JP6098997B2 - エピタキシャル成長装置の汚染評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 - Google Patents
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- 238000011109 contamination Methods 0.000 title claims description 112
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 51
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 37
- 238000012546 transfer Methods 0.000 claims description 130
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims description 83
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 61
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 61
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 52
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 34
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 claims description 28
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 22
- 238000002955 isolation Methods 0.000 claims description 18
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 claims description 10
- 238000004445 quantitative analysis Methods 0.000 claims description 9
- 238000001095 inductively coupled plasma mass spectrometry Methods 0.000 claims description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 186
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 54
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 54
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 54
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000012423 maintenance Methods 0.000 description 12
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 9
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 9
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 7
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 6
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 6
- 238000001947 vapour-phase growth Methods 0.000 description 6
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 5
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 description 5
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 5
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 5
- 239000012808 vapor phase Substances 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 4
- 239000010408 film Substances 0.000 description 4
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 4
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012159 carrier gas Substances 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000012854 evaluation process Methods 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000012495 reaction gas Substances 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000000624 total reflection X-ray fluorescence spectroscopy Methods 0.000 description 2
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 239000002019 doping agent Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 238000009616 inductively coupled plasma Methods 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004949 mass spectrometry Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 1
- 238000005488 sandblasting Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
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- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Description
その混入促進工程により前記雰囲気ガスの混入が促進された前記反応炉にてウェーハ上にエピタキシャル層を気相成長させてサンプルウェーハを製造する第1のサンプル製造工程と、
その第1のサンプル製造工程で製造されたサンプルウェーハである第1ウェーハの金属不純物による汚染度を取得する第1の取得工程と、
その第1の取得工程で取得した汚染度に基づき、前記ウェーハ搬送系統及び前記反応炉を備えたエピタキシャル成長装置の金属不純物による汚染度を評価する評価工程と、
を備えることを特徴とする。
その第2のサンプル製造工程で製造されたサンプルウェーハである第2ウェーハの金属不純物による汚染度を取得する第2の取得工程とを備え、
前記評価工程では、前記第2ウェーハの汚染度と前記第1ウェーハの汚染度との比較に基づき、前記エピタキシャル成長装置の前記ウェーハ搬送系統に起因した金属不純物による汚染度を評価する。
前記混入促進工程では、前記搬送チャンバにおける不活性ガスの流量を、製品となるエピタキシャルウェーハの製造時よりも増加させる。
比較例では、搬送チャンバ21、22(図1参照)に導入する窒素ガス流量をともに従来(製品製造時)と同じ窒素ガス流量である4.5L/minに設定して汚染評価用のシリコンウェーハ(第2ウェーハ)の作製を行った。
実施例では、エピ反応炉に混入するガス量が高くなるように搬送チャンバ21、22に導入する窒素ガス流量をともに6.5L/minと9.6L/minに設定して、2水準の汚染評価用のシリコンウェーハ(第1ウェーハ)の作製を行った。
2 ウェーハ搬送系統
21 第1の搬送チャンバ
22 第2の搬送チャンバ
23〜25 隔離弁
3 反応炉
Claims (7)
- ウェーハ搬送系統から反応炉への雰囲気ガスの混入を、製品となるエピタキシャルウェーハの製造時よりも促進させる混入促進工程と、
その混入促進工程により前記雰囲気ガスの混入が促進された前記反応炉にてウェーハ上にエピタキシャル層を気相成長させてサンプルウェーハを製造する第1のサンプル製造工程と、
その第1のサンプル製造工程で製造されたサンプルウェーハである第1ウェーハの金属不純物による汚染度を取得する第1の取得工程と、
その第1の取得工程で取得した汚染度に基づき、前記ウェーハ搬送系統及び前記反応炉を備えたエピタキシャル成長装置の金属不純物による汚染度を評価する評価工程と、
を備えることを特徴とするエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。 - 前記ウェーハ搬送系統から前記反応炉への雰囲気ガスの混入を、製品となるエピタキシャルウェーハの製造時と同じにして、前記反応炉にてウェーハ上にエピタキシャル層を気相成長させてサンプルウェーハを製造する第2のサンプル製造工程と、
その第2のサンプル製造工程で製造されたサンプルウェーハである第2ウェーハの金属不純物による汚染度を取得する第2の取得工程とを備え、
前記評価工程では、前記第2ウェーハの汚染度と前記第1ウェーハの汚染度との比較に基づき、前記エピタキシャル成長装置の前記ウェーハ搬送系統に起因した金属不純物による汚染度を評価することを特徴とする請求項1に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。 - 前記評価工程では、前記第2ウェーハの汚染度からの前記第1ウェーハの汚染度の増加の度合いを、前記エピタキシャル成長装置の前記ウェーハ搬送系統に起因した金属不純物による汚染度として評価することを特徴とする請求項2に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。
- 前記ウェーハ搬送系統内の圧力は、前記反応炉内の圧力よりも大きくなるように調整され、
前記混入促進工程では、前記ウェーハ搬送系統内と前記反応炉内との圧力差を、製品となるエピタキシャルウェーハの製造時よりも大きくすることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。 - 前記ウェーハ搬送系統は、搬送されるウェーハが投入されて不活性ガスにより雰囲気ガスの置換が行われる搬送チャンバと、その搬送チャンバと前記反応炉との間に設けられて前記反応炉を前記搬送チャンバから隔離するための開閉可能な隔離弁とを備え、前記隔離弁を閉じた状態で前記搬送チャンバの雰囲気ガスの置換を行った後に、前記隔離弁を開けて前記搬送チャンバから前記反応炉へのウェーハの搬送又は前記反応炉から前記搬送チャンバへのウェーハの搬送が行われ、
前記混入促進工程では、前記搬送チャンバにおける不活性ガスの流量を、製品となるエピタキシャルウェーハの製造時よりも増加させることを特徴とする請求項4に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。 - 前記第1の取得工程では、前記第1ウェーハに対してICP−MSによる金属定量分析を行い、その金属定量分析の結果を前記第1ウェーハの金属不純物の汚染度として取得し、
前記第2の取得工程では、前記第2ウェーハに対してICP−MSによる金属定量分析を行い、その金属定量分析の結果を前記第2ウェーハの金属不純物の汚染度として取得することを特徴とする請求項2又は3に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法。 - 請求項1〜6のいずれか1項に記載のエピタキシャル成長装置の汚染評価方法により評価した汚染度が基準値を下まわるエピタキシャル成長装置を用いてエピタキシャルウェーハを製造することを特徴とするエピタキシャルウェーハの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014090089A JP6098997B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | エピタキシャル成長装置の汚染評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2014090089A JP6098997B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | エピタキシャル成長装置の汚染評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2015211064A JP2015211064A (ja) | 2015-11-24 |
JP6098997B2 true JP6098997B2 (ja) | 2017-03-22 |
Family
ID=54613071
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2014090089A Active JP6098997B2 (ja) | 2014-04-24 | 2014-04-24 | エピタキシャル成長装置の汚染評価方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6098997B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6361482B2 (ja) * | 2014-11-26 | 2018-07-25 | 株式会社Sumco | 気相成長装置の汚染管理方法、エピタキシャルシリコンウェーハの製造方法 |
CN106898568B (zh) * | 2015-12-18 | 2020-02-11 | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 | 一种腔室纯净度的监测方法 |
JP6477854B1 (ja) * | 2017-12-22 | 2019-03-06 | 株式会社Sumco | 気相成長装置の汚染管理方法及びエピタキシャルウェーハの製造方法 |
JP6489198B1 (ja) * | 2017-12-25 | 2019-03-27 | 株式会社Sumco | エピタキシャルウェーハの汚染評価方法および該方法を用いたエピタキシャルウェーハの製造方法 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3676983B2 (ja) * | 2000-03-29 | 2005-07-27 | 株式会社日立国際電気 | 半導体製造方法、基板処理方法、及び半導体製造装置 |
EP1506570A1 (en) * | 2002-05-21 | 2005-02-16 | ASM America, Inc. | Reduced cross-contamination between chambers in a semiconductor processing tool |
JP2006310561A (ja) * | 2005-04-28 | 2006-11-09 | Nec Electronics Corp | 真空処理装置および真空処理方法 |
JP2013131617A (ja) * | 2011-12-21 | 2013-07-04 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | シリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 |
JP2013149753A (ja) * | 2012-01-18 | 2013-08-01 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 気相成長装置の清浄度評価方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 |
JP5794212B2 (ja) * | 2012-08-24 | 2015-10-14 | 信越半導体株式会社 | 気相成長装置の汚染評価方法及びシリコンエピタキシャルウェーハの製造方法 |
-
2014
- 2014-04-24 JP JP2014090089A patent/JP6098997B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2015211064A (ja) | 2015-11-24 |
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