X線が出射X線に対して成す角度である(180°−2Θ0)は23.6°である。そして、例えば、鉄よりもX線回折角が小さくなる標準試料Sとして銀の粉末を用いたとき、310面で強い回折が起こり、X線回折角2Θsは62.4°、(180°−2Θs)は、55.1°である。この値を上述した式に代入すると、Ls =0.305・L0となるので、標準試料Sに銀の粉末を用いたときは、X線照射点からイメージングプレート15までの距離Lsが、設定されている測定対象物OBのX線照射点からイメージングプレート15までの距離L0の3/10程度になるよう、移動機構60とイメージングプレート15の位置関係を設定すればよい。
筐体50の切欠き部壁50cには結像レンズ48が設けられ、筐体50内部には撮像器49が設けられている。撮像器49は、CCD受光器又はCMOS受光器で構成され、各撮像素子ごとの受光強度に相当する強度の信号をセンサ信号取出回路87に出力する。結像レンズ48及び撮像器49は、図4に示すように小型カメラCmとして一体で取り付けられており、イメージングプレート15に対して設定された位置にある測定対象物OBにおけるLED光の照射点を中心とした領域の画像を撮像するデジタルカメラとして機能する。イメージングプレート15に対して設定された位置とは、測定対象物OBにおけるX線及びレーザ光の照射点からイメージングプレート15までの垂直距離Lが、予め設定された所定距離L0となる位置である。この場合の結像レンズ48及び撮像器49による被写界深度は、前記照射点を中心とした前後の範囲で設定されている。センサ信号取出回路87は、撮像器49の各撮像素子ごとの信号強度データを、各撮像素子の位置(すなわち画素位置)が分かるデータと共にコントローラ91に出力する。
また、結像レンズ48の光軸は、X線出射器10から出射されるX線の光軸とイメージングプレート15の回転基準位置のラインを含む平面に含まれるとともに、この光軸と測定対象物OBに照射されるX線及びレーザ光の光軸が交わる点は、イメージングプレート15に対して設定された位置にある測定対象物OBにおけるX線及びレーザ光の照射点であるように調整されている。さらに、X線及びレーザ光の測定対象物OBに対する入射角度が設定値であるとき、結像レンズ48の光軸と測定対象物OBのX線及びレーザ光の照射点における法線方向とが成す角度は前記入射角度に等しい角度であるようにされている。したがって、測定対象物OBにおけるX線及びレーザ光の照射点がイメージングプレート15に対して設定された距離L0にあり、レーザ光が測定対象物OBに設定された入射角度で照射された場合には、撮影画像におけるレーザ光の照射点と測定対象物OBで反射したレーザ光の受光点は同じ位置に生じる。測定対象物OBに照射されるレーザ光は平行光であるので、照射点において、レーザ光は散乱光と、略平行光のまま反射する反射光を発生させるが、散乱光のうち結像レンズ48に入射した光は撮像器49の位置で結像して照射点の画像となり、結像レンズ48に入射した反射光は結像レンズ48により集光されて撮像器49で受光され、受光点の画像となる。そして、レーザ光の照射点がイメージングプレート15に対して設定された距離L0にあり、レーザ光が測定対象物OBに設定された入射角度で照射されたとき、結像レンズ48に入射する散乱光の光軸と反射光の光軸は、いずれも結像レンズ48の光軸と一致するため、照射点の画像と受光点の画像は同じ位置になる。
コンピュータ装置90は、コントローラ91、入力装置92及び表示装置93からなる。コントローラ91は、CPU、ROM、RAM、大容量記憶装置などを備えたマイクロコンピュータを主要部とした電子制御装置であり、大容量記憶装置に記憶された各種プログラムを実行してX線回折測定装置の作動を制御する。入力装置92は、コントローラ91に接続されて、作業者により、各種パラメータ、作業指示などの入力のために利用される。表示装置93は、表示画面上に撮像器49によって撮像された照射点及び受光点を含む画像に加えて、測定対象物OBの測定箇所に対するX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を適正に設定するためのマークも表示される。さらに、表示装置93は、作業者に対して各種の設定状況、作動状況、測定結果なども視覚的に知らせる。高電圧電源95は、X線出射器10にX線出射のための高電圧及び電流を供給する。
次に、上記のように構成したX線回折測定装置を含むX線回折測定システムを用いて、測定対象物OBに対するX線回折測定装置の位置と姿勢を調整したうえで、測定対象物OBのX線回折測定を行う具体的方法について説明する。なお、X線回折測定装置の位置と姿勢を調整の際、コントローラ91の制御により標準試料SにX線が照射され、標準試料Sによる回折環がイメージングプレート15に形成されて、回折環の形状が検出され、合否判定と補正の再設定がされる場合で説明する。
作業者は、測定対象物OBの近傍にアーム式移動装置を固定し、アーム式移動装置を操作してX線回折測定装置(筐体50)を測定対象物OBの近くまで移動させ、電源を投入してX線回折測定システムを作動させる。この後、X線回折測定は、位置姿勢調整工程S1、回折環撮像工程S2、回折環読取り工程S3,回折環消去工程S4及び残留応力計算工程S5の順に行われるが、位置姿勢調整工程S1と並行して標準試料測定工程S1’が行われる。なお、標準試料測定工程S1’は測定対象物OBに替えて標準試料SをX線回折測定するものであるので、回折環撮像工程S2乃至回折環消去工程S4と同じ事項が実施され、残留応力計算工程S5に替えて合否判定と補正の再設定が行われる。以下、工程ごとに説明を行うが、先行技術文献の特許文献2で既に詳細に説明されている箇所は、簡略的に説明するにとどめる。
位置姿勢調整工程S1は、測定対象物OBに対するX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整する工程である。作業者は、まず、アーム式移動装置を操作し、X線回折測定装置(筐体50)を、おおよそで測定対象物OBにおけるX線の照射点及びX線の入射方向を目的とする測定位置と方向にし、X線の照射点からイメージングプレート15までの距離を設定距離になるようにする。次に作業者は、入力装置92から位置姿勢の調整を行うことを入力する。この入力により、コントローラ91は、各回路に指令を出力し、イメージングプレート15を回折環撮像位置(図1乃至図3の状態)に移動させ、フィードモータ61を駆動させてプレート67をA位置まで移動させ、レーザ光出射器68からレーザ光を出射させる。これにより平行光であるレーザ光が筐体50の円形孔50c1から外部へ出射され、測定対象物OBの目的とする測定位置付近に照射される。さらに、コントローラ91は、撮像器49による撮像信号をセンサ信号取出回路87からコントローラ91に出力させ、この撮像信号から作成したレーザ光の照射位置近傍の画像を表示装置93に表示させる。このとき、表示される画像には、撮像信号によって表示される画像とは独立して、結像レンズ48の光軸が撮像器49と交差する位置に相当する撮影画像上の位置に、十字マークが表示される。
この場合、十字マークのクロス点は表示装置93の画面の中心に位置し、十字マークのX軸方向は画面の横方向に対応し、十字マークのY軸方向は画面の縦方向に対応する。そして、十字マークのクロス点は、レーザ光の照射点からイメージングプレート15までの距離Lが設定値L0であるときに、照射点が撮像される位置であると同時に、距離Lが設定値L0であり、レーザ光が測定対象物OBに設定された入射角度で入射されるとき、受光点が撮像される位置である。また、十字マークのY軸方向がレーザ光及びX線の照射方向であり、この方向を測定対象物OBに投影させた方向が残留垂直応力の測定方向である。
作業者は、表示装置93に表示される画像を見ながら、アーム式移動装置を操作し、測定対象物OBに対するX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整し、画面上におけるレーザ光の照射点が測定対象物OBの目的とする測定位置になるとともに、十字マークのクロス点と合致するようにする。そして、受光点が十字マークのクロス点と合致するようにする。この調整により、X線出射器10から出射されるX線は測定対象物OBの目的とする測定位置に照射され、X線の照射点からイメージングプレート15までの距離は設定値になり、出射X線の測定対象物OBに対する入射角は設定値になる。
位置姿勢調整工程S1が行われるとき、並行して標準試料測定工程S1’が行われる。この工程は、作業者が入力装置92から位置姿勢の調整を行うことを入力したとき、コントローラ91が各回路に指令を出力すると同時に、図5に示すフローのプログラムをスタートさせることにより行われる。このプログラムは、先に標準試料SのX線回折測定を行ってからの経過時間が予め設定された時間を超えているとき、標準試料SのX線回折測定を行い、合否判定と補正の再設定を行うプログラムである。標準試料SのX線回折測定は、作業者がレーザ光の照射点付近の撮影画像を見ながらX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整している間に行われる。以下、図5に示すフローのプログラムに沿って説明する。
ステップS10にてプログラムがスタートすると、ステップS12にて現在の時刻を取り込み。ステップS14にて記憶されている時刻からの経過時間を計算し、ステップS16にて経過時間が予め設定されている設定時間を超えているか判定する。記憶されている時刻は後述するが、先に標準試料SのX線回折測定を行ったときの時刻であるので、経過時間は先に標準試料SのX線回折測定を行ってから経過した時間である。経過時間が設定時間以下である場合はNoと判定してステップS32へ行き、プログラムは終了する。この場合は、標準試料SのX線回折測定は行われない。経過時間が設定時間を超えている場合はYesと判定してステップS18へ行き、表示装置93に「標準試料測定」を表示する。作業者は、表示装置93に同時に表示されているレーザ光の照射点付近の撮影画像を見ながらX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整しているので、「標準試料測定」の表示を見ることで、標準試料SのX線回折測定が行われていることを認識する。作業者はX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了すると、入力装置92から位置姿勢の調整終了を入力し、これによりコントローラ91はレーザ駆動回路85とセンサ信号取出回路87に指令を出力して、レーザ光出射器68のレーザ光出射と撮像信号の出力を停止させるが、表示装置93に「標準試料測定」が表示されている間は、これ以外の指令は出力しないようになっている。すなわち、位置姿勢調整工程S1が終了しても標準試料測定工程S1’が終了するまでは、X線回折測定システムは待ちの状態になる。
次にステップS20にて、コントローラ91は、スピンドルモータ制御回路74を制御して、イメージングプレート15を低速回転させ、エンコーダ27cからインデックス信号を入力した時点で、イメージングプレート15の回転を停止させる。これにより、回折環の読取り時において回転角度0°となる状態で、イメージングプレート15に回折環が撮像されるようになる。イメージングプレート15の回転を停止させると、コントローラ91は、X線制御回路71を制御してX線出射器10にX線の出射を開始させる。これにより、標準試料SにおけるX線照射点で発生した回折X線により、イメージングプレート15に回折環が撮像されていく。そして、所定時間の経過後に、コントローラ91はX線制御回路71を制御してX線出射器10にX線の出射を停止させる。
次にステップS22にて、コントローラ91は、フィードモータ制御回路73を制御して、イメージングプレート15を回折環読取り領域内の読取り開始位置へ移動させる。読取り開始位置とは、レーザ光の照射位置が標準試料Sによる回折環の半径位置に対して若干だけ内側になる位置である。標準試料Sによる回折環の半径Rsは、Rs=Ls・tan(180°−2Θs)の計算式で計算される。2Θsは上述したように標準試料SのX線回折角である。なお、上述したように標準試料Sによる回折環の半径Rsは、測定対象物OBが無応力のときの回折環の半径R0と等しくされているので、L0・tan(180°−2Θ0)の計算式で計算される値と等しい。
イメージングプレート15の移動が終了すると、コントローラ91は、スピンドルモータ制御回路74を制御して、スピンドルモータ27を所定の回転速度で回転させ、レーザ駆動回路77を制御してレーザ検出装置30からレーザ光をイメージングプレート15に照射させ、フォーカスサーボ回路81を制御してフォーカスサーボを開始させる。さらに、回転角度検出回路75を制御して、スピンドルモータ27(イメージングプレート15)の回転角度θpの出力を開始させ、A/D変換回路83を制御して、SUM信号の瞬時値Iのデータ出力を開始させ、フィードモータ制御回路73を制御してフィードモータ22を回転させ、イメージングプレート15を読取り開始位置から図1及び図2の右下方向へ一定速度で移動させる。これにより、レーザ光の照射位置は、相対的にイメージングプレート15上を螺旋状に回転し始める。その後、コントローラ91は、イメージングプレート15が所定の小さな角度だけ回転するごとに、A/D変換回路83が出力するSUM信号の瞬時値Iのデータと、回転角度検出回路75が出力する回転角度θpのデータと位置検出回路72が出力する移動距離xのデータとを入力し、それぞれのデータを対応させて記憶する。なお、移動距離xはレーザ光照射位置の径方向距離r(半径値r)に変換したうえで記憶する。これにより、螺旋状に回転するレーザ光の照射位置に関して、SUM信号の瞬時値I、回転角度θp及び半径値rを表すデータが所定回転角度ごとに順次記憶されていく。
SUM信号の瞬時値I、回転角度θp及び半径値rを表すデータの所定回転角度ごとの記憶動作と並行して、コントローラ91は、回転角度θpごとに半径値rに対するSUM信号の瞬時値Iの曲線を作成し、曲線のピークに対応した半径値rαとSUM信号強度値Iαを記憶する。これは回折環の回転角度αごとに半径方向における回折X線の強度分布を求め、回折X線の強度がピークとなる箇所の半径値rαと回折X線の強度に相当する強度Iαを求める処理である。そして、すべての回転角度θp(回転角度α)において半径値rαと強度Iαを取得し、検出するSUM信号の瞬時値Iが強度Iαに対して充分小さくなった時点で、データの記憶を終了する。これにより、回折環における回折X線の強度に相当する強度の分布が瞬時値I、回転角度θp及び半径値rのデータ群で、および回折環の形状が回転角度αごとの半径値rαで検出されたことになる。その後、コントローラ91は、各回路に指令を出力し、フォーカスサーボを停止させ、レーザ光の照射を停止させ、A/D変換回路83と回転角度検出回路75の作動を停止させ、フィードモータ22の作動を停止させる。なおイメージングプレート15の回転は、継続されている。
次にステップS24にて、コントローラ91は、フィードモータ制御回路73を制御してイメージングプレート15を回折環消去領域内の消去開始位置へ移動させる。このイメージングプレート15の消去開始位置とは、LED光源43から出力されるLED光の中心が標準試料Sによる回折環の半径Rsに対して前記読取り開始位置の場合よりもさらに内側になる位置である。イメージングプレート15の移動が終了すると、コントローラ91は、LED駆動回路84を制御してLED光源43によるLED光をイメージングプレート15に対して照射させ、フィードモータ制御回路73を制御して、イメージングプレート15が前記消去開始位置から消去終了位置まで図1及び図2の右下方向に一定速度で移動するよう、フィードモータ22を回転させる。消去終了位置とは、LED光の中心が、標準試料Sによる回折環の半径Rsよりも前記消去開始位置と同じ程度の距離だけ外側となる位置である。これにより、LED光がイメージングプレート15上に螺旋状に照射され、撮像された回折環が消去される。
イメージングプレート15が消去終了位置になると、コントローラ91は、フィードモータ制御回路73を制御してイメージングプレート15の移動を停止させ、LED駆動回路84を制御してLED光の照射を停止させ、位置検出回路72の作動を停止させ、スピンドルモータ制御回路74を制御してスピンドルモータ27(イメージングプレート15)の回転を停止させる。
コントローラ91は、ステップS24の実行と並行してステップS26乃至ステップS30を実施する。ステップS26乃至ステップS30は、ステップS22にてコントローラ91に記憶された、瞬時値I、回転角度θp及び半径値rのデータ群、および回転角度αごとの半径値rαと強度Iαのデータ群を用いて、コントローラ91内で行われる演算処理である。ステップS26にてコントローラ91は、以下の数値を計算し、すべてが許容値であれば合格と判定し、いずれかが許容値でないときは不合格と判定する。
(1)回折環の真円度
回転角度αごとの半径値rαを(rα・cosα,rα・sinα)によりX,Y座標のデータ群にし、最小2乗法を用いて円の方程式(x−a)2+(x−b)2=r2を計算することで、回折環の中心座標(a,b)を計算する。次に、回折環の中心座標(a,b)から(rα・cosα,rα・sinα)までの距離を以下の式で正規半径値rα’として計算し、半径値rα’の最大値と最小値の差を平均値で除算した値を真円度として計算する。
(数2)
rα’={(rα・cosα − a)2 + (rα・sinα − b)2}1/2
(2)残留応力
正規半径値rα’に対応する回転角度α’は以下の式で計算される。
(数3)
α’ = tan−1{(rα・sinα − b)/(rα・cosα − a)}
これにより回転角度α’ごとの正規の半径値rα’のデータが得られるので、このデータと標準試料SのX線照射点からイメージングプレート15までの距離LsおよびX線の入射角ψ(無応力であるため任意の値でよい)を用いて、cosα法を用いた演算により残留応力を計算する。この計算は公知技術であり、例えば特開2005−241308号公報の〔0026〕〜〔0044〕に詳細に説明されている。
(3)回折環の強度
回転角度αごとの回折環の半径方向におけるピーク強度である強度Iαのデータ群から、平均値Iaveと最小値Iminを計算する。
標準試料Sは無応力試料であるので、回折環の真円度の標準値は0、残留応力の標準値は0である。よって、これらの値の許容値は、0からのずれが許容限界以下の値である。この許容限界は、X線回折測定において必要とする精度および回折環の真円度と残留応力の長期間における変化から定めることができる。また、長期間の使用によりイメージングプレート15が劣化していくと回折環の強度は減少していくので、IaveとIminの許容値は、イメージングプレート15をテーブル16にセットした時点のIaveとIminに1以下の所定係数を乗算した値を許容限界として、これ以上の値である。そして、1以下の所定係数は、IaveとIminの長期間における変化データを得ることで定めることができる。コントローラ91は判定を行うと、判定結果と計算した上記の値を表示装置93に表示する。
次にステップS28にてコントローラ91は、補正の再設定を行う。再設定とは、先の標準試料Sの測定により得られ、記憶されている、回折環の中心(a,b)と回転角度α’ごとの正規の半径値rα’とを消去し、今回の標準試料Sの測定により得られた回折環の中心(a,b)と回転角度α’ごとの正規の半径値rα’を記憶することである。記憶されたこれらの値は、測定対象物OBのX線回折測定により得られる回折環の形状から正規の回折環の形状を補正計算する際に使用される。この補正は、回折環の中心、すなわち出射X線の光軸がイメージングプレート15と交差する点を(a,b)にし、標準試料Sによる回折環の形状が真円からずれている分だけ、測定対象物OBによる回折環の形状を補正するものである。なお、回転軸と出射X線の光軸が一致していれば、出射X線の光軸がイメージングプレート15と交差する点は(0,0)の原点になるが、実際は微妙にずれがあるため、(0,0)から微妙にずれた座標である(a,b)になる。以下に、測定対象物OBのX線回折測定により得られる回折環の形状を、記憶されている回折環の中心(a,b)と回転角度α’ごとの正規の半径値rα’により補正する方法について説明する。
測定対象物OBによる回折環の形状は、標準試料Sの場合と同様に回転角度αごとの半径値rαとして得られる。そして、記憶されている回折環の中心(a,b)、すなわち、出射X線の光軸がイメージングプレート15と交差する点(a,b)からの距離である正規の半径値rα’は上記数2で計算される。そして、正規の半径値rα’に対応する正規の回転角度α’は、上記数3で計算される。データを区別するため、記憶されている標準試料Sによる回折環の形状データは、回転角度αs’ごとの半径値rαs’であり、計算により得られる測定対象物OBによる回折環の形状データは、回転角度α0’ごとの半径値rα0’であるとする。なお、上述したように標準試料Sによる回折環と測定対象物OBによる回折環は、イメージングプレート15上の略同じ位置に形成されるので、回転角度αs’とα0’は同一と見なすことができる。標準試料Sによる回折環が真円で形成される場合の半径値rsα”は、標準試料SのX線回折角2Θsおよび標準試料SのX線照射点からイメージングプレート15までの距離Lsからrαs”=Ls・tan(180°−2Θs)の式で計算される。測定対象物OBによる本来の回折環の半径値をrα0”とすると、標準試料Sによる回折環の形状が真円からずれる分だけ、測定対象物OBによる回折環の形状が本来の形状からずれるということは、rsα”/rsα’の割合と、rs0”/rs0’の割合は等しいということである。よって、測定対象物OBによる本来の回折環の半径値rα0”は、以下の式で計算することができる。
(数4)
rα0” = rs0’・(rsα”/rsα’)
これにより、本来の測定対象物OBによる回折環の形状が、回転角度α0’ごとの半径値rα0”として得られる。
次にステップS30にて、コントローラ91は現在の時刻を記憶する。記憶した時刻は、次に図5のフローのプログラムが実行されたとき、ステップS14にて、先に標準試料SのX線回折測定を行ってから経過した時間を計算するのに用いられる。
上述したように、ステップS26乃至ステップS30は、ステップS24と並行して行われており、コントローラ91内での演算処理である。よって、ステップS24よりもステップS26乃至ステップS30が先に終了するので、コントローラ91はステップS24が終了すると、ステップS32へ行き、表示装置93に表示されている「標準試料測定」を消去する。次にステップS34にて、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了しているか、すなわち、入力装置92から位置姿勢の調整終了が入力されているか判定し、入力されているときはYesと判定してステップS36へ行き、フィードモータ制御回路86に指令してプレート67をB位置まで移動させ、ステップS38にてプログラムを終了する。また、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了していないときは、Noと判定してステップS38へ行き、プログラムを終了する。作業者はX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了したときは、入力装置92から位置姿勢の調整終了を入力するが、このときは、表示装置93には「標準試料測定」は表示されておらず、コントローラ91はレーザ駆動回路85とセンサ信号取出回路87に指令を出力して、レーザ光出射器68のレーザ光出射と撮像信号の出力を停止させるとともに、フィードモータ制御回路86に指令してプレート67をB位置まで移動させる。
位置姿勢調整工程S1と標準試料測定工程S1’が終了すると、測定対象物OBのX線回折測定である回折環撮像工程S2以降の工程が行われる。回折環撮像工程S2において、作業者は入力装置92から測定対象物OBの材質(本第1実施形態では、鉄)を入力し、測定開始を入力する。これにより、コントローラ91は、フィードモータ制御回路73と位置検出回路72に指令を出力し、イメージングプレート15を回折環撮像位置(図1乃至図3の状態)に移動させる。そして、上述した図5のフローのプログラムにおけるステップS20と同様の制御を行い、イメージングプレート15に測定対象物OBによる回折環を撮像する。次にコントローラ91は、回折環読取り工程S3として、上述した図5のフローのプログラムにおけるステップS22と同様の制御を行う。これにより、イメージングプレート15に撮像された回折環における回折X線の強度に相当する強度の分布が瞬時値I、回転角度θp及び半径値rのデータ群で、該回折環の形状が回転角度αごとの半径値rαでコントローラ91に記憶される。次にコントローラ91は、回折環消去工程S4として、上述した図5のフローのプログラムにおけるステップS24と同様の制御を行う。これにより、LED光がイメージングプレート15上に螺旋状に照射され、撮像された回折環が消去される。
コントローラ91は回折環消去工程S4の実行と並行して残留応力計算工程S5を実行する。これは、コントローラ91内で行われる演算処理である。この工程は、まず、上述したように測定対象物OBによる回折環の形状である回転角度α0ごとの半径値rα0を、記憶されている回折環の中心(a,b)と回転角度αs’ごとの正規の半径値rαs’を用いて、本来の回折環の形状である回転角度α0’ごとの半径値rα0”に補正する。次に、回転角度α0’ごとの半径値rα0”のデータ、測定対象物OBのX線照射点からイメージングプレート15までの距離L0およびX線の入射角ψを用いて、cosα法を用いた演算により残留応力を計算する。上述したように、この演算は公知技術であり、例えば特開2005−241308号公報の〔0026〕〜〔0044〕に詳細に説明されている。コントローラ91は残留応力の計算が終了すると、表示装置93に残留応力の計算結果を表示する。なお、残留応力以外に、X線照射点からイメージングプレート15までの距離L0、X線の入射角ψ等の測定条件、回折環の形状曲線(回転角度α0’ごとの半径値rα0”から得られる曲線)、回折環の強度分布画像(瞬時値Iαを明度に換算し、瞬時値Iαに対応する明度、回転角度θp及び半径値rのデータ群から作成される画像)等を表示するようにしてもよい。作業者は結果を見ることで、測定対象物OBの疲労度の評価や、ショットピーニングなどによる加工結果の評価等を行うことができる。
上記説明からも理解できるように、上記第1実施形態においては、対象とする測定対象物OBに向けてX線を出射するX線出射器10と、X線出射器10から測定対象物OBに向けてX線を照射し、測定対象物OBにて発生した回折X線を、X線出射器10から出射されるX線の光軸に対して垂直に交差するイメージングプレート15にて受光し、イメージングプレート15に回折X線の像である回折環を形成するとともに回折環の形状を検出するレーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及び各種回路等からなる回折環形成検出機能と、X線出射器10と回折環形成検出機能とを内部に配置した筐体50とを備えたX線回折測定装置を含むX線回折測定システムにおいて、筐体50内に、X線回折測定により得られる測定値が標準値として値づけされている標準試料Sと、標準試料Sを、X線出射器10から出射されるX線が照射される位置まで移動するとともに、標準試料Sを、測定対象物OBで発生した回折X線がイメージングプレート15にて受光されるとき、受光を妨害しない位置まで移動する移動機構60とを備えている。
これによれば、X線回折測定装置の筐体50内で、移動機構60により標準試料SをX線出射器10から出射されるX線が照射される位置まで移動させれば、標準試料Sに向けてX線を照射してイメージングプレート15、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及び各種回路等からなる回折環形成検出機能により回折環を検出することができるので、測定対象物OBに何ら影響を及ぼすことはない。また、標準試料Sを金属の粉末を平板ガラスの中に封入したものにすれば、粉末が飛散することはないので装置内に汚れが発生することはなく、標準試料Sの粉末を充填する必要もなくなる。
また、上記第1実施形態においては、標準試料Sの元素は測定対象物OBの元素とは異なった元素であり、X線出射器10から出射されるX線における回折角Θsが、測定対象物OBの回折角Θ0より小さい元素にしている。
これによれば、標準試料SはX線回折測定装置の筐体50内に配置されるため、標準試料SのX線照射点からイメージングプレート15までの距離Lsは、測定対象物OBのX線照射点からイメージングプレート15までの距離L0に比べて小さくなるが、筐体50内における標準試料Sの位置を適切に設定することで、標準試料Sによる回折環の径を測定対象物OBによる回折環の径と同程度にすることができる。すなわち、標準試料SのX線回折角を測定対象物OBより小さくすれば、標準試料SにおけるX線出射器10から出射されるX線と回折X線が成す角度(180°−2Θs)は、測定対象物OBにおける同角度(180°−2Θ0)よりも大きくなる。よって、標準試料SのX線照射点からイメージングプレート15までの距離LsをLs=Lo・{tan(180°−2Θ0)/tan(180°−2Θs)}なる式で定まる距離にすれば、標準試料Sによる回折環の径を測定対象物OBによる回折環の径と同一にすることができる。そして、標準試料Sによる回折環の径を測定対象物OBによる回折環の径と同程度にすれば、イメージングプレート15の劣化の速さは回折環を撮像する位置が最も大きいので、標準試料Sによる回折環を用いた合否判定の精度を向上させることができる。また、標準試料Sによる回折環を用いた測定対象物OBによる回折環の補正精度を向上させることもできるので、X線回折測定により得られる測定値の精度を向上させることができる。
また、上記第1実施形態においては、X線出射器10から出射されるX線と出射方向が同一である平行光である可視光を測定対象物OBに出射するレーザ光出射器68と、レーザ光出射器68を固定したプレート67とを備え、標準試料Sは、プレート67のレーザ光出射器68を固定した面とは反対側の面に固定され、移動機構60は、レーザ光の光軸がX線出射器10から出射されるX線の光軸と同一になる位置までプレート67を移動している。
これによれば、移動機構60によりレーザ光の光軸がX線出射器10から出射されるX線の光軸と同一になる位置までプレート67を移動させれば、レーザ光出射器68からレーザ光を照射してX線の照射位置を調整すると同時に標準試料SにX線を照射して回折環を検出することができるので、測定効率を向上させることができる。
また、上記第1実施形態においては、予め設定されたタイミングで、移動機構60を制御して標準試料SをX線出射器10から出射されるX線が照射される位置まで移動し、X線出射器10を制御してX線を出射させるとともに、イメージングプレート15、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及び各種回路等からなる回折環形成検出機能の各種回路を制御して回折環の形状を検出し、検出した回折環の形状から計算される値を用いて、合否判定または補正の設定を行うコントローラ91のプログラムを備えている。
これによれば、コントローラ91のプログラムにより、予め設定されたタイミングで標準試料SにX線が照射され、標準試料Sよる回折環が検出されるので、作業者は標準試料Sの測定を気にすることなく測定対象物OBの測定に集中することができる。なお、上記第1実施形態では予め設定されたタイミングを、先に標準試料Sの測定を行ってからの経過時間としたが、予め設定されたタイミングは適宜定めることができる。例えば、予め設定されたタイミングを、X線回折測定システムの立上げ時、設定された時刻、設定された測定回数実施後、又は測定前の調整時(レーザ光出射時)等で定めてもよい。
(第2実施形態)
上記第1実施形態は、先行技術文献の特許文献2に示されたX線回折測定装置に本発明を適用した形態である。すなわち、回折環形成検出機能が、イメージングプレート15、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及び各種回路等からなるX線回折測定装置に本発明を適用した形態である。しかし、本発明は、先行技術文献の特許文献3に示されたX線回折測定装置にも適用することができる。すなわち、回折環形成検出機能が、平面状に配列された固体撮像素子と固体撮像素子の信号を取り出す回路からなるX線回折測定装置にも本発明を適用することができる。
図6は平面状に配列された固体撮像素子で回折環を検出するX線回折測定装置を含むX線回折測定システムの構成を示した図である。このX線回折測定システムが、上記第1実施形態と異なっている点は、イメージングプレート15の替わりに平面状に配列された固体撮像素子からなるX線撮像器100を取付けたテーブル102を備え、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及びこれらに接続される各種回路を除いた点、X線撮像器100が出力する各固体撮像素子の信号を取り出す撮像信号取出回路106を備える点、テーブル102の中心に出射X線の通路となる円筒状パイプ104を備える点、筐体50の縦方向を小さくし、切欠き部壁50cをなくして、底面壁50aに円形孔50a1を設けた点、筐体50の底面壁50aにはくぼみ50a2を設け、結像レンズ48はくぼみ50a2内に取付けた点、温度センサ108と温度検出回路110を備える点、及び設定されたタイミングに替えて検出された温度により標準試料SのX線回折測定を行うプログラムがコントローラ91にインストールされている点である。以下、上記第1実施形態と異なる箇所を説明する。なお、図6において、上記第1実施形態と同じ構成の箇所には同じ番号が付与されている。
X線撮像器100は受光したX線の強度に相当する強度の信号を出力する固体撮像素子(画素)を平面状に配列させたものである。固体撮像素子は、X線CCD又はX線CMOS等を用いることができるが、受光したX線の強度に相当する強度の信号を出力することができる微小な素子であれば、どのようなものでもよい。X線撮像器100は、回折環を形成するとともに検出する手段と見なすことができる。
テーブル102は上記第1実施形態と同様の円盤状のものであり、測定対象物OBに対向する面にX線撮像器100が取付けられている。テーブル102の中心には、X線出射器10から出射されるX線が通過する円筒状パイプ104が、テーブル102の平面に垂直に固定されている。円筒状パイプ104の両端には、上記第1実施形態の通路部材28と同様のものが固定され、円筒状パイプ104の両端における内径が小さくされている。これにより、円筒状パイプ104から出射するX線は、円筒状パイプ104の中心軸に平行なもののみになり、上記第1実施形態と同様平行なX線が測定対象物OBに照射される。よって、出射X線の光軸は円筒状パイプ104の中心軸であり、テーブル102の平面およびX線撮像器100(回折環の撮像面)に対して垂直になっている。
撮像信号取出回路106はコントローラ91から指令が入力すると作動を開始し、X線撮像器100の各固体撮像素子(画素)から、受光したX線の強度に相当する強度の信号を取り出し、取り出した信号の強度をデジタルデータにして各固体撮像素子の位置がわかるデータとともに、コントローラ91に出力する。よって、X線出射器10から出射されたX線が標準試料Sまたは測定対象物OBに照射されると、X線撮像器100に形成される回折環における回折X線の強度分布データが得られ、コントローラ91内で、X線の出射点から径方向における回折X線の強度曲線のピーク位置を検出する演算処理を行うことで、回折環の形状を検出することができる。
温度センサ108はテーブル102のX線撮像器100が取付けられた面の反対側の面に取付けられており、テーブル102の温度、すなわちX線撮像器100の温度に相当する強度の信号を温度検出回路110に出力する。温度検出回路110はコントローラ91からの指令が入力すると作動を開始し、温度センサ108から入力した信号の強度のデジタルデータをコントローラ91に出力する。
結像レンズ48および撮像器49は、結像レンズ48が底面壁50aのくぼみ50a2に取付けられている点を除いて、上記第1実施形態と同様であり、レーザ光照射点付近の撮像画像データがコントローラ91に出力される。
このように構成されたX線回折測定装置を含むX線回折測定システムを用いて、測定対象物OBのX線回折測定を行うときは、上記第1実施形態と同様に測定対象物OBの近傍にアーム式移動装置を固定し、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整したうえで、測定対象物OBにX線出射器10からのX線を照射し、回折環を検出する。本形態のX線回折測定システムは回折環の撮像と消去は不要であるので、X線回折測定は、位置姿勢調整工程S11、回折環検出工程S12、残留応力計算工程S13の順に行われる。また、位置姿勢調整工程S11と並行して標準試料測定工程S11’が行われる。
位置姿勢調整工程S11は上記第1実施形態と同様であり、作業者は測定対象物OBに対するX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢をおおよそで調整した後、入力装置92から位置姿勢の調整を行うことを入力する。この入力により、コントローラ91はプレート67をA位置まで移動させ、レーザ光出射器68からレーザ光を出射させ、撮像器49による撮像信号をセンサ信号取出回路87から出力させ、レーザ光の照射位置近傍の画像を表示装置93に表示させる。作業者は、表示される画像を見ながら、レーザ光の照射点が測定位置になり、レーザ光の照射点および受光点の画像が十字マークのクロス点と合致するようX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整する。
位置姿勢調整工程S11が行われるとき、並行して標準試料測定工程S11’が行われる。この工程は、作業者が入力装置92から位置姿勢の調整を行うことを入力したとき、コントローラ91が各回路に指令を出力すると同時に、図7に示すフローのプログラムをスタートさせることにより行われる。このプログラムは、先に標準試料SのX線回折測定を行ったときに温度センサ108が検出した温度と、現時点において温度センサ108が検出した温度との差が許容限界を超えているとき、標準試料SのX線回折測定を行い、合否判定と補正の再設定を行うプログラムである。標準試料SのX線回折測定は、上記第1実施形態と同様、作業者がレーザ光の照射点付近の撮影画像を見ながらX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整している間に行われる。以下、図7に示すフローのプログラムに沿って説明する。
ステップS50にてプログラムがスタートすると、ステップS52にて温度検出回路110に指令を出力して温度検出回路110の作動を開始させ、温度センサ108が検出する温度のデジタルデータがコントローラ91入力するようにする。次にステップS54にて入力した温度データTを取り込み、ステップS56にて記憶されている温度データTmと取り込んだ温度データTとの差が許容限界以内であるか否か判定する。記憶されている温度データTmは後述するが、先に標準試料SのX線回折測定を行ったときに検出した温度である。温度データの差が許容限界内である場合はNoと判定してステップS76へ行き、プログラムは終了する。この場合は、標準試料SのX線回折測定は行われない。温度データの差が許容限界を超えている場合はYesと判定してステップS58へ行き、表示装置93に「標準試料測定」を表示する。作業者は、この表示を見ることで標準試料SのX線回折測定が行われていることを認識する。作業者はX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了すると、入力装置92から位置姿勢の調整終了を入力し、これによりコントローラ91はレーザ駆動回路85とセンサ信号取出回路87に指令を出力して、レーザ光出射器68からのレーザ光出射と撮像信号の出力を停止させるが、表示装置93に「標準試料測定」が表示されている間は、これ以外の指令は出力しないようになっている。すなわち、位置姿勢調整工程S11が終了しても標準試料測定工程S11’が終了するまでは、X線回折測定システムは待ちの状態になる。
次にステップS60にて、コントローラ91は、X線制御回路71を制御してX線出射器10にX線の出射を開始させ、撮像信号取出回路106に指令を出力し、撮像器100の各固体撮像素子(画素)から取り出した信号の強度のデジタルデータを出力させ、入力したこのデータを記憶する。これにより、撮像器100に形成される回折環における回折X線の強度分布データがコントローラ91内に記憶される。具体的には、固体撮像素子のX,Y座標と強度Iが対になって記憶される。
そして、コントローラ91は、X線出射点から径方向における回折X線の強度曲線のピーク位置を検出する演算処理を行うことで、回折環の形状を検出する。具体的には、記憶されているX,Y座標をX線出射点を原点としたX,Y座標にし、α=tan−1(Y/X)が同じ値になるデータごとにデータ群を作成し、データ群ごとに半径r=(X2+Y2)1/2と強度Iの関係曲線を作成して、強度Iがピークとなる位置の半径rと強度Iを、半径rα、強度Iαとして取得する。これにより、上記第1実施形態と同様のデータが得られる。
次にステップS62にて、コントローラ91は、ステップS60にて得られた回転角度αごとの半径rαと強度Iαを用いて、上記第1実施形態と同様の計算を行い、回折環の真円度、残留応力、回折環の強度を計算する。そして、上記第1実施形態と同様に計算された値が許容値であるか否かにより、すなわち、回折環の真円度および残留応力は、予め設定されている許容限界以下であるか否か、回折環の強度は予め設定されている許容限界以上であるか否かより合否判定を行う。次にステップS64にて、コントローラ91は補正の再設定を行う。これも上記第1実施形態と同様である。
次にステップS66にて、コントローラ91は入力した温度データTmを取り込み、記憶する。記憶した温度Tmは、次に図7のフローのプログラムが実行されたとき、ステップS56にて、温度データの差が許容限界内か否かを判定するのに用いられる。次にステップS68にて、温度検出回路110に指令を出力して作動を停止させ、ステップS70にて、表示装置93に表示されている「標準試料測定」を消去する。次にステップS72にて、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了しているか、すなわち、入力装置92から位置姿勢の調整終了が入力されているか判定し、入力されているときはYesと判定してステップS74へ行き、フィードモータ制御回路86に指令してプレート67をB位置まで移動させ、ステップS76にてプログラムを終了する。また、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了していないときは、Noと判定してステップS76へ行き、プログラムを終了する。作業者はX線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢の調整が終了したときは、入力装置92から位置姿勢の調整終了を入力するが、このときは、表示装置93には「標準試料測定」は表示されておらず、コントローラ91はレーザ駆動回路85とセンサ信号取出回路87に指令を出力して、レーザ光出射器68からのレーザ光出射と撮像信号の出力を停止させるとともに、フィードモータ制御回路86に指令してプレート67をB位置まで移動させる。
位置姿勢調整工程S11と標準試料測定工程S11’が終了すると、測定対象物OBのX線回折測定である回折環検出工程S12以降の工程が行われる。回折環検出工程S12において、作業者は入力装置92から測定対象物OBの材質(本第1実施形態では、鉄)を入力し、測定開始を入力する。これにより、コントローラ91は、上述した図7のフローのプログラムにおけるステップS60と同様の制御を行い、回折環における回折X線の強度に相当する強度の分布がX,Y座標と強度Iのデータ群で、該回折環の形状が回転角度αごとの半径値rαでコントローラ91に記憶される。次にコントローラ91は、残留応力計算工程S13を実行する。これは、コントローラ91内で行われる演算処理であり、上記第1実施形態の残留応力計算工程S5と同様の処理である。
上記説明からも理解できるように、上記第2実施形態は、回折環の形成と検出を平面状に配列された固体撮像素子からなるX線撮像器100を用いて行うX線回折測定装置に本発明を適用した形態であり、標準試料Sおよびレーザ光出射器68を移動する移動機構60は、上記第1実施形態と同じである。よって、上記第1実施形態における本発明の効果は、上記第2実施形態でもそのまま成り立つ。特に、平面状に配列された固体撮像素子からなるX線撮像器100は、装置の温度が上昇すると熱膨張が発生し、検出する回折環の位置および形状が変化するため、高い頻度で標準試料Sを測定する必要があり、X線回折測定装置の筐体50の位置と姿勢の調整と並行して標準試料Sを測定できる機能は、測定効率向上の点で上記第1実施形態よりも大きな効果が得られる。
また、上記第2実施形態においては、X線回折測定装置の筐体50内に配置された温度センサ108と、移動機構60を制御して標準試料SをX線出射器10から出射されるX線が照射される位置まで移動し、X線出射器10を制御してX線を出射させるとともにX線撮像器100及び撮像信号取出回路106からなる回折環形成検出機能を制御して回折環の形状を検出し、検出した回折環の形状から計算される値を用いて、合否判定または補正の設定を行うコントローラ91のプログラムと、該プログラムに実行を指令するコントローラ91の別のプログラムであって、実行を指令したときの温度センサ108が検出した温度を記憶し、温度センサ108が検出した温度の記憶した温度からのずれが予め設定された許容値を超えたとき、実行を指令する別のプログラムを備えている。
これによれば、X線回折測定装置が固体撮像素子を配列させたX線撮像器100により回折環を検出する装置である場合、X線撮像器100は温度変化の影響を大きく受けるため、標準試料SのX線回折測定の頻度を大きくする必要があるが、温度が許容値以上に変化したときのみ、標準試料SのX線回折測定が行われ、標準試料Sよる回折環が検出されるので、測定効率を向上させることができる。また、この場合も作業者は標準試料Sの測定を気にすることなく測定対象物OBの測定に集中することができる。
(第3実施形態)
上述したように、本発明は、回折環形成検出機能が、イメージングプレート15、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及び各種回路等からなるX線回折測定装置である場合でも、回折環形成検出機能が、平面状に配列された固体撮像素子と固体撮像素子の信号を取り出す回路からなるX線回折測定装置である場合でも適用することができる。しかし、本発明はこれ以外にも、回折環形成検出機能が、X線強度を検出するセンサを位置を検出しながら走査するX線回折測定装置である場合でも適用することができる。
図8は、X線強度を検出するセンサを位置を検出しながら走査して回折環を検出するX線回折測定装置の構造を示した図である。このX線回折測定装置が、上記第1実施形態と異なっている点は、イメージングプレート15、テーブル16の替わりにX線検出センサを走査する機構とこの機構に接続される各種回路を備え、レーザ検出装置30、テーブル駆動機構20及びこれらに接続される各種回路を除いた点、X線検出センサが出力する信号の強度をデジタルデータにして出力するX線強度検出回路を備える点である。以下、上記第1実施形態と異なる箇所を説明する。なお、図8においても、上記第1実施形態と同じ構成の箇所には同じ番号が付与されている。
センサ移動機構220は、移動ステージ221を備え、ステージ221は、フィードモータ222、スクリューロッド223及び軸受部224により、後述する回転モータ27の回転軸の垂直方向に移動可能になっている。移動ステージ221には、X線検出センサ215,216が取り付けられており、取り付け位置は、出射X線の光軸に対してそれぞれが反対側の位置であり、移動ステージ221が移動したとき、X線検出センサ215,216の中心点が移動するラインが、X線出射器10から出射されるX線の光軸と交わる位置である。
センサ移動機構220には、上記第1実施形態のテーブル駆動機構20と同様に、板状の上壁226によって連結された一対のガイド225,225があり、移動ステージ221は一対のガイド225,225に挟まれて一定の方向のみに移動する。上壁226には孔が開けられていて、孔には上記第2実施形態と同様の円筒状パイプ204が挿入され、板状の上壁226の面に端部を合わせて固定されている。円筒状パイプ204は中心軸が板状の上壁226の面に垂直であり、X線出射器10から出射されたX線が通過する経路であり、上記第2実施形態と同様、円筒状パイプ204の先端からは、円筒状パイプ204の中心軸が光軸である平行なX線が出射される。
移動ステージ221は、出射X線の光軸方向から見ると、直方体状であるとともに直方体状の穴が形成されている。そして、直方体状の穴は円筒状パイプ204を囲むようなっている。フィードモータ222の回転駆動により移転ステージ221は、直方体状の穴の端部が円筒状パイプ204の近傍になる位置から、直方体状の穴の反対側の端部が円筒状パイプ204の近傍になる位置まで移動する。また、フィードモータ222の正回転、逆回転駆動により、図8の左右両方向に移動する。これにより、X線検出センサ215,216は、それぞれが出射X線の光軸に垂直な方向に、出射X線の光軸の近傍位置から所定の距離移動する。すなわち、形成される回折環の半径方向に、出射X線の光軸の近傍位置から所定の半径位置まで移動する。
X線検出センサ215,216は、X線の強度を精度よく検出することができれば、どのようなものであってもよく、例えば、シンチレータから出た蛍光を、光電子増倍管(PMT)で検出するシンチレーションカウンタを用いることができる。X線検出センサ215,216はX線強度検出回路に接続され、X線検出センサ215,216が出力する信号の強度のデジタルデータがコントローラ91に出力されるようになっている。
フィードモータ222は、上記第1実施形態と同様、フィードモータ制御回路からの駆動信号により駆動し、内部に組み込まれたエンコーダ222aからパルス列信号がフィードモータ制御回路と位置検出回路に出力するようになっている。そして、移動ステージ221の移動位置は位置検出回路からフィードモータ制御回路とコントローラ91に出力するようになっている。よって、上記第1実施形態と同様、移動ステージ221はコントローラ91からの指令により指定された位置への移動と指定された速度での移動が行われる。また、移動ステージ221の移動位置をコントローラ91が検出できるようになっている。
センサ移動機構220は回転モータ227の出力軸227aに接続されており、回転モータ227の回転軸と円筒状パイプ204の中心軸は一致している。よって、上記第1実施形態と同様、出射X線の光軸周りに回転が行われる。また、回転モータ227の出力軸227aと出力軸227aの反対側には、上記第1実施形態と同様、貫通孔が形成され、この貫通孔に通路部材が固定されており、出射X線は通路部材と貫通孔を介して円筒状パイプ204内に入射するようになっている。回転モータ227は、上記第1実施形態と同様、モータ制御回路からの駆動信号により駆動し、内部に組み込まれたエンコーダ227cからパルス列信号がモータ制御回路と回転角度検出回路に出力するようになっている。そして、回転角度検出回路が検出した回転角度は、コントローラ91に出力するようになっている。よって、上記第1実施形態のイメージングプレート15と同様、センサ移動機構220はコントローラ91からの指令により、指定された回転角度への回転と指定された速度での回転が行われる。また、センサ移動機構220の回転角度をコントローラ91が検出できるようになっている。
回転モータ227によりセンサ移動機構220を回転させるとともに、フィードモータ222により移動ステージ221を移動させ、X線検出センサ215,216が出力する信号の強度のデータと、位置検出回路と回転角度検出回路が出力する位置データおよび回転角度データとを同じタイミングで入力することを行えば、これは、X線検出センサ215,216を出射X線の光軸に垂直な平面内で位置を検出しながら走査し、X線強度を検出することである。これにより、上記第1実施形態と同様に回折環における強度分布が、強度I、回転角度θp及び半径値rのデータ群で得ることができる。なお、本第3実施形態において回折環が撮像される撮像面は、X線検出センサ215,216が走査される平面であると見なすことができる。
本第3実施形態においても、上記第2実施形態と同様、標準試料Sおよびレーザ光出射器68を固定したプレート67を移動させる移動機構60は、上記第1実施形態と同じである。また、X線回折測定装置の筐体50の位置と姿勢を調整するための機能および調整方法も上記第1実施形態と同じであり、回折環検出において得られるデータも上記第1実施形態と同じである。よって、本第3実施形態によるX線回折測定装置を用いた標準資料Sおよび測定対象物OBのX線回折測定は、上記第1実施形態における回折環撮像、回折環読取り、回折環消去を、X線検出センサ215,216の走査による回折環検出に替えるのみである。上記説明からも理解できるように、本第3実施形態は、回折環形成検出機能を上記第1実施形態および第2実施形態から替えたのみであるので、上記第1実施形態および第2実施形態における本発明の効果は、上記第3実施形態でもそのまま成り立つ。
(第4実施形態)
上述したように、本発明は、回折環形成検出機能がどのような構成であっても回折環の形成と検出を行うX線回折測定装置に適用することができる。しかし、X線回折測定装置の位置と姿勢の調整と並行して標準試料のX線回折測定を行わなくてもよく、自動で標準試料のX線回折測定を行わなくてもよい場合は、本発明は、X線回折測定装置を用いて標準試料の測定を行うX線回折測定方法の発明としても実施することができる。この場合、X線回折測定装置は、先行技術文献の特許文献1または特許文献2に示された装置のように、筐体に出射X線が通過する開口または窓があればよい。
図9は、X線回折測定装置の出射X線が通過する開口または窓の部分(例えば図2、図6及び図8の円形孔50c1,50a1)に装着する、標準試料Sを取り付けたワークWの外観図である。ワークWの開口対向面300の中央には、上記第1乃至第3実施形態のプレート67と同様、溝に標準試料Sが嵌めこまれており、開口対向面300でX線回折測定装置の出射X線が通過する開口または窓を覆うようにワークWをX線回折測定装置の筐体に装着すれば、X線出射器10から出射されたX線が標準試料Sに照射されるようになっている。第1乃至第3実施形態と同様、標準試料Sは金属の粉末で無応力の試料あるが、平板ガラスの中に封入されており、粉末が飛散することはない。開口対向面300の四隅には凸部302があり、凸部302には円形の穴が開けられ、この穴に磁石304が嵌めこまれている。よって、X線回折測定装置の筐体が鉄又はステンレスであれば、凸部302をX線回折測定装置の筐体に接触させるのみでワークWを装着することができる。また、X線回折測定装置の筐体が非鉄金属または樹脂等の非金属であれば、磁石304の部分は吸着パッドのようなものにすればよい。
標準試料Sは第1乃至第3実施形態と同様、元素を測定対象物OBの元素とは異ならせ、標準試料SのX線回折角を測定対象物OBのX線回折角より小さくしている。そして、ワークWのX線回折測定装置に取り付け、X線を照射したとき撮像面に形成される回折環は、撮像面から設定された距離にある測定対象物OBによる回折環と同じ位置なるようにされている。このためには、ワークWを取り付けたときの撮像面から標準試料Sまでの距離を、上記第1実施形態で説明したように適切に設定する必要があるが、これは標準試料Sの元素に適切なものを選定し、凸部302の高さを適切に設定すればよい。
本第4実施形態においては、作業者が標準試料Sの測定時期を判断してワークWをX線回折測定装置に装着してX線回折測定を行うが、標準試料Sの測定結果による合否判定および補正の再設定は上記第1乃至第3実施形態と同様に行うことができる。この場合、X線回折測定装置を制御するコンピュータ装置に、標準試料SのX線回折測定であることを入力すると、合否判定および補正の再設定が行われるプログラムをインストールさせておくとよい。
上記説明からも理解できるように、上記第4実施形態においては、対象とする測定対象物OBに向けてX線を出射するX線出射器と、X線出射器から測定対象物OBに向けてX線を照射し、測定対象物OBにて発生した回折X線を、X線出射器から出射されるX線の光軸に対して垂直に交差する撮像面にて受光し、撮像面に回折X線の像である回折環を形成するとともに回折環の形状を検出する回折環形成検出機能と、X線出射器と回折環形成検出機能とを内部に配置した筐体とを備えたX線回折測定装置を用いて、X線回折測定により得られる測定値が標準値として値づけされている標準試料Sを測定するX線回折測定方法において、標準試料Sの元素は測定対象物OBの元素とは異なった元素であり、X線出射器から出射されるX線における回折角が、測定対象物の回折角より小さい元素であるようにされ、筐体のX線出射器から出射するX線が通過する開口または窓を覆うように、筐体に標準試料Sが中央に取り付けられたワークWを装着して測定を行うようにしている。
これによれば、標準試料Sを中央に取り付けたワークWを、X線回折測定装置のX線出射器から出射するX線が通過する開口または窓を覆うように装着すれば、標準試料Sに向けてX線を照射して回折環形成検出機能により回折環を検出することができるので、測定対象物OBに何ら影響を及ぼすことはない。また、標準試料Sを金属の粉末を平板ガラスの中に封入したものにすれば、粉末が飛散することはないので装置内に汚れが発生することはなく、標準試料の粉末を充填する必要もなくなる。この場合、X線回折測定装置は先行技術文献の特許文献1または特許文献2に示された装置のように筐体にX線が通過する開口または窓があればよい。また、標準試料Sの元素を測定対象物OBの元素とは異ならせX線回折角を測定対象物のX線回折角より小さくすれば、ワークWをX線回折測定装置に装着したときの標準試料Sから撮像面までの距離が適切になるよう設定することで標準試料による回折環の径を測定対象物による回折環の径と同一にすることができ、第1乃至第3実施形態と同様、標準試料Sによる回折環を用いた合否判定の精度、および測定対象物OBによる回折環の補正精度を向上させることができる。
さらに、本発明の実施にあたっては、上記第1実施形態乃至第4実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。
上記第1実施形態乃至第4実施形態においては、標準試料Sを金属の粉末を平板ガラスの中に封入したものにした。しかし、X線回折測定により得られる、すなわち検出した回折環から得られる値を標準値として値づけることができれば、これ以外のものを標準試料Sにしてもよい。例えば、X線回折測定の目的が残留オーステナイトの割合を測定することであれば、適切な方法で残留オーステナイトの割合を値づけした試料を標準試料Sにしてもよい。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、プレート67にレーザ光出射器68と標準試料Sを取付け、X線回折測定装置(筐体50)の位置と姿勢を調整するとき、同時に標準試料Sの測定が行われるようにした。しかし、標準試料Sの測定の頻度が大きくなければ、プレート67には標準試料Sのみを取り付け、出射X線と光軸を同一にした可視の平行光を出射するシステムは先行技術文献の特許文献1又は特許文献2に示されるように、X線出射器10の出射口11近傍に設けてもよい。
また、上記第1実施形態乃至第4実施形態においては、標準試料Sにおける金属粉末の元素を測定対象物OBの元素とは異ならせ、イメージングプレート15、X線撮像器100等の撮像面に形成される標準試料Sによる回折環と測定対象物OBによる回折環が同一の径になるようにした。しかし、標準試料Sによる回折環の径を測定対象物OBによる回折環の径と同程度にすることができれば、標準試料Sにおける金属粉末の元素は測定対象物OBの元素と同一にしてもよい。例えば、X線出射器10を、電子をぶつけるターゲットがクロムであるX線管にした場合。出射される特性X線は波長が2.291ÅのCrKα線と、2.085ÅのCrKβ線である。そして、X線が照射されるものが鉄であれば、出射X線と回折X線とが成す角度(180°−2Θ)はCrKα線では23.6°であり、CrKβ線では54.1°である。よって標準試料Sを測定対象物OBと同じ鉄元素にし、標準試料Sによる回折環をCrKβ線による回折環にし、測定対象物OBのCrKα線による回折環と同程度の径になるよう標準試料Sの位置を設定してもよい。ただし、CrKα線とCrKβ線の強度比は、10:2〜3であるので、標準試料SへのX線の照射時間を長くする必要がある。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、X線回折測定装置(筐体50)はアーム式移動装置に取り付けられ、アーム式移動装置を操作することによりX線回折測定装置の位置と姿勢が調整される構造にしたが、X線回折測定装置の位置と姿勢を調整する機構はどのようなものでよい。また、先行技術文献の特許文献1のようにX線回折測定装置(筐体50)がスタンド等に固定され、ステージに載置した測定対象物OBの位置と姿勢をステージ移動機構により調整する構造であっても、本発明は適用することができる。この場合は、筐体50内に設けた標準試料SでX線回折測定を行わなくても、ステージに標準試料Sを載置すれば標準試料SのX線回折測定を行うことができるが、標準試料Sを紛失する可能性がなくなるというメリットがある。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、コントローラ91にインストールされたプログラムにより、自動で標準試料SのX線回折測定が行われるようにしたが、標準試料Sの測定頻度が大きくなく、標準試料Sの定期的な測定を問題なく行うことができれば、作業者が入力装置92から指令を入力して、移動機構60のプレート67を移動させて、標準試料SのX線回折測定を行うようにしてもよい。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、コントローラ91に回折環の形状から残留応力を計算する機能、合否判定機能及び補正機能を備えた。しかし、残留応力の計算、合否判定及び補正の設定に時間がかかってもよい場合は、X線回折測定システムは回折環の形状を得るまでにし、別のコンピュータ装置に回折環のデータを入力して、これらの演算処理を行ってもよい。この場合、別のコンピュータ装置に回折環のデータを入力する方法としては、記録媒体を介する方法、ネット回線等を使用して転送する方法等、様々な方法が考えられる。また、演算の一部または全部を人為的に行ってもよい。
また、上記第1実施形態乃至第4実施形態においては、標準試料SのX線回折測定により得られた回折環のデータから、常に合否判定および補正の再設定を行うようにした。しかし、合否判定および補正の再設定は、どちらか一方が行われるようにしてもよい。例えば、合否判定とは別に、補正の再設定の必要性を判定する許容限界を設け、該許容限界を超えたときのみ補正の再設定を行うようにしてもよい。また、補正の再設定は毎回行うが、合否判定は設定回数、標準試料Sの測定をする内の1回だけ行うようにしてもよい。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、レーザ光出射器68より出射X線の光軸と光軸が同一の可視の平行光が出射するようにしたが、出射X線の光軸と光軸が同一の可視の平行光を出射できれば、どのようなシステムを用いてもよい。例えば、レーザ光出射器68の替わりにスーパールミネッセントダイオード(SLD)により可視の平行光を出射するようにしてもよいし、プレート67のレーザ光出射器68を取付けた箇所に略90度進行方向を変えるミラーを取付け、筐体50に固定したレーザ光出射器から、出射X線の光軸に略垂直な光軸のレーザ光を該ミラーに照射するシステムにしてもよい。
また、上記第1実施形態乃至第3実施形態においては、プレート67を出射X線の光軸に略垂直な方向に移動させる移動機構60により、プレート67をレーザ光出射器68から出射されるレーザ光の光軸が出射X線の光軸と同一になるとともに、標準試料Sに出射X線が照射されるA位置と、測定対象物OBで発生する回折X線がイメージングプレート15、X線撮像器100等の撮像面で受光されるとき、受光を妨害しないB位置にした。しかし、レーザ光出射器68と標準試料Sを、A位置とB位置にすることができるならば、どのような機構を用いてもよい。例えば、レーザ光出射器68と標準試料Sを取付けたプレートを、90°程度右回転と左回転させることでA位置とB位置にするような機構でもよい。