JP6151780B2 - 多層デバイスの少なくとも1つの空洞部を充填材で充填する方法および多層デバイス。 - Google Patents
多層デバイスの少なくとも1つの空洞部を充填材で充填する方法および多層デバイス。 Download PDFInfo
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Description
続いてこの基体に充填材が配設される。
こうして多層デバイスの信頼性の高い接続が実現される。
ここでこの管は、上記の基体の外部接続部の下にある空洞部の等価モデル(Ersatzmodell)として用いることができる。
管の長さl=1mm;
動粘性係数η=400mPas;
平均的流速Vmit=10μm/s。
Vmit=(P2−P1)*r0 2/(8ηl)
から、必要な圧力差は以下のようになる。
ここでP1は上記の第1の圧力に対応し、P2は上記の第2の圧力に対応する。
第2の空洞部5bを充填材で充填することによって、第1の電極層20aは、第2の外部接続部3bから信頼性良く絶縁することができる。このようにしてこの外部接続部3bと1つの内部電極層20aとの間の電気的絶縁破壊を避けることができる。同様にして、1つの第2の内部電極層20bは、第1の外部接続部3aから絶縁されていてよい。
具体的には、この材料流は3つの入口開口部26a,26b,26cを通って行われる。これらの入口開口部26a,26b,26cは、たとえばこれらのカバープレート17および外部接続部3aによって覆われた領域の端部に配設されている。具体的には、これらの入口開口部26a,26b,26cを通って流入する充填材の流れ10a,10bは、カバープレート17の下側の空洞部5aにおいて出会う。この対称的な充填材の流入のおかげで、これらの流れ10a,10bは、入口開口部26aと26bの中央で出会い、また入口開口部26aと26cの中央で出会う。具体的には、これらの充填材の流れ10a,10bは、カバープレート(複数)17のそれぞれの中央部において出会う。これらのカバープレートは、それぞれの中央部が外部接続部3aの上側にはないように配設されているので、これらの流れ10a,10bは、この外部接続部3aの下側ではない領域で出会う。
2 : 基体
3a : 第1の外部接続部
4b : 第2の外部接続部
4 : 接続部材
5a : 第1の空洞部
5b : 第2の空洞部
6a : 第1の外側面
6b : 第2の外側面
7 : 深さ
8 : 長さ
9 : 充填材
10a,10b : 材料流
11 : チャンバ
13 : 矢印
14 : スリーブ
15 : 固定治具
16 : スリット
17 : カバープレート
18 : 幅
19 : 幅
20a : 第1の内部電極層
20b : 第2の内部電極層
21 : バルブ
22 : 幅
23 : 圧電層
24 : チューブ
25 : 気泡
26a,26b,26c : 入口開口部
x : 超過分
Claims (10)
- 多層デバイス(1)の少なくとも1つの空洞部(5a,5b)を充填材(9)で充填する方法であって、
当該多層デバイス(1)の、少なくとも1つの空洞部(5a,5b)を備える基体(2)を準備するステップと、
前記基体(2)をチャンバ(11)に配置するステップと、
負圧である第1の圧力を生成するステップと、
前記基体(2)に前記充填材(9)を配設するステップと、を備え、
前記基体(2)は、少なくとも1つの外部接続部(3a,3b)を備え、当該外部接続部は、前記基体の1つの外側面(6a,6b)上に配設されており、前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)を少なくとも部分的に覆っており、
1つのカバープレート(17)が、前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)の上に配設されており、
前記カバープレート(17)は、前記外部接続部(3a,3b)と共に、前記基体(2)の外側面(6a,6b)の連続した領域をこれと接触した状態で覆っており、
前記カバープレート(17)は、前記外部接続部(3a,3b)に隣接した領域において、前記外部接続部によってこれと接触した状態で連続して覆われた前記外側面(6a,6b)の領域の幅(19)よりも大きい幅(18)を有することを特徴とする方法。 - 請求項1に記載の方法において、
前記基体(2)を前記充填材(9)の中に配設した後に、前記チャンバ(11)における圧力を第2の圧力まで上昇させることを特徴とする方法。 - 請求項2に記載の方法において、
前記チャンバ(11)における圧力の上昇は、前記チャンバの通気によって行われることを特徴とする方法。 - 請求項2または3に記載の方法において、
前記第2の圧力は、過圧であることを特徴とする方法。 - 請求項2乃至4のいずれか1項に記載の方法において、
前記チャンバ(11)における圧力の上昇によって、前記充填材(9)が前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)の中に押し込まれることを特徴とする方法。 - 請求項1乃至5のいずれか1項に記載の方法において、
前記充填材(9)は、200mPas〜2000mPasの粘性を有することを特徴とする方法。 - 請求項1乃至6のいずれか1項に記載の方法において、
前記充填材(9)を硬化するステップを含むことを特徴とする方法。 - 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の方法において、
前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)は、エッチング処理によって生成されることを特徴とする方法。 - 請求項1乃至8のいずれか1項に記載の方法において、
前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)は、1μm〜5μmの幅を有することを特徴とする方法。 - 請求項1乃至9のいずれか1項に記載の方法において、
前記基体(2)は、少なくとも1つの内部電極層(20a,20b)を備え、
前記少なくとも1つの空洞部(5a,5b)は、1つの平面で、前記少なくとも1つの内部電極層(20a,20b)と共に配設されていることを特徴とする方法。
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