JP6124159B2 - 親水性ブロックコポリマー及びそれらの製造方法(iii) - Google Patents

親水性ブロックコポリマー及びそれらの製造方法(iii) Download PDF

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Description

発明の詳細な説明
[発明の背景]
[0001]芳香族ポリマー、例えば、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリ(フタラジンエーテルスルホンケトン)、及びポリエーテルエーテルケトンは、それらの化学的安定性、加工性、機械的強度、可撓性、及び熱安定性により、多孔質膜を製造するのに有用である。これらのポリマーは一般に疎水性であり、これらのポリマーから製造される膜は疎水性であるために、濡れ性、低いタンパク質吸着性、抗血液凝固性、及び制御された表面化学反応性のような望ましい表面特性を欠いている。
[0002]芳香族ポリマーから作製される膜の表面特性の1つ又は複数を改善する試みが、なされてきた。例えば、親水性を付与するために、膜は、高エネルギー放射線又はプラズマにより処理された。別の例では、疎水性の膜表面に親水性モノマーがグラフトされた。また、疎水性膜を、ポリエチレングリコール又はポリビニルピロリドンのような水溶性ポリマーによりコーティングする試みもなされた。しかし、特性、特に親水性を向上させるための上記の試みは、1つ又は複数の欠点、例えば、再現性の欠如、改質の安定性の欠如、及び/又は細孔の目詰まりを有する。
[0003]上記は、芳香族疎水性ポリマーから形成される親水性多孔質膜、及び芳香族疎水性ポリマーから形成される膜に親水性を付与する方法が、求められていることを示す。
[発明の概要]
[0004]本発明は、芳香族疎水性ポリマーから形成される膜に親水性を付与するのに有用である親水性ブロックコポリマーを提供する。
[0005]本発明は、式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーであって、ここで、ブロックAは、(i)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有する前記コポリマー、又は(ii)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−Xの基で置き換えられた前記コポリマーであり、式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、アルデヒド、アミド、カルバモイル、ウレイド、シアノ、ニトロ、エポキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択され;ブロックBは芳香族疎水性ポリマーセグメントである、ブロックコポリマーを提供する。
[0006]本発明は、また、ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有する前記コポリマーであり;ブロックBが芳香族疎水性ポリマーセグメントである、式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーを製造する方法であって、この方法は、(i)1つ又は複数の末端官能基を有する芳香族疎水性ポリマーセグメントを用意するステップ;及び(ii)塩基の存在下で芳香族疎水性ポリマーセグメントでアリルグリシジルエーテル及びグリシドールの開環重合を実施するステップ;を含む、方法も提供する。
[0007]本発明は、1つ又は複数の次の利点を有する。本発明は、多孔質膜に望まれる親水性の程度を調整するための容易な方法を提供する。様々な度合いの親水性のブロックコポリマーが、芳香族疎水性ポリマーから生成される。ブロックコポリマーの組成は、よく知られた技法によって容易に評価される。ブロックコポリマーを用いて製造される多孔質膜は、抽出物が少ない。ブロックコポリマーは、芳香族疎水性ポリマーに強い付着力を有する。多孔質膜は、オートクレーブ処理、水蒸気処理、及びイソプロパノール(IPA)抽出のような処理条件に対して安定である。
芳香族疎水性ポリマーからの多孔質膜の形成における、本発明の実施形態によるブロックコポリマーの、湿潤剤としての役割を例示する。1は、芳香族疎水性ポリマーを表し、2は、本発明の実施形態によるブロックコポリマーの芳香族疎水性ポリマーセグメントを表し、3は、ブロックコポリマーの親水性ポリマーセグメントを表す。
[発明の詳細な説明]
[0009]一実施形態によれば、本発明は、式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーであって、
ここで、ブロックAは、
(i)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有する前記コポリマー;又は
(ii)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−Xの基で置き換えられた前記コポリマーであり、式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、アルデヒド、アミド、カルバモイル、ウレイド、シアノ、ニトロ、エポキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択され;
ブロックBは芳香族疎水性ポリマーセグメントである、ブロックコポリマーを提供する。
[0010]一実施形態によれば、ブロックAは、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであり、このコポリマーは、1つ又は複数のアリル基を有する。一実施形態によれば、ブロックAは、次の繰返し単位:
Figure 0006124159

の1つ又は複数を有するポリグリセロールセグメントと、次の式の繰返し単位:
Figure 0006124159

(式中、Rはアリルである)
を有するポリアリルグリシジルエーテルセグメントとから構成される。
[0011]別の実施形態によれば、ブロックAは、上述のグリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−Xの基で置き換えられており、式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、アルデヒド、アミド、カルバモイル、ウレイド、シアノ、ニトロ、エポキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択される。
[0012]一実施形態によれば、Xは、任意の酸性基、例えば、スルホン酸、リン酸、ホスホン酸、又はカルボン酸であってよく、塩基性基は、任意の塩基性基、例えば、アミノ基、アルキルアミノ基、又はジアルキルアミノ基であってよく、カチオンは、任意のカチオン基、例えば、第4級アンモニウム基であってよく、両性イオンは、例えば、式:−N(R)(CHSO (式中、R及びRはアルキル基であり、cは1〜3である)の第4級アンモニウムアルキルスルホネート基であり得る。
[0013]ブロックコポリマーの1つ又は複数のアリル基は、望まれる変化を生じるために、適切な反応剤と反応させることができる。例えば、アリル基は、四酸化オスミウム、アルカリ性過マンガン酸塩、又は過酸化水素のような酸化剤と反応させることによって、1,2−ジヒドロキシプロピル基に変換できる。
[0014]アリル基は、アリル基と、酸性基を有するチオール、例えば、HS−(CH−X(式中、Xは、COOH、POH、POH、又はSOHであり、bは1〜3である)とを反応させることによって、式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは酸性基である)の基に変換できる。
[0015]アリル基は、アリル基と、塩基性基を有するチオール、例えば、HS−(CH−X(式中、Xは、NH、NHR、又はNRRであり、RはC〜Cアルキル基であり、bは1〜3である)とを反応させることによって、式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは塩基性基である)の基に変換できる。
[0016]アリル基は、アリル基と、カチオン基を有するチオール、例えば、HS−(CH−X(式中、Xは、NH 、NHRR、又はNRRRであり、RはC〜Cアルキル基であり、bは1〜3である)とを反応させることによって、式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xはカチオン基である)の基に変換できる。
[0017]アリル基は、アリル基と、両性イオン基を有するチオール、例えば、HS−(CH−X(式中、Xは、両性イオンを有する基、例えば、−N(R)−(CH−SO であり、RはC〜Cアルキル基であり、b及びcは独立に1〜3である)とを反応させることによって、式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは両性イオン基である)の基に変換できる。
[0018]1つ又は複数のアリル基は、ハロアルカンチオール、例えば、フルオロアルカンチオール、クロロアルカンチオール、ブロモアルカンチオール、又はヨードアルカンチオールと反応することによって、置き換えられ得る。アシルアルカンチオールのアシル基は、ホルミル、アセチル、プロピオニル、又はブタノイルであり得る。アルコキシアルカンチオールのアルコキシ部分は、C〜Cアルコキシ基であり得る。アルキルチオアルカンチオールのアルキルチオ部分は、C〜Cアルキル基であり得る。
[0019]一実施形態において、1つ又は複数のアリル基は、カルボキシル基含有アルカンチオール又はその塩、リン酸基含有アルカンチオール又はその塩、ホスホン酸基含有アルカンチオール又はその塩、スルホン基含有アルカン又はその塩、(ジアルキルアミノ)アルカンチオール又はその塩、アミノアルカンチオール又はその塩、アルキルアミノアルカンチオール、ジアルキルアミノアルカンチオール、及びスルホン基含有アルキルアンモニウムアルカンチオール又はその塩と反応させられ得る。
[0020]一実施形態によれば、ブロックコポリマーの芳香族疎水性ポリマーセグメントは、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択され、好ましくはポリエーテルスルホンである。
[0021]疎水性ポリマーセグメントの実施形態には、ポリスルホン(PS)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリカーボネート(PC)、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)(PPESK)、ポリフェニレンスルフィド(PPS)、ポリフェニレンエーテル(PPE)、ポリフェニレンオキシド(PPO)、及びポリエーテル−イミド(PEI)が含まれ、これらは、次の構造を有する。
Figure 0006124159

Figure 0006124159

Figure 0006124159
[0022]上記の芳香族疎水性セグメントの各々の中の、繰返し単位の数(n)は、約10〜約1000、好ましくは約30〜約300、より好ましくは約50〜約250であり得る。
[0023]一実施形態によれば、ブロックAは、分岐状コポリマーである。
[0024]一実施形態によれば、ブロックコポリマーは、次の構造:
Figure 0006124159

を有し、式中、nは、10〜1000、好ましくは約50〜175、より好ましくは約60〜約100である。「Pg/PolyAGE」は、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーを示す。
[0025]ポリスルホンが芳香族疎水性セグメントである一実施形態において、nは、約10〜約1000、好ましくは約30〜約225、より好ましくは約45〜約130である。
[0026]一実施形態によれば、ブロックAは、コポリマー中に、約20〜約50mol%の量で存在し、ブロックBは、約50〜約80mol%の量で存在する。好ましくは、ブロックAが、約40〜約55mol%の量で存在し、ブロックBが、約40〜約60mol%の量で存在することが好ましい。
[0027]一実施形態によれば、ブロックコポリマーは、次の構造:
Figure 0006124159

を有し、式中、Rは、アリル又は−(CH−Xであり、Xは、アミノ、ジメチルアミノ、−CHCHSOH、−CHCHCHSOH、−CHCOH、及び−CHCH(CH、並びにこれらの組合せから選択され、nは、約10〜約1000、好ましくは約30〜約300、より好ましくは約50〜約250である。「Pm」は、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーを示す。
[0028]本発明の一実施形態によるブロックコポリマーは、次の構造:
Figure 0006124159

Figure 0006124159

Figure 0006124159

の1つを有し、式中、nは、約10〜約1000、好ましくは約30〜約300、より好ましくは約50〜約250である。
[0029]本発明は、また、ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有する前記コポリマーであり;ブロックBが芳香族疎水性ポリマーセグメントである、式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーを製造する方法であって、この方法は、
(i)ヒドロキシ、メルカプト、及びアミノ基から選択される1つ又は複数の末端官能基を有する芳香族疎水性ポリマーセグメントを用意するステップ;及び
(ii)芳香族疎水性ポリマーセグメントでアリルグリシジルエーテル及びグリシドールの開環重合を実施するステップ;を含む、方法も提供する。
[0030]本発明は、また、
ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、アルデヒド、アミド、カルバモイル、ウレイド、シアノ、ニトロ、エポキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択される基である)の基で置き換えられた前記コポリマーであり;また
ブロックBが芳香族疎水性ポリマーセグメントである;
式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーを製造する方法であって、
この方法は、
(i)ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を含む前記コポリマーであり;ブロックBが、芳香族疎水性ポリマーセグメントを含む、式:A−B−A(Ia)又はA−B(IIa)のブロックコポリマーを用意するステップ、及び
(ii)式(Ia)又は(IIa)のブロックコポリマーと、酸化剤、カルボキシルアルカンチオール又はその塩、スルホン基含有アルカンチオール又はその塩、(ジアルキルアミノ)アルカンチオール又はその塩、ハロアルカンチオール、ヒドロキシアルカンチオール、アシルアルカンチオール、アルコキシアルカンチオール、アルキルチオアルカンチオール、アルデヒドアルカンチオール、アミドアルカンチオール、カルバモイルアルカンチオール、ウレイドアルカンチオール、シアノアルカンチオール、ニトロアルカンチオール、エポキシアルカンチオール、システイン、アシルシステイン、アミノアルカンチオール又はその塩、アルキルアミノアルカンチオール、ジアルキルアミノアルカンチオール、及びスルホン基含有アルキルアンモニウムアルカンチオール又はその塩から選択される反応剤とを反応させるステップ;
を含む、方法も提供する。
[0031]一実施形態によれば、芳香族疎水性ポリマーセグメントは、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択され、好ましくはポリエーテルスルホンである。芳香族疎水性ポリマーセグメントは、ヒドロキシ、メルカプト、又はアミノ基から選択される、1つ又は複数の、好ましくは1つ又は2つの、末端官能基を含む。
[0032]官能基は、当業者に知られている方法によって芳香族疎水性セグメントに持たせることができる。例えば、ヒドロキシ−末端ポリエーテルイミドの合成が、米国特許第4611048号及び米国特許第7230066号に記載されている。こうして、例えば、ヒドロキシ−末端ポリエーテルイミドは、ビス−エーテル無水物及びジアミンの反応と、その後のアミノアルコールとの反応によって製造できる。例示すると、ヒドロキシ−末端ポリエーテルイミドは、ビス(4−(3,4−ジカルボキシ−フェノキシ)フェニル)プロパン二無水物及びm−フェニレンジアミンの反応と、その後のp−アミノフェノールとの反応によって製造できる。
[0033]アミン−末端ポリエーテルイミドは、ビス−エーテル無水物とジアミンの反応によって製造できる。こうして、例えば、ビス(4−(3,4−ジカルボキシ−フェノキシ)フェニル)プロパン二無水物とm−フェニレンジアミンを反応させて、アミン末端ポリエーテルイミドが製造できる。例えば、米国特許第3847867号を参照。
[0034]ヒドロキシ−末端PEEKが、Journal of Polymer Science Part B 2006, 44, 541、及び、Journal of Applied Science 2007, 106, 2936に記載されている。こうして、例えば、tert−ブチルペンダント基を有するヒドロキシ−末端PEEKは、触媒として炭酸カリウムを用いる、tert−ブチルヒドロキノンによる4,4’−ジフルオロベンゾフェノンの求核置換反応によって製造できる。
[0035]ヒドロキシ−末端ポリカーボネートが、Journal of Polymer Science: Polymer Chemistry Edition 1982, 20, 2289に記載されている。こうして、例えば、ヒドロキシ−末端ポリカーボネートは、ビスフェノールAとホスゲンの反応によって、ホスゲン化の前か又はその間かのいずれかに、フェノール基のいくつかを元の位置でブロッキングして、製造できる。トリメチルクロロシラン、トリフルオロ酢酸無水物、又はトリフルオロ酢酸が、ブロッキングのために使用され得る。ブロッキング基は、重合の最後に除去できる。
[0036]ヒドロキシ−末端PPOは、米国特許第3318959号に記載されているようにして製造できる。こうして、例えば、ポリ−2,6−ジメチルフェニレンエーテルを、水酸化ナトリウムと反応させて、2.3〜3個のヒドロキシル基/1分子のヒドロキシル含有量を有するPPOを得ることができる。
[0037]一実施形態において、芳香族疎水性ポリマーセグメントは、1つ又は複数のヒドロキシ基を有する次の式のポリエーテルスルホン

Figure 0006124159

であり、式中、nは、約10〜約1000、好ましくは約50〜175、より好ましくは約60〜約100である。
[0038]ポリエーテルスルホンは、例えば、Solvayから、式
Figure 0006124159

を有する、VIRANTAGE(商標)VW−10700として市販されており、これは、21000g/molのGPC分子量及び210μeq/gのOH末端基を有し;Solvayから、式
Figure 0006124159

を有する、VIRANTAGE(商標)VW−10200として市販されており、これは、44,200g/molのGPC分子量及び80μeq/gのOH末端基を有し;また、Sumitomoから、式
Figure 0006124159

を有する、スミカエクセル(SUMIKAEXCEL)(商標)5003PSとして市販されており、これは、0.50の還元粘度[DMFに溶解した1%PES]及び0.6〜1.4個/1分子の範囲のOH末端基を有する。
[0039]グリシドール、又は2,3−エポキシ−1−プロパノールは、末端官能基として1つのエポキシド環とヒドロキシル基とを含む。両末端は互いに反応して、グリセロール誘導体である高分子を形成できる。得られる高分子は、反応し続けて、ポリグリセロールを形成する。アリルグリシジルエーテルは、1つのエポキシド環を含み、これは、開環重合することができる。
[0040]グリシドール又はアリルグリシジルエーテルのエポキシドの開環は、求核剤、すなわち、芳香族疎水性ポリマーセグメントのオキシドアニオン、アミノ基、又はスルフィドアニオンによって開始され、これは、末端官能基として存在する(アミノ基)か、又は、芳香族疎水性ポリマーセグメントの末端基(terminal group)(OH若しくはSH)と反応に用いられる塩基との反応によって生成される。開環したエポキシドは、塩基の存在下で、次のグリシドール及び/又はアリルグリシジルエーテルのエポキシドを開環し続け、このようにしてグリシドール及びアリルグリシジルエーテルの重合は進む。SHが求核剤として働く場合、塩基の使用は任意選択である。アミノ基が求核剤である場合、塩基は必要でない。
[0041]開環重合は、適切な任意の塩基、例えば、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化アンモニウム、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、ナトリウムアミド、リチウムアミド及びこれらの組合せから選択される塩基を用いて実施できる。
[0042]一実施形態によれば、開環重合は、適切な溶媒、特に非プロトン性極性溶媒中で実施できる。適切な溶媒の例には、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、及びN−メチルピロリドン、並びにこれらの混合物が含まれる。
[0043]芳香族疎水性ポリマー、グリシドール、及びアリルグリシジルエーテルの総量は、重合媒体中に、任意の適切な濃度で存在していてよく、例えば、それぞれは、約5重量%〜約60重量%以上、好ましくは約10重量%〜約50重量%、より好ましくは約20重量%〜約40重量%の濃度で存在し得る。一実施形態において、それぞれの濃度は、約30重量%である。
[0044]開環重合は、反応混合物における疎水性ポリマーセグメントとグリシドール及びアリルグリシジルエーテルの比が、好ましくは約1:0.1:0.1〜約1:2:2、より好ましくは約1:0.7:0.7〜約1:1.2:1.2、より一層好ましくは約1:0.8:0.8であるようにして実施される。
[0045]開環重合は、適切な温度で、例えば、25℃〜約130℃、好ましくは約50℃〜約120℃、より好ましくは約90℃〜110℃で実施される。
[0046]重合は、適切な任意の時間、例えば、約1時間〜約100時間、好ましくは約2時間〜約40時間、より好ましくは約3時間〜約20時間、実施され得る。重合時間は、とりわけ、望まれる重合度、及び反応混合物の温度に応じて変わり得る。
[0047]ブロックコポリマーは、非溶媒、例えば、メタノールによる析出によって、反応混合物から単離できる。得られるポリマーは、何らかの残留溶媒又は非溶媒を除去するために、乾燥される。
[0048]ブロックコポリマーは、芳香族疎水性ポリマーと一緒にして、薄いフィルムとしてキャストし、転相させて、多孔質膜を得ることができる。
[0049]本発明は、上述の芳香族疎水性ポリマー及びブロックコポリマーを含む多孔質膜をさらに提供する。本発明は、芳香族疎水性ポリマー及びブロックコポリマーを含む多孔質膜を製造する方法であって、
(i)溶媒及び前記芳香族疎水性ポリマー、並びに前記ブロックコポリマーを含むポリマー溶液を用意するステップ;
(ii)ポリマー溶液を薄いフィルムとしてキャストするステップ;
(iii)薄いフィルムを転相させて、多孔質膜を得るステップ;及び、任意選択で
(iv)多孔質膜を洗うステップ
を含む、方法もさらに提供する。
[0050]膜を製造するためのポリマー溶液は、ポリマーと、湿潤剤としてのブロックコポリマーとを含む。典型的なポリマー溶液は、少なくとも1種の溶媒を含み、少なくとも1種の非溶媒をさらに含み得る。適切な溶媒には、例えば、N,N−ジメチルホルムアミド(DMF);N,N−ジメチルアセトアミド(DMAc);N−メチルピロリドン(NMP);ジメチルスルホキシド(DMSO)、メチルスルホキシド、テトラメチルウレア;ジオキサン;コハク酸ジエチル;クロロホルム;及びテトラクロロエタン;並びにこれらの混合物が含まれる。適切な非溶媒には、例えば、水;様々なポリエチレングリコール(PEG;例えば、PEG−200、PEG−300、PEG−400、PEG−1000);様々なポリプロピレングリコール;様々なアルコール、例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール(IPA)、アミルアルコール、ヘキサノール、ヘプタノール、及びオクタノール;アルカン、例えば、ヘキサン、プロパン、ニトロプロパン、ヘプタン、及びオクタン;並びに、ケトン、エーテル及びエステル、例えば、アセトン、ブチルエーテル、酢酸エチル、及び酢酸アミル;酸、例えば、酢酸、クエン酸、及び乳酸;並びに様々な塩、例えば、塩化カルシウム、塩化マグネシウム、及び塩化リチウム;並びにこれらの混合物が含まれる。
[0051]典型的なキャスト溶液は、約10wt%〜約35wt%の樹脂の範囲でポリマーを、約0.1〜約10wt%、好ましくは約0.2%〜約2%、より好ましくは約0.3%〜約1%の範囲で親水性ブロックコポリマーを、約0〜約90wt%の範囲でNMPを、約0〜約90wt%の範囲でDMFを、また約0〜約90wt%の範囲でDMAcを含む。
[0052]キャスト溶液の適切な成分は、当技術分野において知られており、望まれるように使用され得る。ポリマーを含む例示的な溶液、及び例示的な溶媒と非溶媒には、例えば、米国特許第4629563号;米国特許第4900449号;米国特許第4964990号、米国特許第5444097号;米国特許第5846422号;米国特許第5906742号;米国特許第5928774号;米国特許第6045899号;及び米国特許第7208200号に開示されているものが含まれる。
[0053]キャスト溶液は、ガラス板上、又は移動式ベルトのような移動基材上に、平坦なシートとしてキャストされる。別法として、キャスト溶液は中空繊維としてキャストされる。
[0054]転相は、知られている方法のいずれによって実施されてもよい。転相は、溶媒及び非溶媒の蒸発(ドライプロセス);露出した表面に吸収される非溶媒蒸気、例えば水蒸気への曝露(蒸気相に誘発される析出プロセス);通常は水である非溶媒液体中でのクエンチ(ウェットプロセス);又は、ポリマーの溶解性が突然大きく低下する、高温フィルムの熱的クエンチ(熱プロセス)を含む。
[0055]一実施形態において、転相は、キャスト溶液を、非溶媒蒸気、例えば、制御された湿度の大気に曝すことによって実施され、その後、キャスト溶液は、水浴のような非溶媒浴に浸漬される。
[0056]代わりに、疎水性膜は、親水性ブロックポリマーによりコーティングされてもよい。こうして、例えば、ブロックコポリマーの溶液が、芳香族疎水性ポリマーから形成された多孔質膜にコーティングされる、又は、多孔質膜が、ブロックコポリマーの溶液にディッピングされ、任意選択で加熱されて、親水性に改質された多孔質膜が得られる。
[0057]図1に示されるように、本発明の実施形態による多孔質膜のミクロ構造は、膜の細孔表面に親水性セグメント3を含み、このため、膜の親水性が向上する。ブロックコポリマーの芳香族疎水性ポリマーセグメント2は、芳香族疎水性ポリマー1に沿って配向する。
[0058]本発明の実施形態による多孔質膜は、約70〜約90ダイン/cm以上、例えば、72、74、76、78、80、82、84、又は86ダイン/cmの臨界濡れ表面張力(CWST)を有する。
[0059]本発明の実施形態による多孔質膜は、精密濾過若しくは限外濾過膜としての、又はナノ濾過膜の製造、逆浸透膜、ガス分離膜、浸透気化又は蒸気透過膜、透析膜、膜蒸留、クロマトグラフィー膜、並びに/又は正浸透膜及び圧力浸透膜において用途がある。
[0060]本発明の実施形態による多孔質膜は、約0.05μm〜約10μm以上の細孔径(pore size)を有し、精密濾過膜としての用途がある。本発明の特定の実施形態による多孔質膜は、約1nm〜約0.5μmの細孔径を有し、ナノ濾過膜としての用途がある。
[0061]本発明の実施形態による多孔質膜は、例えば、診断用途(例えば、試料調製及び/又は診断用ラテラルフローデバイスが含まれる)、インクジェット用途、医薬品業界のための流体の濾過、医療用途のための流体の濾過(在宅及び/又は患者使用のためを含めて、例えば、静脈内用途、また、例えば、血液のような生体流体の濾過(例えば、白血球を除去するため)が含まれる)、エレクトロニクス業界のための流体の濾過(例えば、マイクロエレクトロニクス業界におけるフォトレジスト流体の濾過)、食品及び飲料業界のための流体の濾過、清澄化、抗体−及び/又はタンパク質−含有流体の濾過、核酸含有流体の濾過、細胞検出(原位置でのものが含まれる)、細胞採取、並びに/或いは、細胞培養流体の濾過を含めて、様々な用途に使用できる。代わりに、又は追加として、本発明の実施形態による膜は、空気及び/又はガスを濾過するために使用できる、並びに/或いは、排出用途(例えば、膜を通して空気及び/又はガスは通過させるが、液体は通過させない)に使用できる。本発明の実施形態による膜は、外科用デバイス及び製品、例えば、眼科用外科製品を含めて、様々なデバイスに使用できる。
[0062]本発明の実施形態によれば、多孔質膜は、平面状、平坦なシート状、プリーツ状、チューブ状、スパイラル状、及び中空繊維状を含めて、様々な構造形態を有し得る。
[0063]本発明の実施形態による多孔質膜は、少なくとも1つの入口及び少なくとも1つの出口を備え、また入口と出口の間に少なくとも1つの流体流路を定めるハウジングに、通常は配置され、ここで、本発明の少なくとも1つの膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を含むフィルターが、流体流路に交差していて、フィルターデバイス又はフィルターモデュールが形成されている。一実施形態において、入口及び第1出口を備え、また入口と第1出口の間に第1流体流路を定めるハウジング;並びに、本発明の少なくとも1つの膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を備えるフィルターを備えるフィルターデバイスであって、本発明の膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を備えるフィルターは、第1流体流路に交差してハウジングに配置される、フィルターデバイスが提供される。
[0064]クロスフロー用途では、本発明の少なくとも1つの膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を備えるフィルターは、少なくとも1つの入口と少なくとも2つの出口とを備え、また入口と第1出口の間の第1流体流路と、入口と第2出口の間の第2流体流路とを少なくとも定めるハウジングに配置され、ここで、本発明の膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を備えるフィルターは、第1流体流路に交差していて、フィルターデバイス又はフィルターモデュールが形成されていることが好ましい。例示的な一実施形態において、フィルターデバイスは、クロスフローフィルターモデュールと、入口、濃縮物出口を備える第1出口、及び浸透物出口を備える第2出口を備え、また入口及び第1出口の間に第1流体流路を、入口及び第2出口の間に第2流体流路を定めるハウジングとを備え、ここで、本発明の少なくとも1つの膜、又は本発明の少なくとも1つの膜を備えるフィルターは、第1流体流路に交差してハウジングに配置される。
[0065]フィルターデバイス又はモデュールは、滅菌可能であり得る。適切な形状で、入口と1つ又は複数の出口とがある任意のハウジングが用いられ得る。
[0066]ハウジングは、不浸透性熱可塑性材料のいずれかを含めて、処理される流体に適合する任意の適切な堅い不浸透性材料から作成できる。例えば、ハウジングは、金属、例えば、ステンレス鋼、又はポリマー、例えば、透明若しくは不透明ポリマー、例えば、アクリル、ポリプロピレン、ポリスチレン、若しくはポリカーボネート樹脂から作成できる。
[0067]以下の実施例は、本発明をさらに例示するが、言うまでもなく、決してその範囲を限定していると解釈されるべきではない。
[0068]
実施例1
この実施例は、本発明の実施形態によるブロックコポリマーの製造を例示する。
[0069]ウルトラゾーン(ULTRASON(商標))E6020(BASF)ポリエーテルスルホン(500g)を、110℃で、オーバーヘッドスターラーを装備した3Lの反応器中のDMAc(1.5L)にゆっくりと加えた。ポリマーが完全に溶解した後で、KCO(12.5g)を加えた。110℃でさらに2.5時間撹拌した後、アリルグリシジルエーテル(400mL)とグリシドール(100mL)の混合物を加え、反応混合物を110℃で12時間撹拌した。高温の反応混合物を、激しく撹拌している蒸留水(15L)にゆっくりと加えた。得られた生成物を、濾過し、エタノール(5L)中で終夜さらに撹拌した。析出物を濾過し、エタノール(2L)で洗い、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥して、プロトンNMR分光法によって求めて、PESブロックが61mol%、重合したグリシドール及びアリルグリシジルエーテルを含むブロックAが39mol%であるブロックコポリマー生成物(PES−Pg/PolyAGE)を760g得た。
[0070]
実施例2
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマーの製造を例示する。
[0071]5003PS(Sumitomo)ポリエーテルスルホン(200g)を、110℃で、DMAc(0.5L)にゆっくりと加えた。ポリマーが完全に溶解した後で、KCO(12.5g)を加えた。110℃でさらに2.5時間撹拌した後、アリルグリシジルエーテル(160mL)とグリシドール(40mL)の混合物を加え、反応混合物を110℃で12時間撹拌した。高温の反応混合物を、激しく撹拌している蒸留水(7L)にゆっくりと加えた。得られた生成物を、濾過し、エタノール(1.5L)中で終夜さらに撹拌した。析出物を濾過し、エタノール(0.75L)で洗い、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥して、プロトンNMR分光法によって求めて、PESが57mol%、重合したグリシドール及びアリルグリシジルエーテルを含むブロックAが43mol%であるブロックコポリマー生成物(PES−Pg/PolyAGE)を260g得た。
[0072]
実施例3
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマー、PES−Pm−MEAの製造を例示する。
[0073]実施例1による30gのPES−Pg/PolyAGEを、80℃で、DMAc(100mL)に溶かした。ポリマーが完全に溶解した後で、溶液を窒素で5分間パージした。アミノエタンチオール塩酸塩(3g)及び2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸(50mg)を加え、反応混合物を80℃で21時間撹拌した。高温の反応混合物を、エタノール(750mL)に滴下して加えることによって析出を起こした。得られた析出物を、エタノール(250mL)中に戻し、さらに2時間撹拌した。得られた析出物を、濾過し、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥して、プロトンNMR分光法によって求めて、PESが61mol%、アミノエタンチオール基が28mol%、アリル基が11mol%である、所望の生成物(PES−Pm−MEA)を32g得た。
[0074]
実施例4
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマー、PES−Pm−MDMAEの製造を例示する。
[0075]実施例1による20gのPES−Pg/PolyAGEを、80℃で、DMAc(160mL)に溶かした。ポリマーが完全に溶解した後で、溶液を窒素で5分間パージした。2−(ジメチルアミノ)エタンチオール塩酸塩(15g)及び2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸(80mg)を加え、反応混合物を80℃で終夜撹拌した。高温の反応混合物を、IPA(550mL)に滴下して加えることによって析出を起こした。得られた析出物を、IPA(100mL)中で、さらに2時間撹拌した。析出物を、濾過し、脱イオン水(1000mL)、その後IPA(500mL)で洗った。得られた生成物を、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥して、プロトンNMR分光法によって求めて、PESが61mol%、ジメチルアミノ−エタンチオール基が34mol%、残っているアリルグリシジル基が5mol%である、所望の生成物(PES−Pm−MDMAE)を23g得た。
[0076]
実施例5
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマー、PES−Pm−MESの製造を例示する。
[0077]実施例1による30gのPES−Pg/PolyAGEを、80℃で、DMAc(150mL)に溶かした。ポリマーが完全に溶解した後で、溶液を窒素で5分間パージした。2−メルカプトエタンスルホン酸ナトリウム(25g)及び2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸(500mg)を加え、反応混合物を80℃で終夜撹拌した。高温の反応混合物を、IPA(250mL)に滴下して加えることによって析出を起こした。析出物を、IPA中で、さらに2時間撹拌し、濾過し、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥した。プロトンNMR分光法によって求めて、PESが61mol%、メルカプトエタンスルホン酸が35mol%、アリル基が4mol%である、所望の生成物(PES−Pm−MES)を34g得た。
[0078]
実施例6
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマー、PES−Pm−MPSの製造を例示する。
[0079]実施例1による40gのPES−Pg/PolyAGEを、80℃で、DMAc(250mL)に溶かした。ポリマーが完全に溶解した後で、溶液を窒素で5分間パージした。メルカプトプロパンスルホン酸ナトリウム塩(25g)及び2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸(500mg)を加え、反応混合物を80℃で終夜撹拌した。高温の反応混合物を、IPA(750mL)に滴下して加えることによって析出を起こした。析出物を、IPA中で、さらに2時間撹拌し、濾過し、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥した。プロトンNMR分光法によって求めて、PESが61mol%、メルカプトプロパンスルホン酸が36mol%、アリル基が3mol%である、所望の生成物(PES−Pm−MPS)を48g得た。
[0080]
実施例7
この実施例は、本発明の実施形態による別のブロックコポリマー、PES−Pm−MAAの製造を例示する。
実施例1による20gのPES−Pg/PolyAGEを、80℃で、DMAc(100mL)に溶かした。ポリマーが完全に溶解した後で、溶液を窒素で5分間パージした。メルカプト酢酸ナトリウム(15g)及び2,2’−アゾビス(2−メチルプロピオンアミジン)二塩酸(200mg)を加え、反応混合物を80℃で終夜撹拌した。高温の反応混合物を、エタノール(550mL)に滴下して加えることによって析出を起こした。析出物を、エタノール中で、さらに2時間撹拌し、濾過し、真空オーブン中、50℃で終夜乾燥した。プロトンNMR分光法によって求めて、PESが61mol%、メルカプト酢酸が38mol%である、所望の生成物(PES−Pm−MAA)を22g得た。遊離のアリル基は認められなかった。
[0081]出版物、特許出願、及び特許を含めて、本明細書において挙げられた全ての参考文献は、これによって、あたかも各参考文献が、参照によって組み込まれると、個々に、明確に指摘され、またその全体が本明細書に記載されているのと同じ程度に、参照によって組み込まれる。
[0082]用語「ある1つの(「a」及び「an」)」及び「この」及び「少なくとも1つの」並びに本発明の記載に関連する類似の指示(特に、後の特許請求の範囲に関連して)は、本明細書において特に断らなければ、又は関連を考慮することよって明瞭に矛盾するのでなければ、単数及び複数の両方を包含すると解釈されるべきである。1つ又は複数の項目の列挙を従える用語「少なくとも1つの」(例えば、「少なくとも1つのA及びB」)の使用は、本明細書において特に断らなければ、又は関連を考慮することよって明瞭に矛盾するのでなければ、列挙された項目から選択される1つの項目(A又はB)、又は列挙された項目の2つ以上の任意の組合せ(A及びB)を意味すると解釈されるべきである。用語「含む」、「有する」、「包含する」、及び「含有する」は、特に断らなければ、オープンエンドな用語(すなわち、「含むが、限定されない」を意味する)と解釈されるべきである。本明細書における値の範囲の記述は、本明細書において特に断らなければ、その範囲内に入る別個の値の各々を個別に挙げることの速記法として使えることを意図しているにすぎず、別個の値の各々は、本明細書において個別に挙げられたかの如くに、本明細書に組み込まれる。本明細書において記載された方法は、本明細書において特に断らなければ、又は関連を考慮することよって明瞭に矛盾するのでなければ、適切な任意の順序で実施され得る。本明細書に記載された、いずれかの及び全ての例、又は例示の用語(例えば、「例えば」、「のような」)の使用は、単に、本発明をよりよく明らかにしようとするにすぎず、特に断らなければ、本発明の範囲を限定しない。本明細書における如何なる用語も、何らかの非請求要素(non−claimed element)を、本発明の実施にとって本質的であるとして指示していると解釈されるべきではない。
[0083]本発明の好ましい実施形態が、本発明の実施にとって本発明者等に知られている最善の様式を含めて、本明細書に記載されている。好ましいこれらの実施形態の変形形態が、上記の記述を読むと、当業者には明らかとなり得る。本発明者等は、当業者が、このような変形形態を適切であるとして用いることを予期し、本発明者等は、本発明が、本明細書において具体的に記載されたものとは別の仕方で実施されることを意図する。したがって、本発明は、適用される法律によって許されているとして、本明細書に添付される特許請求の範囲において挙げられる主題の全ての改変及び同等のものを含む。さらに、上述した要素の、それらの全ての可能な変形形態における、任意の組合せは、本明細書において特に断らなければ、又は関連を考慮することよって明瞭に矛盾するのでなければ、本発明によって包含される。

Claims (18)

  1. ブロックAが、
    (i)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有し、グリシジル基が開環している前記コポリマー;又は
    (ii)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、グリシジル基が開環しており、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択される)の基で置き換えられた前記コポリマーであり、
    ブロックBが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択される芳香族疎水性ポリマーセグメントである、
    式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマー。
  2. ブロックAが、(i)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有し、グリシジル基が開環している前記コポリマーである、請求項1に記載のブロックコポリマー。
  3. ブロックAが、(ii)グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、グリシジル基が開環しており、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択される)の基で置き換えられた、請求項1に記載のブロックコポリマー。
  4. Xとして、酸性基がスルホン酸又はカルボン酸であり、塩基性基が、アミノ基、アルキルアミノ基、又はジアルキルアミノ基であり、カチオンが、第4級アンモニウム基であり、両性イオンが、式:−N(R)(CHSO (式中、R及びRはアルキル基であり、cは1〜3である)の第4級アンモニウムアルキルスルホネート基である、請求項1〜3のいずれか一項記載のブロックコポリマー。
  5. 芳香族疎水性ポリマーセグメントがポリエーテルスルホンである、請求項1〜4のいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  6. ブロックAが、分岐状コポリマーである、請求項1〜のいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  7. 次の構造:
    Figure 0006124159

    (式中、nは、1〜1000である)
    を有する、請求項1〜2及び4〜のいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  8. 次の構造:
    Figure 0006124159

    (式中、Rは、アリル又は−(CH−Xであり、bは1〜3であり、nは、1〜1000である)
    を有する、請求項1、3〜、及びのいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  9. Rが、−(CH−Xである、請求項に記載のブロックコポリマー。
  10. Xが、アミノ、ジメチルアミノ、−CHCHSOH、−CHCHCHSOH、−CHCOH、及び−CHCH(CH、並びにこれらの組合せから選択される、請求項又はに記載のブロックコポリマー。
  11. ブロックAが20%〜50mol%の量で存在し、ブロックBが50%〜80mol%の量で存在する、請求項1〜10のいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  12. 次の構造:
    Figure 0006124159

    Figure 0006124159

    (式中、nは、1〜1000である)
    の1つを有する、請求項1及び3〜11のいずれか一項に記載のブロックコポリマー。
  13. ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を有し、グリシジル基が開環している前記コポリマーであり、ブロックBが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択される芳香族疎水性ポリマーセグメントである、式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーを製造する方法であって、
    (i)ヒドロキシ、メルカプト、及びアミノ基から選択される1つ又は複数の末端官能基を有し、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択される芳香族疎水性ポリマーセグメントを用意するステップ;及び
    (ii)芳香族疎水性ポリマーセグメントでアリルグリシジルエーテル及びグリシドールの開環重合を実施するステップ
    を含む、前記方法。
  14. ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、グリシジル基が開環しており、コポリマーの1つ又は複数のアリル基が、1,2−ジヒドロキシプロピル基、又は式:−(CH−S−(CH−X(式中、aは3であり、bは1〜3であり、Xは、酸性基、塩基性基、カチオン、アニオン、両性イオン、ハロ、ヒドロキシル、アシル、アシルオキシ、アルキルチオ、アルコキシ、式:−C(H)(COOH)(NH)の基、及び式:−C(H)(COOH)(NHAc)の基、若しくはこれらの塩から選択される基である)の基で置き換えられており;
    Bが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択される芳香族疎水性ポリマーセグメントである;
    式:A−B−A(I)又はA−B(II)のブロックコポリマーを製造する方法であって、
    (i)ブロックAが、グリシドールとアリルグリシジルエーテルのコポリマーであって、1つ又は複数のアリル基を含み、グリシジル基が開環している前記コポリマーであり、ブロックBが、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンオキシド、ポリカーボネート、ポリ(フタラジノンエーテルスルホンケトン)、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンケトン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、及びポリアミド−イミドから選択される芳香族疎水性ポリマーセグメントを含む、式:A−B−A(Ia)又はA−B(IIa)のブロックコポリマーを用意するステップ;及び
    (ii)式(Ia)又は(IIa)のブロックコポリマーと、酸化剤、カルボキシルアルカンチオール又はその塩、スルホン基含有アルカンチオール又はその塩、(ジアルキルアミノ)アルカンチオール又はその塩、ハロアルカンチオール、ヒドロキシアルカンチオール、アシルアルカンチオール、アルコキシアルカンチオール、アルキルチオアルカンチオール、アルデヒドアルカンチオール、アミドアルカンチオール、カルバモイルアルカンチオール、ウレイドアルカンチオール、シアノアルカンチオール、ニトロアルカンチオール、エポキシアルカンチオール、システイン、アシルシステイン、アミノアルカンチオール又はその塩、アルキルアミノアルカンチオール、ジアルキルアミノアルカンチオール、及びスルホン基含有アルキルアンモニウムアルカンチオール又はその塩から選択される反応剤とを反応させるステップ
    を含む、前記方法。
  15. 芳香族疎水性ポリマーセグメントがポリエーテルスルホンである、請求項14に記載の方法。
  16. 芳香族疎水性ポリマーセグメントBが、次の式:
    Figure 0006124159

    (式中、nは、1〜1000である)
    を有する、請求項1315のいずれか一項に記載の方法。
  17. 開環重合が、塩基の存在下で実施される、請求項1316のいずれか一項に記載の方法。
  18. 塩基が、炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸セシウム、ナトリウムtert−ブトキシド、カリウムtert−ブトキシド、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化アンモニウム、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸バリウム、水酸化バリウム、水酸化セシウム、炭酸リチウム、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、ナトリウムアミド、リチウムアミド、及びこれらの組合せから選択される、請求項17に記載の方法。
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