JP6119886B1 - 超純水製造装置および超純水製造装置の運転方法 - Google Patents

超純水製造装置および超純水製造装置の運転方法 Download PDF

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Abstract

【課題】 ホウ素を効率的に除去して、そのリークを迅速に予防可能な超純水製造装置を提供する。【解決手段】 超純水製造装置1は、一次純水システム2とサブシステム3とを備える。一次純水システム2は、逆浸透膜(RO)装置4及び再生型混床式イオン交換装置5を有し、この再生型混床式イオン交換装置5の後段には、ホウ素濃度測定手段としてのホウ素モニタ6と電気脱イオン装置7とを備える。サブシステム3は、UV酸化装置9と非再生型混床式イオン交換装置10と限外ろ過膜11とを有する。そして、ホウ素モニタ6により一次純水W1のホウ素濃度を連続監視し、一次純水W1のホウ素濃度〔B〕と、電気脱イオン装置7のホウ素除去率の積を処理水W2のホウ素濃度〔B1〕と擬制して、サブシステム3への供給水のホウ素濃度を連続的に監視する。【選択図】 図1

Description

本発明は半導体、液晶等の電子産業分野で利用される超純水を製造する超純水製造装置およびこの超純水製造装置の運転方法に関する。特に、ホウ素を効率的に除去して、そのリークを予防可能な超純水製造装置およびその運転方法に関する。
従来、半導体等の電子産業分野で用いられている超純水は、前処理システム、一次純水システム及び一次純水を処理するサブシステムで構成される超純水製造装置で原水を処理することにより製造されている。
この超純水製造装置において、前処理システムは、凝集、加圧浮上(沈殿)、濾過(膜濾過)装置などにより構成され、原水中の懸濁物質やコロイド物質の除去を行う。この過程では高分子系有機物、疎水性有機物などを除去することもできる。また、一次純水システムは、基本的に逆浸透(RO)膜分離装置及び再生型イオン交換装置(混床式又は4床5塔式など)を備え、RO膜分離装置では、塩類を除去すると共に、イオン性、コロイド性のTOCを除去する。再生型イオン交換装置では、塩類を除去すると共にイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換することによりTOC成分の除去を行う。
さらに、サブシステムは、基本的に低圧紫外線(UV)酸化装置、及び非再生型混床式イオン交換装置及び限外濾過(UF)膜分離装置を備え、一次純水の純度をより一層高めて超純水にする。低圧UV酸化装置では、低圧紫外線ランプより出される185nmの紫外線によりTOCを有機酸、さらにはCOにまで分解する。そして、分解により生成した有機物及びCOは後段の非再生型混床式イオン交換装置で除去される。UF膜分離装置では、微粒子が除去され、イオン交換樹脂の流出粒子も除去される。
このような従来の超純水製造装置のサブシステムでは、一次純水システムから弱イオン成分、特にホウ素イオンがリークしてきたら非再生型混床式イオン交換装置で除去しているが、非再生型混床式イオン交換装置は、ある程度ホウ素イオンを吸着したら交換する必要がある。近年、超純水に求められるホウ素濃度は0.1ppt以下とますます低くなっており、非再生型混床式イオン交換装置では低濃度域でのホウ素の除去効率が悪いので、ホウ素の要求水質を確実に維持するためには非再生型混床式イオン交換装置を早めに交換する必要があり、その交換頻度が短くなってしまう、という問題点があった。そこで、特許文献1に記載されているようにサブシステム中に電気脱イオン装置を設けることが考えられる。
特開平7−8948号公報
しかしながら、特許文献1に記載されているようにサブシステム中に電気脱イオン装置を設けた場合、サブシステムでは超純水に近い高純度の水を処理することになるので、電気が流れにくく脱イオンのための電気抵抗が大きくなってしまうため電流効率が悪く、電気脱イオン装置にかかる負荷も大きくなる、という問題点がある。また、電気脱イオン装置は、その耐圧性を考慮して被処理水の供給圧をあまり大きくできないうえに、処理水の吐出圧力は供給圧よりさらに小さくなるので、電気脱イオン装置の後段での処理が不安定となるため水質の安定性が確保できない上に、ユースポイントにまで超純水を供給するには水圧不足となる、という問題点がある。そこで、電気脱イオン装置の後段に別途ブースターポンプなどの供給装置を設けたりしているが、ブースターポンプからの溶出物の処理を配慮する必要があり、サブシステムの大型化を招きやすい、という問題点がある。
さらに、超純水製造装置をどのような構成とした場合であっても、サブシステムから供給される超純水へのホウ素のリークを素早く検知する必要があるが、0.1pptレベルのホウ素濃度をオンサイトで測定する手段がないため、その検知が困難である、という問題点がある。
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、ホウ素を効率的に除去して、そのリークを迅速に予防可能な超純水製造装置を提供することを目的とする。また、本発明はこの超純水製造装置の運転方法を提供することを目的とする。
上記目的に鑑み、本発明は第一に、一次純水システムと、該一次純水システムから得られた一次純水を処理するイオン交換装置及びUF膜装置を備えたサブシステムとを有する超純水製造装置において、前記一次純水システムの後段で前記サブシステムの前段にホウ素濃度測定手段と電気脱イオン装置とを備える超純水製造装置を提供する(発明1)。
かかる発明(発明1)によれば、あらかじめ一次純水に対する電気脱イオン装置のホウ素除去率を計測しておき、一次純水のホウ素濃度をホウ素濃度測定手段で連続監視する。汎用的なホウ素モニタなどのホウ素検知手段のホウ素の検知レベルは10ppb、読値で1ppbレベルであり、ホウ素濃度測定手段で検知されたホウ素濃度に電気脱イオン装置のホウ素除去率をかけたものを電気脱イオン装置の処理水のホウ素濃度と擬制することができる。そして、サブシステムで処理した超純水のホウ素濃度は、少なくともこの電気脱イオン装置の処理水よりも小さくなるので、サブシステムで処理された超純水のホウ素濃度を電気脱イオン装置処理水のホウ素濃度を基準に判断し、一次純水のホウ素濃度が安定していれば連続運転を継続して、適宜サブシステムの処理水(超純水)のホウ素濃度を精密分析して、その上昇率が大きくなったら、サブシステムのイオン交換装置の破過が近いと判断して、これを交換することで、ホウ素を効率的に除去することができるとともに、ホウ素のリークを迅速に予防することができる。
上記発明(発明1)においては、前記一次純水システムが、逆浸透膜装置及びイオン交換装置を有するのが好ましい(発明2)。
かかる発明(発明2)によれば、一次純水システムにおいて、ホウ素を効率よく除去することができる。
上記発明(発明1,2)においては、前記電気脱イオン装置が、陰極及び陽極と、該陰極及び陽極の間に配置されたカチオン交換膜及びアニオン交換膜と、これらカチオン交換膜及びアニオン交換膜により区画形成された脱塩室及び濃縮室とを備え、前記脱塩室及び前記濃縮室にイオン交換体が充填されていて、前記濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と前記脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有するのが好ましい(発明3)。
かかる発明(発明3)によれば、このような構成を有する電気脱イオン装置は、ホウ素の除去率が高く、ほぼ一定の除去率を維持することができるので、ホウ素濃度測定手段で検知されたホウ素の濃度に電気脱イオン装置のホウ素除去率をかけたものを電気脱イオン装置の処理水のホウ素濃度として精度よく擬制することができる。
上記発明(発明3)においては、前記濃縮水通水手段が、前記脱塩室を通水した脱イオン水を濃縮水として通水するのが好ましい(発明4)。
かかる発明(発明4)によれば、脱塩室を通水した脱イオン水を濃縮室に通水することにより、脱塩水自体イオン成分が微量であるため、濃縮室と脱塩室のイオン濃度の格差を低減することができ、ホウ素の除去率を高くすることができるので、サブシステムのイオン交換装置を長期間交換する必要がない。
上記発明(発明4)においては、前記濃縮水通水手段が、前記濃縮水を前記脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から該濃縮室内に導入すると共に、脱塩室の原水入口に近い側から流出するのが好ましい(発明5)。
かかる発明(発明5)によれば、電気脱イオン装置は、脱塩室では脱イオン水取り出し口に近い側に向かうほどイオン濃度は低減するので、これとは逆に脱イオン水取り出し口に近い側から脱イオン水を濃縮室に供給することで、脱塩室と濃縮室のイオン濃度の格差を脱塩室と濃縮室の全域において縮小することができ、ホウ素イオンの除去率の向上効果が大きいため、ホウ素の除去率をさらに高くすることができるので、サブシステムのイオン交換装置を長期間交換する必要がない。
また、本発明は第二に、一次純水システムと、該一次純水システムから得られた一次純水を処理するイオン交換装置及びUF膜装置を備えたサブシステムとを有し、前記一次純水システムの後段で前記サブシステムの前段にホウ素濃度測定手段と電気脱イオン装置とを備えた超純水製造装置の運転方法であって、被処理水を一次純水システム及びサブシステムを連続して通水して超純水を製造するに際し、前記電気脱イオン装置のホウ素イオンの除去率と前記ホウ素濃度測定手段により測定されたホウ素濃度とから前記サブシステムのイオン交換装置の交換の要否を判断することを特徴とする超純水製造装置の運転方法を提供する(発明6)。
かかる発明(発明6)によれば、あらかじめ一次純水に対する電気脱イオン装置のホウ素除去率を計測しておき、一次純水のホウ素濃度をホウ素濃度測定手段で連続監視する。汎用的なホウ素モニタなどのホウ素検知手段のホウ素の検知レベルは10ppb、読値で1ppbレベルであり、ホウ素濃度測定手段で検知されたホウ素濃度に電気脱イオン装置のホウ素除去率をかけたものを電気脱イオン装置の処理水のホウ素濃度と擬制し、このホウ素濃度と、前記サブシステムの超純水のホウ素濃度とからイオン交換装置の交換の要否を判断することができる。
上記発明(発明6)においては、前記一次純水システムが、逆浸透膜装置及びイオン交換装置を有するのが好ましい(発明7)。
かかる発明(発明7)によれば、一次純水システムにおいて、ホウ素を効率よく除去することができる。
上記発明(発明6,7)においては、前記電気脱イオン装置が、陰極及び陽極と、該陰極及び陽極の間に配置されたカチオン交換膜及びアニオン交換膜と、これらカチオン交換膜及びアニオン交換膜により区画形成された脱塩室及び濃縮室とを備え、前記脱塩室及び前記濃縮室にイオン交換体が充填されていて、前記濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と前記脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有するのが好ましい(発明8)。
かかる発明(発明8)によれば、脱塩室を通水した脱イオン水を濃縮室に通水することにより、脱塩水自体イオン成分が微量であるため、濃縮室と脱塩室のイオン濃度の格差を低減することができるので、ホウ素の除去率を高くすることができるので、サブシステムのイオン交換装置を長期間交換する必要がない。
上記発明(発明8)においては、前記濃縮水通水手段が、前記濃縮水として前記脱塩室を通水した処理水の一部を導入するのが好ましい(発明9)。
かかる発明(発明9)によれば、脱塩室を通水した脱イオン水を濃縮室に通水することにより、脱塩水自体イオン成分が微量であるため、濃縮室と脱塩室のイオン濃度の格差を低減することができ、ホウ素の除去率を高くすることができるので、サブシステムのイオン交換装置を長期間交換する必要がない。
上記発明(発明9)においては、前記濃縮水を前記濃縮室の前記脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から導入すると共に、前記濃縮室の前記脱塩室の原水入口に近い側から流出させるのが好ましい(発明10)。
かかる発明(発明10)によれば、電気脱イオン装置は、脱塩室では脱イオン水取り出し口に近い側に向かうほどイオン濃度は低減するので、これとは逆に脱イオン水取り出し口に近い側から脱イオン水を濃縮室に供給することで、脱塩室と濃縮室のイオン濃度の格差を脱塩室と濃縮室の全域において縮小することができ、ホウ素イオンの除去率の向上効果が大きいために、ホウ素の除去率をさらに高くすることができるので、サブシステムのイオン交換装置を長期間交換する必要がない。
本発明によれば、一次純水システムの後段にホウ素濃度測定手段と電気脱イオン装置とを設けて、一次純水のホウ素濃度をホウ素濃度測定手段で連続監視して、このホウ素濃度測定手段で測定されたホウ素濃度に電気脱イオン装置のホウ素除去率をかけたものを電気脱イオン装置の処理水のホウ素濃度と擬制し、この電気脱イオン装置処理水のホウ素濃度を基準として、サブシステムで処理された二次純水(超純水)のホウ素濃度の実測値と比較して、実測値が所定の値より大きくなったら、サブシステムのイオン交換装置を交換することで、サブシステムのイオン交換装置をホウ素のリークを招くことなく、かつ効率よく交換することができる。
本発明の第一の実施形態に係る超純水製造装置を示すフロー図である。 同実施形態に係る超純水製造装置に用いる電気脱イオン装置の構成を示す模式的な断面図である。 図2の電気脱イオン装置を示す系統図である。 本発明の第二の実施形態に係る超純水製造装置を示すフロー図である。
以下、本発明の第一の実施形態に係る超純水製造装置について添付図面を参照して説明する。
図1は本発明の第一の実施形態による超純水製造装置を示すフロー図であり、図1において、超純水製造装置1は、一次純水システム2とサブシステム3とを備え、一次純水システム2は、逆浸透膜(RO)装置4及び再生型混床式イオン交換装置5を有し、この再生型混床式イオン交換装置5の後段には、ホウ素濃度測定手段としてのホウ素モニタ6と電気脱イオン装置7とを有し、この電気脱イオン装置7は、窒素シールしたサブタンク8を介してサブシステム3に接続している。そして、サブシステム3は、サブタンク8と供給ポンプPとUV酸化装置9と非再生型混床式イオン交換装置10と限外ろ過膜(UF膜)11とを有し、限外ろ過膜(UF膜)11からユースポイントUPを経由してサブタンク8に還流する構成となっている。
この超純水製造装置1において、ホウ素モニタ6としては、ホウ素濃度10ppbレベル、読値で1ppbレベルの測定が可能な汎用的なホウ素モニタを用いることができ、例えば、セントラル科学(株)販売、SIEVERS超純水測定オンラインホウ素分析計を用いることができる。
また、電気脱イオン装置7としては、図2及び図3に示すような構成を有するものを好適に用いることができる。
図2において、電気脱イオン装置7は、電極(陽極21、陰極22)の間に複数のアニオン交換膜23及びカチオン交換膜24を交互に配列して濃縮室25と脱塩室26とを交互に形成したものであり、脱塩室26には、イオン交換樹脂、イオン交換繊維もしくはグラフト交換体等からなるイオン交換体(アニオン交換体及びカチオン交換体)が混合もしくは複層状に充填されている。また、濃縮室25と、陽極室27及び陰極室28にも、イオン交換体が充填されている。
この電気脱イオン装置7には、脱塩室26に再生型混床式イオン交換装置5の一次純水W1を通水して処理水W2取り出す通水手段(図示せず)と、濃縮室25に濃縮水W3を通水する濃縮水通水手段(図示せず)とが設けられていて、本実施形態においては濃縮水W3を脱塩室26の処理水W2の取り出し口に近い側から濃縮室25内に導入すると共に、脱塩室26の原水入口に近い側から流出する、すなわち脱塩室26における一次純水W1の流通方向と反対方向から濃縮水W3を濃縮室25に導入して濃縮排水W4を吐出する構成となっている。
具体的には、図3に示すように脱塩室26から得られる処理水W2の一部を濃縮室25に導入して濃縮水W3として処理水W2を用いることで、イオン濃度が低減された濃縮水W3とすることが好ましい。
さらにサブシステム3のUV酸化装置9としては、通常、超純水製造装置に用いられる185nm付近の波長を有するUVを照射するUV酸化装置、例えば低圧水銀ランプを用いたUV酸化装置を用いることができる。
上述したような構成を有する超純水製造装置の運転方法について説明する。まず、必要に応じ図示しない前処理手段により前処理を施した被処理水Wを一次純水システム2に供給し、逆浸透膜(RO)装置4及び再生型混床式イオン交換装置5とで処理する。逆浸透膜(RO)装置4では、塩類除去のほかにイオン性、コロイド性のTOCを除去する。再生型混床式イオン交換装置5では、塩類除去のほかにイオン交換樹脂によって吸着又はイオン交換されるTOC成分を除去して、一次純水W1を製造する。
そして、本実施形態においては、この再生型混床式イオン交換装置5の一次純水W1をホウ素の検知レベルが10ppb、読値で1ppbレベルのホウ素モニタ6によりホウ素濃度〔B〕を連続監視する。そして、この一次純水W1を電気脱イオン装置7で処理した後、得られた処理水W2をサブタンク8に供給する。
このとき、ホウ素濃度が既知の所定の一次純水W1を処理した際の電気脱イオン装置7の処理水W2におけるホウ素濃度を測定することでホウ素除去率をあらかじめ算定しておく。電気脱イオン装置7のホウ素除去率は99%以上、特に99.99%以上であるのが好ましい。特に前述した図2及び図3に示すような電気脱イオン装置は、ホウ素除去率を99.99%以上とするのに好適である。そして、一次純水W1のホウ素濃度と、電気脱イオン装置7のホウ素除去率の積を処理水W2のホウ素濃度〔B1〕と擬制することができる(例えば、一次純水W1のホウ素濃度〔B〕が1ppb以下で電気脱イオン装置7のホウ素除去率が99.99%であれば、処理水W2のホウ素濃度〔B1〕のホウ素濃度は0.1ppt以下と擬制できる)。このようにしてサブシステム3へ供給される処理水W2のホウ素濃度が1ppb以下であっても連続的に監視することができる。
続いて、サブタンク8に供給された処理水W2をポンプPにより供給して処理する。サブシステム3では、UV酸化装置9と非再生型混床式イオン交換装置10と限外ろ過膜11とによる処理を行う。UV酸化装置9では、UVランプより出される波長185nmの紫外線によりTOCを有機酸さらにはCOレベルにまで分解する。分解された有機酸及びCOは後段の非再生型混床式イオン交換装置10で除去される。限外ろ過膜11では、微小粒子が除去され、非再生型混床式イオン交換装置10の流出粒子も除去され、二次純水(超純水)W5が得られる。この二次純水W5はユースポイントUPに供給された後、未使用分がサブタンク8に返送される。
このような超純水製造装置1の運転において、サブシステム3の処理水である二次純水(超純水)W5のホウ素濃度は、通常は処理水W2のホウ素濃度〔B1〕よりも大幅に低くなるので、電気脱イオン装置7の処理水W2のホウ素濃度〔B1〕が、サブシステム3での低減分を考慮して要求水質以下となるレベルであれば水質的には「問題なし」として連続運転すればよい。例えば、二次純水W5のホウ素の要求水質が0.1pptで電気脱イオン装置7のホウ素除去率が99、99%で、サブシステム3で1/10以下にまで低減可能であれば、一次純水W1のホウ素濃度が10ppb以下であれば連続運転することができる。
そして、長期間の使用により非再生型混床式イオン交換装置10のホウ素除去能は低下して二次純水W5にホウ素がリークしやすくなるので、定期的に二次純水W5の精密分析を行い、二次純水W5の実際のホウ素濃度を実測するのが好ましい。そして、このホウ素濃度の実測値〔B2〕と処理水W2のホウ素濃度〔B1〕とを対比して、ホウ素濃度の実測値〔B2〕の値が処理水W2のホウ素濃度〔B1〕に対する減少率が低下する傾向を示したら、ホウ素濃度〔B2〕が0.1pptを超える前であっても非再生型混床式イオン交換装置10を交換するのが好ましい。このようにして二次純水W5へのホウ素のリークを未然に防止することができる。しかも、実際に非再生型混床式イオン交換装置10の性能が低下する傾向を示してから、非再生型混床式イオン交換装置10を交換することになるので、その交換頻度も少なくて済むので、経済性にも優れている。
特に、本実施形態においては、電気脱イオン装置7として、この処理水W2の一部を濃縮水W3として濃縮室25に脱塩室26の通水方向とは逆方向に向流一過式で通水し、濃縮室25から濃縮排水W4を系外へ排出させているので、脱塩室26の取り出し側ほど濃縮室25の濃縮水W3中のイオン濃度が低いものとなり、濃度拡散による脱塩室26への影響が小さくなるため、ホウ素の除去率が向上している。また、電気脱イオン装置7の給水は一次純水W1であるため、イオンが少ない(例えば電気抵抗が18MΩ・cm程度と大きい)ので、多量の電流が必要であるが、脱塩室26及び濃縮室25の両方にイオン交換体を充填することにより、脱塩室26及び濃縮室25における電気抵抗を低下させることができるので、運転費を低減することができるようになっている。
さらに、本実施形態においては、サブタンク8として窒素シールしたものを用いているので、空気中の二酸化炭素や酸素の溶解を抑制して二次純水W5の比抵抗の低下を抑制することができるようになっている。
次に本発明の第二実施形態に係る超純水製造装置について図4に基づいて説明する。
第二の実施形態の超純水製造装置は、前述した第一の実施形態において、一次純水システム2とサブシステム3とを備え、サブシステム3が、UV酸化装置9とアニオン交換樹脂装置12と脱気膜13と非再生型混床式イオン交換装置10と限外ろ過膜(UF膜)11とを有する構成としたものである。
このようにサブシステムにアニオン交換樹脂装置12と脱気膜13とを設けることにより、電気脱イオン装置7はそれ自身気密性を有しないので、一次純水W1に炭酸ガスや酸素が微量混入するリスクがあるが、アニオン交換樹脂装置12によりCOを除去するとともに脱気膜13で溶存酸素などの残存する気体成分を除去することができるので、溶存ガス成分を低減することができる。
以上、本発明について、前記実施形態に基づき説明してきたが、本発明は前記実施形態に限らず種々の変形実施が可能であり、一次純水システム2とサブシステム3は本実施例の構成に限らず種々の構成とすることができる。例えば、一次純水システム2では逆浸透膜(RO)装置4を2段に直列してもよい。また、第一の実施形態では、サブシステム3にUV酸化装置9を設けたが、UV酸化装置9は場合によっては設けなくてもよい。さらに、サブタンク8としては、窒素シールしたものを用いたが、通常のサブタンクであってもよく、場合によってはサブタンク8を用いなくてもよい。さらに、二次純水W5の水質測定用に比抵抗計などの他の水質分析手段を設けて、二次純水W5の水質をオンサイトで計測して、比抵抗が所定の設定値よりも低下したら非再生型混床式イオン交換装置10を交換するようにしてもよい。
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではない。
〔実施例1〕
静岡県榛原郡吉田町の市水(被処理水)Wを逆浸透膜(RO)装置4と再生型混床式イオン交換装置5とからなる1次純水システム2で処理した。この一次純水W1のホウ素濃度をホウ素モニタ6で測定する一方、電気脱イオン装置7で処理し、処理水W2をサブタンク8に貯留した。このサブタンク8内の処理水W2をUV酸化装置9、アニオン交換樹脂装置12、脱気膜13、非再生型混床式イオン交換装置10及び限外ろ過膜(UF膜)11をこの順に備えたサブシステム3で通水処理して、二次純水W5を製造した。
なお、電気脱イオン装置7としては、以下のものを使用した。
電気脱イオン装置:栗田工業(株)製 KCDI−UPz、脱塩室26、濃縮室25及び電極室27,28にイオン交換樹脂を充填し、処理水W2の一部を向流式で濃縮室25に通水、ホウ素除去率99.99%以上
この超純水製造装置の運転において、ホウ素モニタ6の値は1〜5ppbで安定しており、処理水W2のホウ素濃度は0.1ppt以下と推測されるので連続運転した。この処理水W2のホウ素濃度を月1回精密分析したが、ホウ素濃度0.1ppt以下で安定しており、二次純水W5のホウ素濃度も0.1ppt以下であった。そして、二次純水W5の比抵抗値は、ほぼ18.2MΩ・cmと超純水レベルで3年間経過しても安定しており、3年間サブシステム3の非再生型混床式イオン交換装置10の交換は不要であった。
〔比較例1〕
実施例1において、電気脱イオン装置7を用いずに、非再生型混床式イオン交換装置10の後段にホウ素モニタ6を設けて監視を行った。
この超純水製造装置の運転において、3週間でホウ素モニタ6の値が1ppbを超えたので、非再生型混床式イオン交換装置10の交換が必要となった。
〔比較例2〕
実施例1において、サブシステム3の非再生型混床式イオン交換装置10の後段にホウ素モニタ6を設けて監視を行ったが、ホウ素濃度を検知することができず、非再生型混床式イオン交換装置10の破過による交換時期の判断が困難であった。
〔比較例3〕
実施例1において、一次純水装置2に電気脱イオン装置7を用いずに、サブシステム3のUV酸化装置9の後段に電気脱イオン装置を配置した以外は同様にしてホウ素モニタ6による監視を行った。
上述したような超純水製造装置の運転においては、ホウ素モニタ6の値は1〜5ppbで安定していたが、サブシステム3の流入水のホウ素濃度が大きいうえに、サブシステム3に設けた電気脱イオン装置の処理水の水圧が低く、しかも安定しないので、この後段に設けたアニオン交換樹脂装置12等での処理も安定せず、このため二次純水W5の月1回の精密分析におけるホウ素濃度の変動が大きく、非再生型混床式イオン交換装置10の破過による交換時期の判断が困難であった。また、UV酸化装置9で生じた酸化性物質の影響とみられる電気脱イオン装置の性能の低下も認められた。
1…超純水製造装置
2…一次純水システム
3…サブシステム
4…逆浸透膜(RO)装置
5…再生型混床式イオン交換装置
6…ホウ素モニタ(ホウ素濃度測定手段)
7…電気脱イオン装置
8…サブタンク
9…UV酸化装置
10…非再生型混床式イオン交換装置
11…限外ろ過膜(UF膜)
12…アニオン交換樹脂装置
13…脱気膜
W…被処理水
W1一次純水
W2…処理水
W3…濃縮水
W4…濃縮排水
W5…二次純水(超純水)

Claims (10)

  1. 一次純水システムと、該一次純水システムから得られた一次純水を処理するイオン交換装置及びUF膜装置を備えたサブシステムとを有する超純水製造装置において、前記一次純水システムの後段で前記サブシステムの前段にホウ素濃度測定手段と電気脱イオン装置と
    あらかじめ計測した前記電気脱イオン装置の前記一次純水に対するホウ素除去率と、前記ホウ素濃度測定手段により測定された前記一次純水のホウ素濃度との積を、前記サブシステムへの供給水のホウ素濃度と擬制することで、前記サブシステムのイオン交換装置の交換の要否を判断する手段とを備える
    超純水製造装置。
  2. 前記一次純水システムが、逆浸透膜装置及びイオン交換装置を有することを特徴とする請求項1に記載の超純水製造装置。
  3. 前記電気脱イオン装置が、陰極及び陽極と、該陰極及び陽極の間に配置されたカチオン交換膜及びアニオン交換膜と、これらカチオン交換膜及びアニオン交換膜により区画形成された脱塩室及び濃縮室とを備え、前記脱塩室及び前記濃縮室にイオン交換体が充填されていて、前記濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と前記脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の超純水製造装置。
  4. 前記濃縮水通水手段が、前記脱塩室を通水した脱イオン水を濃縮水として通水することを特徴とする請求項3に記載の超純水製造装置。
  5. 前記濃縮水通水手段が、前記濃縮水を前記脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から該濃縮室内に導入すると共に、脱塩室の原水入口に近い側から流出することを特徴とする請求項4に記載の超純水製造装置。
  6. 一次純水システムと、該一次純水システムから得られた一次純水を処理するイオン交換装置及びUF膜装置を備えたサブシステムとを有し、前記一次純水システムの後段で前記サブシステムの前段にホウ素濃度測定手段と電気脱イオン装置とを備えた超純水製造装置の運転方法であって、被処理水を一次純水システム及びサブシステムを連続して通水して超純水を製造するに際し、あらかじめ計測した前記電気脱イオン装置の前記一次純水に対するホウ素除去率と、前記ホウ素濃度測定手段により測定された前記一次純水のホウ素濃度との積を、前記サブシステムへの供給水のホウ素濃度と擬制することで、前記サブシステムのイオン交換装置の交換の要否を判断することを特徴とする超純水製造装置の運転方法。
  7. 前記一次純水システムが、逆浸透膜装置及びイオン交換装置を有することを特徴とする請求項6に記載の超純水製造装置の運転方法。
  8. 前記電気脱イオン装置が、陰極及び陽極と、該陰極及び陽極の間に配置されたカチオン交換膜及びアニオン交換膜と、これらカチオン交換膜及びアニオン交換膜により区画形成された脱塩室及び濃縮室とを備え、前記脱塩室及び前記濃縮室にイオン交換体が充填されていて、前記濃縮室に濃縮水を通水する濃縮水通水手段と前記脱塩室に原水を通水して脱イオン水を取り出す手段とを有することを特徴とする請求項6又は7に記載の超純水製造装置の運転方法。
  9. 前記濃縮水通水手段が、前記濃縮水として前記脱塩室を通水した処理水の一部を導入することを特徴とする請求項8に記載の超純水製造装置の運転方法。
  10. 前記濃縮水を前記濃縮室の前記脱塩室の脱イオン水取り出し口に近い側から導入すると共に、前記濃縮室の前記脱塩室の原水入口に近い側から流出させることを特徴とする請求項9に記載の超純水製造装置の運転方法。
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Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019089018A (ja) * 2017-11-14 2019-06-13 オルガノ株式会社 純水製造装置の運転方法および純水製造装置
JP7454330B2 (ja) * 2018-06-20 2024-03-22 オルガノ株式会社 被処理水中のホウ素除去方法、ホウ素除去システム、超純水製造システム及びホウ素濃度の測定方法
WO2020003831A1 (ja) * 2018-06-27 2020-01-02 野村マイクロ・サイエンス株式会社 電気式脱イオン装置、超純水製造システムおよび超純水製造方法
JP7192519B2 (ja) * 2019-01-22 2022-12-20 栗田工業株式会社 ホウ素超高純度除去型超純水製造装置及びホウ素超高純度除去超純水の製造方法
JP2020142178A (ja) * 2019-03-05 2020-09-10 栗田工業株式会社 超純水製造装置及び超純水製造装置の運転方法
JP7289206B2 (ja) * 2019-03-13 2023-06-09 オルガノ株式会社 ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法
CN110185676A (zh) * 2019-06-05 2019-08-30 深圳市粤永能源环保科技有限公司 一种纯水液压系统
CN110217924A (zh) * 2019-06-21 2019-09-10 长沙如洋环保科技有限公司 一种实验室用纯水机
JP7129965B2 (ja) * 2019-12-25 2022-09-02 野村マイクロ・サイエンス株式会社 純水製造方法、純水製造システム、超純水製造方法及び超純水製造システム
JP6863510B1 (ja) * 2019-12-25 2021-04-21 栗田工業株式会社 超純水製造装置の制御方法
JP7368310B2 (ja) 2020-05-20 2023-10-24 オルガノ株式会社 ホウ素除去装置及びホウ素除去方法、並びに、純水製造装置及び純水の製造方法
CN112337323B (zh) * 2020-09-28 2021-06-15 南京工业大学 一种pvdf聚合物分离膜及其制备方法
JP2022060806A (ja) * 2020-10-05 2022-04-15 オルガノ株式会社 純水製造システムおよび純水製造方法
JP7205576B1 (ja) * 2021-07-19 2023-01-17 栗田工業株式会社 純水製造システムの運転方法

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08117744A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Nomura Micro Sci Co Ltd イオン交換装置のブレーク検知方法
JP2003266097A (ja) * 2002-03-13 2003-09-24 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置
WO2009016982A1 (ja) * 2007-07-30 2009-02-05 Kurita Water Industries Ltd. 純水製造装置及び純水製造方法
JP2010042324A (ja) * 2008-08-08 2010-02-25 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2011110515A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置
JP2014233698A (ja) * 2013-06-04 2014-12-15 栗田工業株式会社 純水製造装置の運転管理方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3426072B2 (ja) * 1996-01-17 2003-07-14 オルガノ株式会社 超純水製造装置
JP3794268B2 (ja) * 2001-01-05 2006-07-05 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置及びその運転方法
JP3794354B2 (ja) * 2002-07-08 2006-07-05 栗田工業株式会社 電気脱イオン装置
JP2004261643A (ja) * 2003-02-14 2004-09-24 Kurita Water Ind Ltd 電気脱イオン装置及びその運転方法
EP2735546B1 (en) * 2012-11-21 2018-02-07 Ovivo Inc. Treatment of water, particularly for obtaining ultrapure water
JP6362299B2 (ja) * 2013-03-27 2018-07-25 栗田工業株式会社 イオン交換樹脂装置の運転方法及びイオン交換樹脂装置

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08117744A (ja) * 1994-10-21 1996-05-14 Nomura Micro Sci Co Ltd イオン交換装置のブレーク検知方法
JP2003266097A (ja) * 2002-03-13 2003-09-24 Kurita Water Ind Ltd 超純水製造装置
WO2009016982A1 (ja) * 2007-07-30 2009-02-05 Kurita Water Industries Ltd. 純水製造装置及び純水製造方法
JP2010042324A (ja) * 2008-08-08 2010-02-25 Kurita Water Ind Ltd 純水製造装置及び純水製造方法
JP2011110515A (ja) * 2009-11-27 2011-06-09 Kurita Water Ind Ltd イオン交換樹脂の精製方法及び精製装置
JP2014233698A (ja) * 2013-06-04 2014-12-15 栗田工業株式会社 純水製造装置の運転管理方法

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