JP6143331B2 - ウエーハの加工方法 - Google Patents
ウエーハの加工方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6143331B2 JP6143331B2 JP2013040894A JP2013040894A JP6143331B2 JP 6143331 B2 JP6143331 B2 JP 6143331B2 JP 2013040894 A JP2013040894 A JP 2013040894A JP 2013040894 A JP2013040894 A JP 2013040894A JP 6143331 B2 JP6143331 B2 JP 6143331B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- ring
- dicing tape
- shaped reinforcing
- reinforcing portion
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title claims description 12
- 230000003014 reinforcing effect Effects 0.000 claims description 68
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims description 15
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 17
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 10
- 230000002787 reinforcement Effects 0.000 description 6
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 230000011218 segmentation Effects 0.000 description 1
- 238000012163 sequencing technique Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Dicing (AREA)
- Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
- Mechanical Treatment Of Semiconductor (AREA)
Description
11 半導体ウエーハ
13 分割予定ライン
15 デバイス
17 デバイス領域
18 研削ホイール
19 外周余剰領域
22 研削砥石
25 フレームユニット
26 円形凹部
28 リング状補強部
32,32A チャックテーブル
38 環状逃げ溝
40 切削ユニット
44,44A 切削ブレード
50 環状分離溝
T ダイシングテープ
T´ 第2のダイシングテープ
F 環状フレーム
F´ 第2の環状フレーム
Claims (2)
- 複数のデバイスが形成されたデバイス領域と該デバイス領域を囲繞する外周余剰領域とを表面に有するウエーハの加工方法であって、
該デバイス領域に対応するウエーハの裏面を研削して円形凹部と該円形凹部を囲繞するリング状補強部を形成する研削工程と、
基材と粘着層とからなるダイシングテープの該粘着層に該ウエーハの表面を貼着するとともに該ダイシングテープの外周部を環状フレームに貼着し、該ダイシングテープを介して該ウエーハを該環状フレームで支持するフレーム配設工程と、
該フレーム配設工程を実施した後、該環状フレームに支持された該ウエーハの裏面側をチャックテーブルで保持して該ダイシングテープの基材側を露出させる保持工程と、
該保持工程を実施した後、切削ブレードによって該外周余剰領域を含む該リング状補強部と該デバイス領域との境界部を該ダイシングテープとともに切断して該デバイス領域と該リング状補強部とを分離するリング状補強部分離工程と、
該リング状補強部分離工程を実施した後、該ダイシングテープを介して該環状フレームに支持された該リング状補強部を該環状フレームとともに該チャックテーブルから離脱させて、該リング状補強部を除去するリング状補強部除去工程と、を備え、
前記チャックテーブルはウエーハの裏面に形成された該円形凹部の直径より小さい外径を有しており、
該リング状補強部分離工程では、該チャックテーブルを該ウエーハの該円形凹部中に位置付けつつ該ダイシングテープを露出させて該環状フレームに支持されたウエーハを該チャックテーブルで保持し、該ダイシングテープ側から該切削ブレードを切り込ませて該デバイス領域と該リング状補強部とを分離することを特徴とするウエーハの加工方法。 - 前記リング状補強部除去工程を実施した後、前記デバイス領域のみからなる前記ウエーハの裏面を第2ダイシングテープに貼着するとともに該第2ダイシングテープの外周部を第2環状フレームに貼着して、該第2ダイシングテープを介して該ウエーハを該第2環状フレームで支持し、該ウエーハの表面に貼着された前記ダイシングテープを剥離するダイシングテープ貼り替え工程と、
該ダイシングテープ貼り替え工程を実施した後、該デバイス領域のみからなる該ウエーハを切削して個々のデバイスに分割する分割工程と、を更に備えた請求項1記載のウエーハの加工方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013040894A JP6143331B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | ウエーハの加工方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2013040894A JP6143331B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | ウエーハの加工方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014170798A JP2014170798A (ja) | 2014-09-18 |
JP6143331B2 true JP6143331B2 (ja) | 2017-06-07 |
Family
ID=51692991
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013040894A Active JP6143331B2 (ja) | 2013-03-01 | 2013-03-01 | ウエーハの加工方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6143331B2 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111070448A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 成都先进功率半导体股份有限公司 | 一种晶圆环形切割方法 |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2017037992A (ja) * | 2015-08-11 | 2017-02-16 | 株式会社ディスコ | フレームユニット保持テーブル |
JP6749118B2 (ja) * | 2016-03-29 | 2020-09-02 | 日東電工株式会社 | 基板転写方法および基板転写装置 |
JP7110014B2 (ja) * | 2018-07-10 | 2022-08-01 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US20080242052A1 (en) * | 2007-03-30 | 2008-10-02 | Tao Feng | Method of forming ultra thin chips of power devices |
JP5471064B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2014-04-16 | 富士電機株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP2011222843A (ja) * | 2010-04-13 | 2011-11-04 | Renesas Electronics Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP5544228B2 (ja) * | 2010-07-14 | 2014-07-09 | 株式会社ディスコ | ウェーハの加工方法 |
-
2013
- 2013-03-01 JP JP2013040894A patent/JP6143331B2/ja active Active
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN111070448A (zh) * | 2019-12-30 | 2020-04-28 | 成都先进功率半导体股份有限公司 | 一种晶圆环形切割方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014170798A (ja) | 2014-09-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI644354B (zh) | Wafer processing method | |
JP6230422B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5500942B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5946260B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2011124266A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
US9768049B2 (en) | Support plate and method for forming support plate | |
JP2010186971A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2015217461A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP2005101290A (ja) | 半導体ウエーハの分割方法 | |
JP6143331B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5068705B2 (ja) | 加工装置のチャックテーブル | |
JP2013247135A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2012146889A (ja) | ウエーハの研削方法 | |
JP5441587B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2014093444A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5881504B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6066672B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP5318537B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
TW201126586A (en) | Wafer processing method | |
JP2011071287A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP2015072994A (ja) | ウェーハの加工方法 | |
JP6066673B2 (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6045426B2 (ja) | ウェーハの転写方法および表面保護部材 | |
JP2010093005A (ja) | ウエーハの加工方法 | |
JP6890495B2 (ja) | ウェーハの加工方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20160115 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20161213 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20161215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20170124 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20170502 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20170508 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6143331 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |