JP6120591B2 - ブロックコポリマーおよびそれに関連する方法 - Google Patents
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Description
基体の表面に適用される場合には、本発明のコポリマー組成物は所定の処理温度でアニールして従来のケイ素含有ポリマー、例えば、PS−b−PDMSを用いて得られるものと比べて欠陥構造を低下させる向上した能力を示す。さらに、本発明のコポリマー組成物のポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)ドメインへの無機部分の組み込みは、有機成分を除去するために、堆積されたコポリマー組成物を処理する際に耐エッチング物質(例えば、マスク)に変換可能である。本発明のコポリマー組成物は周期的なナノ構造、例えば、ライン/スペースパターンをケイ素含有基体上に、例えば、20〜40nmの範囲で形成するのに使用される誘導自己組織化適用物における熱処理を可能にするための有意な価値を提供する。
2リットルのガラス反応器内に、窒素雰囲気下で、シクロヘキサン(1,500g)が入れられた。次いで、カニューレを介して、この反応器にスチレン(50.34g)が入れられた。次いで、この反応器の内容物は40℃に加熱された。次いで、この反応器に、シクロヘキサン中で0.32Mの濃度に希釈されたsec−ブチルリチウム(19.18g)がカニューレを介して、素早く添加され、反応器内容物が黄色に変わった。この反応器の内容物は30分間攪拌された。次いで、この反応器の内容物は30℃に冷却された。次いで、エチレンオキシド(0.73g)がこの反応器に移された。この反応器の内容物は15分間攪拌された。次いで、メタノール中の1.4M HCl溶液20mLがこの反応器に入れられた。ついで、この反応器中のポリマーが、イソプロパノール中で、500mLのポリマー溶液対1,250mLのイソプロパノールの比率で、沈殿させられることによって、分離された。次いで、得られた沈殿はろ過され、真空オーブン内で60℃で一晩乾燥させられて、生成物であるヒドロキシル末端化ポリスチレン42gを生じさせた。この生成物であるヒドロキシル末端化ポリスチレンは数平均分子量MN7.4kg/mol、および多分散度PD 1.07を示した。
500mLの3つ口丸底反応器に、アルゴン雰囲気下で、シクロヘキサン(90mL)およびスチレン(18.4g)が入れられた。次いで、この反応器の内容物は40℃に暖められた。次いで、シクロヘキサン中のsec−ブチルリチウムの1.4M溶液の0.5mLショットがこの反応器に、カニューレを介して素早く添加され、反応器の内容物が黄橙色に変化した。この反応器内容物は30分間攪拌された。次いで、形成されたポリスチレンブロックのゲル浸透クロマトグラフィ分析のために、この反応器内容物の少量がこの反応器から取り出されて、無水メタノールを収容している小さな丸底フラスコに入れられた。次いで、2,2,5,5−テトラメチルジシラフラン(337mg)がこの反応器に添加された。ゆっくりと、この橙色が薄くなった。1時間後、反応器の内容物は薄黄色であった。次いで、新たに昇華させられたジメチルシロキサン(10.1g)がこの反応器にカニューレを介して移された。反応器内容物が無色になるまで、この反応器内容物は1.5時間にわたって反応させられた。次いで、乾燥テトラヒドロフラン(90mL)がこの反応器に添加され、そしてこの反応は3.25時間にわたって進められた。次いで、クロロトリメチルシラン(1mL)がこの反応器に添加されてこの反応をクエンチした。生成物は500mLのメタノール中で沈殿させられ、ろ過することによって分離された。追加のメタノールで洗浄した後で、このポリマーは150mLの塩化メチレンに再溶解させられ、脱イオン水で3回洗浄され、次いで500mLのメタノール中で再沈殿させられた。次いで、このポリマーはろ過され、真空オーブン内で70℃で一晩乾燥させられて、22.1gを得た。このポリ(スチレン)−b−ポリ(ジメチルシロキサン)ブロックコポリマー(PS−b−PDMS)生成物は、数平均分子量MN35.8kg/mol、多分散度PD 1.01、および25.0重量%のPDMS含有量(1H NMRで決定)を示した。
500mLの3つ口丸底反応器に、アルゴン雰囲気下で、テトラヒドロフラン(THF)(113g)が入れられた。次いで、このTHFは反応器内で−78℃まで冷却された。次いで、この反応器の内容物はシクロヘキサン中のsec−ブチルリチウムの0.36M溶液で、反応器の内容物が持続する薄黄色を示すまで、滴定された。次いで、この内容物の色が完全に消失するまで(約10〜15分間)、この反応器の内容物は30℃まで暖められ、30℃に維持された。次いで、シクロヘキサン(2.278g)中に希釈された1,1−ジフェニルエチレン(0.116g)がカニューレを介してこの反応器に移された。次いで、反応器の内容物は−78℃まで冷却された。次いで、シクロヘキサンで0.065Mの濃度に希釈されたsec−ブチルリチウム(6.15g)がこの反応器にカニューレを介して素早く添加され、反応器内容物が暗ルビー赤色に変わった。この反応器内容物は10分間攪拌された。次いで、シクロヘキサン(5.31g)中のメタクリル酸メチル(11.53g)がこの反応器にカニューレを介して移され、反応器内容物の色が消失した。この反応器内容物は、このメタクリル酸メチルの反応器への添加の1分以内に21℃の温度上昇を示した。次いで、反応器の内容物は−78℃まで冷却され、そして反応器内容物はさらに60分間攪拌された。次いで、形成されたポリメタクリル酸メチル(PMMA)ブロックのゲル浸透クロマトグラフィ分析のために、この反応器内容物の少量が取り出された。次いで、シクロヘキサン(4.86g)に希釈されたメタクリル酸(トリメチルシリル)メチル(TMSMMA)(4.52g)がカニューレを介してこの反応器に移された。この反応器へのTMSMMAの添加の2分以内に、反応器内容物は−69℃まで暖まり、その後−78℃まで冷却した。この反応器内容物はさらに2.5時間にわたって攪拌され、その後、この反応はこの反応器に無水メタノールを添加することによりクエンチされた。次いで、この反応器内容物は1リットルのメタノール中で沈殿させられた。この生成物固体は真空ろ過によって集められた。追加のメタノールで洗浄した後で、このポリマーは150mLの塩化メチレンに再溶解させられ、脱イオン水で2回洗浄され、次いで1リットルのメタノール中で再沈殿させられた。次いで、このポリマーはろ過され、真空オーブン内で60℃で一晩乾燥させられて、15.1gを得た。この生成物であるポリ(メタクリル酸メチル)−b−ポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)ブロックコポリマー(PMMA−b−PTMSMMA)は、重量平均分子量Mw 31.4kg/mol、多分散度PD 1.21、および30重量%のポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)含有量(1H NMRで決定)を示した。
500mLの3つ口丸底反応器に、アルゴン雰囲気下で、テトラヒドロフラン(THF)(142g)が入れられた。次いで、このTHFは反応器内で−78℃まで冷却された。次いで、この反応器の内容物はシクロヘキサン中のsec−ブチルリチウムの0.36M溶液で、反応器の内容物が持続する薄黄色を示すまで、滴定された。次いで、この内容物の色が完全に消失するまで(約10〜15分間)、この反応器の内容物は30℃まで暖められ、30℃に維持された。次いで、シクロヘキサン(1.63g)中に希釈された1,1−ジフェニルエチレン(0.086g)がカニューレを介してこの反応器に移された。次いで、反応器の内容物は−78℃まで冷却された。次いで、シクロヘキサンで0.065Mの濃度に希釈されたsec−ブチルリチウム(4.5g)がこの反応器にカニューレを介して素早く添加され、反応器内容物が暗ルビー赤色に変わった。この反応器内容物は21分間攪拌された。次いで、シクロヘキサン(17.81g)中のメタクリル酸メチル(11.5g)がこの反応器にカニューレを介して移され、反応器内容物の色が消失した。この反応器内容物は、このメタクリル酸メチルの反応器への添加の1分以内に15〜20℃の温度上昇を示した。次いで、反応器の内容物は−78℃まで冷却され、そして反応器内容物はさらに30分間攪拌された。次いで、形成されたポリメタクリル酸メチル(PMMA)ブロックのゲル浸透クロマトグラフィ分析のために、この反応器内容物の少量が取り出された。次いで、シクロヘキサン(10.26g)に希釈されたメタクリル酸(トリメチルシリル)メチル(TMSMMA)(4.27g)がカニューレを介してこの反応器に移された。この反応器へのTMSMMAの添加の2分以内に、反応器内容物は−70℃まで暖まり、その後−78℃まで冷却した。この反応器内容物はさらに3.75時間にわたって攪拌され、その後、この反応はこの反応器に無水メタノールを添加することによりクエンチされた。この反応器内容物は1リットルのメタノール中で沈殿させられた。この生成物固体は真空ろ過によって集められた。追加のメタノールで洗浄した後で、このポリマーは150mLの塩化メチレンに再溶解させられ、脱イオン水で2回洗浄され、次いで1リットルのメタノール中で再沈殿させられた。次いで、このポリマーはろ過され、真空オーブン内で60℃で一晩乾燥させられて、15.1gを得た。この生成物であるポリ(メタクリル酸メチル)−b−ポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)ブロックコポリマー(PMMA−b−PTMSMMA)は、重量平均分子量Mw 42.0kg/mol、多分散度PD 1.18、および28重量%のポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)含有量(1H NMRで決定)を示した。
基体は、自然酸化物層を有するシリコンウェハから小片(〜1”×1”)を切り出すことによって準備された。実施例1に従って製造されたヒドロキシル末端化ポリスチレンブラシがトルエン中に溶かされて、1.5重量%のブラシ溶液を形成した。次いで、このブラシ溶液は3,000rpmで1分間それぞれの基体上にスピンコートされた。次いで、堆積されたブラシ層は、150℃にセットされたホットプレート上にその基体を1分間配置することによってベークされた。この堆積されたブラシ層は次いで、250℃にセットされた別のホットプレート上に窒素雰囲気下で20分間配置することによってアニールされた。この基体は、次いで、室温まで冷却された。次いで、この基体はトルエン中に1分間浸漬された。次いで、この基体は3,000rpmで1分間回転乾燥させられた。次いで、この基体は110℃にセットされたホットプレート上に1分間配置され、次いで使用されるまで、窒素下で貯蔵された。
比較例1に従って製造されたPS−b−PDMSブロックコポリマーがプロピレングリコールメチルエーテルアセタート(PGMEA)(ダウアノール(Dowanol(登録商標))PMA、ザダウケミカルカンパニーから入手可能)に溶解させられて、1.6重量%の溶液を形成した。次いで、この溶液は0.2μmのワットマンシリンジフィルタを用いて手作業でろ過された。次いで、このろ過された溶液は実施例4に従って準備された基体のポリスチレンブラシ処理表面上に、2,370rpmでスピンコートされて、41.5nmのPS−b−PDMSフィルムを形成した。次いで、基体は150℃にセットされたホットプレート上に1分間置かれてこのフィルムをベークした。次いで、この基体は、50psigの窒素下で、250℃にセットされた別のホットプレート上に1時間にわたって置かれて、PS−b−PDMSフィルムをアニールした。
実施例5〜8のそれぞれにおいて、実施例2に従って製造されたPMMA−b−PTMSMMAブロックコポリマーがトルエンに溶解させられて、1.5重量%の溶液を形成した。次いで、この溶液は0.2μmのワットマンシリンジフィルタを用いて手作業でろ過された。次いで、このろ過された溶液は実施例4に従って準備された基体のポリスチレンブラシ処理表面上に、1,980rpmでスピンコートされて、45nmのPMMA−b−PTMSMMAフィルムを形成した。次いで、基体は150℃にセットされたホットプレート上に1分間置かれてこのフィルムをベークした。次いで、この基体は、25psigの窒素下で、250℃にセットされた別のホットプレート上に、表1に示される時間量にわたって置かれた。
実施例9においては、実施例3に従って製造されたPMMA−b−PTMSMMAブロックコポリマーがトルエンに溶解させられて、1.5重量%の溶液を形成した。次いで、この溶液は0.2μmのワットマンシリンジフィルタを用いて手作業でろ過された。次いで、このろ過された溶液は実施例4に従って準備された基体のポリスチレンブラシ処理表面上に、1,700rpmでスピンコートされて、56.3nmのPMMA−b−PTMSMMAフィルムを形成した。次いで、基体は150℃にセットされたホットプレート上に1分間置かれてこのフィルムをベークした。次いで、この基体は、25psigの窒素下で、250℃にセットされた別のホットプレート上に1時間にわたって置かれた。
実施例10においては、実施例3に従って製造されたPMMA−b−PTMSMMAブロックコポリマーがトルエンに溶解させられて、1.7重量%の溶液を形成した。次いで、この溶液は0.2μmのワットマンシリンジフィルタを用いて手作業でろ過された。次いで、このろ過された溶液は実施例4に従って準備された基体のポリスチレンブラシ処理表面上に、1,925rpmでスピンコートされて、55.2nmのPMMA−b−PTMSMMAフィルムを形成した。次いで、基体は150℃にセットされたホットプレート上に1分間置かれてこのフィルムをベークした。次いで、この基体は、25psigの窒素下で、290℃にセットされた別のホットプレート上に1時間にわたって置かれた。
Claims (10)
- 基体を提供し;
ポリ(メタクリル酸メチル)ブロックおよびポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)ブロックを有するブロックコポリマーを含み、
前記ブロックコポリマーが1〜1,000kg/molの数平均分子量(M N )を示し、かつ
前記ブロックコポリマーが1〜2の多分散度(PD)を示すコポリマー組成物を提供し;
前記コポリマー組成物のフィルムを前記基体に適用し;
前記フィルムをアニールし;
前記アニールされたフィルムから前記ポリ(メタクリル酸メチル)を除去し、かつアニ
ールされたフィルム中の前記メタクリル酸(トリメチルシリル)メチルをSiOxに変換
するように前記アニールされたフィルムを処理する;
ことを含む、基体上にパターン化SiOxフィルムを形成する方法。 - 前記ブロックコポリマーが10〜100nmのフィルムピッチ(L 0 )を示す、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーが20〜40nmのフィルムピッチ(L 0 )を示す、請求項1に記載の方法。
- 前記ブロックコポリマーがポリ(メタクリル酸メチル)−b−ポリ(メタクリル酸(トリメチルシリル)メチル)ジブロックコポリマーである、請求項1に記載の方法。
- 前記ジブロックコポリマーが0.69〜0.83のポリ(メタクリル酸メチル)重量分率(Wf PMMA )を有する、請求項4に記載の方法。
- 前記ジブロックコポリマーが0.39〜0.69未満のポリ(メタクリル酸メチル)重量分率(Wf PMMA )を有する、請求項4に記載の方法。
- 前記ジブロックコポリマーが0.23〜0.39未満のポリ(メタクリル酸メチル)重量分率(Wf PMMA )を有する、請求項4に記載の方法。
- 前記コポリマー組成物が溶媒をさらに含み、前記溶媒がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセタート(PGMEA)、エトキシエチルプロピオナート、アニソール、乳酸エチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン(GBL)、n−メチルピロリドン(NMP)およびトルエンからなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記コポリマー組成物が添加剤をさらに含み、前記添加剤が追加のポリマー、界面活性剤、酸化防止剤、光酸発生剤、熱酸発生剤、クエンチャー、硬化剤、接着促進剤、溶解速度調節剤、光硬化剤、光増感剤、酸増幅剤、可塑剤、配向制御剤および架橋剤からなる群から選択される、請求項1に記載の方法。
- 前記コポリマー組成物の前記フィルムを前記基体に適用後、前記フィルムをアニールする前に、前記フィルムをベークすることをさらに含む、請求項1に記載の方法。
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