JP6094256B2 - イオンビーム照射装置 - Google Patents

Description

本発明は、イオンビームをウエハに照射するイオンビーム照射装置に関するものである。

従来のイオンビーム照射装置は、特許文献１に示すように、ウエハが載置されるウエハホルダと、このウエハホルダを移動させる移動機構とがウエハ処理室（真空チャンバ）内に設けられている。この移動機構は、所謂直動機構であり、例えばボールねじ機構を用いたものである。

しかしながら、ボールねじ機構等を用いた移動機構が、異物であるパーティクルの発生源になってしまう。そして、発生したパーティクルがウエハ処理室内に拡散してウエハに付着する。そうすると、ウエハに付着したパーティクルが、イオン注入不良の原因になるという問題がある。

なお、特許文献２に示すように、基板が支持される移動部材を垂直方向に移動させる直動機構を有し、当該直動機構を収納するケースに、前記移動部材の一部を外部に突出させて垂直方向に延びるスリットが形成され、当該スリットに例えばシールベルト等のシール手段が設けられた基板処理装置がある。

しかしながら、この基板処理装置は、前記ケースの前記移動部材の移動方向端部に通気口が設けられており、前記ケース内を真空にすることができず、スリットによりケースに連通する基板処理室内への大気等による汚染を防止できず、イオンビーム照射装置に適用できるものではない。また、前記移動部材と前記シール手段とが擦れることによりパーティクルが発生し、発生したパーティクルが拡散して基板に付着するという問題がある。

特開２０１１−１８７３９３号公報 特開２００２−３０５２３０号公報

そこで本発明は、ウエハ処理室でパーティクルが発生することを防止するだけでなく、前記ウエハ処理室にパーティクルが拡散することを防止し、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止することを主たる所期課題とするものである。

すなわち本発明に係るイオンビーム照射装置は、イオンビームをウエハに照射するイオンビーム照射装置であって、ウエハを支持するウエハ支持機構を収容し、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハにイオンビームを照射するためのウエハ処理室と、前記ウエハ処理室の下方に設けられ、前記ウエハ支持機構を略水平方向に移動させるための搬送機構を収容する搬送機構収容室とを備え、前記ウエハ処理室と前記搬送機構収容室との間を仕切る仕切壁に、前記ウエハ支持機構及び前記搬送機構を連結する連結部材を前記ウエハ支持機構とともに移動させるための開口が、前記搬送機構による移動方向に沿って形成されており、前記ウエハ支持機構が、前記ウエハを保持するウエハ保持部と、前記開口の上方に位置する軸を中心軸として前記ウエハ保持部を回転させるロード角調整機能を備えた角度調整機構とを有していることを特徴とする。

このようなものであれば、ウエハ支持機構を収容するウエハ処理室と、パーティクルの発生源である搬送機構を収容する搬送機構収容室とが、仕切壁により仕切られているので、搬送機構で発生したパーティクルがウエハ処理室に侵入して拡散することを防止し、ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。また、ウエハ処理室と搬送機構収容室との間を仕切る仕切壁に、連結部材を移動させるための開口が、搬送機構による移動方向に沿って形成されているので、開口を連結部材の移動に必要な領域のみに形成することにより、ウエハ処理室に侵入して拡散するパーティクルの量を一層低減し、ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを一層防止できる。したがって、パーティクルがウエハに付着することにより生じるイオン注入の不良を低減することができる。

また、前記ウエハ処理室及び前記搬送機構収容室を真空にする排気機構が、前記ウエハ処理室のみから排気するように設けられている場合は、搬送収容室内で発生したパーティクルが、排気機構の排気流によってウエハ処理室に侵入して拡散し、ウエハに付着してしまう恐れがある。
このような問題を解決するためには、前記ウエハ処理室及び前記搬送機構収容室を真空にする排気機構が、少なくとも前記搬送機構収容室側から排気するように設けられていることが望ましい。
これならば、搬送機構収容室で発生したパーティクルを、搬送機構収容室からウエハ処理室に移動させることなく、搬送機構収容室側から排出することができ、パーティクルがウエハ処理室に侵入して拡散することを防ぎ、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。

前記ウエハ処理室を形成する下壁部により前記仕切壁が形成され、前記下壁部の下面に、前記搬送機構収容室を形成する筐体が脱着可能に設けられていることが望ましい。
これならば、前記筐体が前記下壁部に対して脱着可能に構成されているので、前記搬送機構をメンテナンスする場合に、前記筐体ごと前記搬送機構を取り外して作業でき、メンテナンス作業を容易にできる。

前記筐体が、前記下壁部の下面に着脱可能に設けられ、前記搬送機構収容室を囲繞する側壁部と、当該側壁部の下側に形成される開口部に開閉可能に設けられた蓋体とを有することが望ましい。
これならば、前記蓋体が側壁部の開口部を開閉可能に構成しているので、前記搬送機構を前記下壁部又は前記側壁部に設けておけば、前記搬送機構収容室内をメンテナンスする場合に、前記搬送機構を取り外すことなく、蓋体を取り外すだけで作業でき、メンテナンス作業を容易にできる。

前記搬送機構が、駆動部と、当該駆動部により駆動されて前記ウエハ支持機構及び前記連結部材を移動させる案内移動機構とを有し、前記案内移動機構が、前記搬送機構収容室内に配置され、前記駆動部が、大気圧下に配置されていることが望ましい。
これならば、前記駆動部を真空にされるウエハ処理室内及び搬送機構収容室内では無く、大気圧下に配置しているので、前記駆動部を大気圧下で使用できる汎用モータを使用することができ、製造コストを低減することができる。また、パーティクルの発生源にもなり得る駆動部を前記搬送機構収容室内に配置しないので、前記搬送機構収容室内において発生するパーティクルの量を低減することができ、前記ウエハ処理室に侵入して拡散するパーティクルの量を低減し、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。

前記ウエハ支持機構に支持されたウエハと前記搬送機構との間に設けられ、前記搬送機構で発生したパーティクルが前記ウエハ支持機構に支持されたウエハに付着することを防止する付着防止部を備えることが望ましい。
これならば、ウエハと搬送機構との間に付着防止部を設けているので、前記搬送機構で発生したパーティクルが前記ウエハ支持機構に支持されたウエハに付着することを防止できる。

また、前記付着防止部が、前記仕切壁に形成された開口よりもウエハ支持機構側において、前記開口の長手方向（前記搬送機構による移動方向）に沿って設けられた遮蔽板であることが望ましい。
これならば、パーティクルが前記ウエハ処理室に侵入したとしても、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着しにくくすることができる。また、付着防止部を、開口の長手方向に沿って設けられた遮蔽板により構成しているので、付着防止部の構成を簡略化することができる。

前記付着防止部の前記イオンビーム入射側の端部が、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハよりも前記イオンビーム入射側に突出していることが望ましい。
これならば、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハよりも前記付着防止部の前記イオンビーム入射側の端部が前記イオンビーム入射側に突出しているので、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することをより一層防止できる。

前記付着防止部の前記移動方向における長さ寸法が、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハの前記移動方向における長さ寸法よりも大きいことが望ましい。
これならば、前記付着防止部により前記ウエハ処理室におけるウエハ近傍に侵入するパーティクルの量を効果的に低減させ、パーティクルが前記開口から前記ウエハ処理室に侵入することを効率良く妨げることができ、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。

前記開口において、前記連結部材の前記移動方向における片側又は両側の少なくとも一部を覆う蓋部材を有することが望ましい。
これならば、前記蓋部材が前記開口を覆っているので、パーティクルが前記開口から前記ウエハ処理室に侵入することを妨げることができ、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。

このように構成した本発明によれば、ウエハ処理室でパーティクルが発生することを防止するだけでなく、前記ウエハ処理室にパーティクルが拡散することを防止し、前記ウエハ処理室のウエハにパーティクルが付着することを防止できる。

本実施形態のイオンビーム照射装置の全体構成を示す模式図。 同実施形態のイオンビーム照射部の構成を模式的に示す斜視図。 同実施形態のイオンビーム照射部の構成を示す正面図。 同実施形態の仕切壁及び搬送機構の構成を示す平面図。 同実施形態のイオンビーム照射部の構成を示す移動方向から見た側面図。 変形実施形態の仕切壁及び搬送機構の構成を示す移動方向から見た側面図。 変形実施形態の仕切壁及び搬送機構の構成を示す移動方向から見た側面図。 変形実施形態のイオンビーム照射部の構成を示す移動方向から見た側面図。 変形実施形態のイオンビーム照射部の構成を示す正面図。 変形実施形態の仕切壁及び搬送機構の構成を示す平面図。 変形実施形態の仕切壁及び搬送機構の構成を示す移動方向から見た側面図。 変形実施形態のイオンビーム照射部の構成を示す正面図。

以下に本発明の一実施形態について図面を参照して説明する。

このイオンビーム照射装置１００は、ウエハＷの表面にイオンビームＩＢを照射し、イオンをウエハＷ内に注入し、そのウエハＷの特性を所望のものにするために用いられるイオンビーム照射装置１００である。

なお、ウエハＷは、例えばシリコン基板等の半導体基板、ガラス基板、その他の基板である。その平面形状は、本実施形態では概略円形であるが、その他、矩形であっても良いし、その他の形状であっても良い。

図１は第１実施形態に係るイオンビーム照射装置１００を示す概略平面図である。このイオンビーム照射装置１００は、イオン源１０１から引き出されたイオンビームＩＢを、質量分析器１０２により質量分析したのちに、イオンビーム照射部２００内においてウエハ支持機構２に固定されているウエハＷに対して照射し、所望のイオン種をウエハＷに対して注入するものである。なお、イオン源１０１からウエハ支持機構２までのイオンビームＩＢの経路は図示しない真空容器により囲まれており、イオン注入時は真空に保たれている。

前記イオン源１０１から引き出されるイオンビームＩＢは、ウエハＷに入射する直前の進行方向をＺ軸方向とした場合、図１において紙面表裏方向であるＸ軸方向の幅が、それに直交する方向であるＹ軸方向の厚さよりも十分に大きいシート状をなしている、いわゆるリボン状のイオンビームＩＢである。

この際、ウエハＷは、図２及び図３に示すように、搬送機構３によって、Ｙ方向に往復移動される。このウエハＷの往復移動とリボン状のイオンビームＩＢの照射によって、ウエハＷの全面にイオン注入を行うことができる。

次に本実施形態のイオンビーム照射装置１００におけるイオンビーム照射部２００の構成について図２〜図５を参照して説明する。

イオンビーム照射部２００は、特に図３に示すように、ウエハＷを支持するウエハ支持機構２を収容するウエハ処理室２０と、当該ウエハ処理室２０のＸ方向下方（鉛直下方）に設けられ、ウエハ支持機構２を移動させるための搬送機構３を収容する搬送機構収容室３０とを有する。

ウエハ処理室２０に収容されるウエハ支持機構２は、図２〜図４に示すように、静電チャック等によりウエハＷを保持するウエハ保持部２ａと、当該ウエハ保持部２ａの角度を調整するための角度調整機構（不図示）とを有する。この角度調整機構は、Ｙ方向に沿った軸を中心軸としてウエハ保持部２ａを回転させるロード角調整機能と、Ｚ方向に沿った軸を中心軸としてウエハ保持部２ａを回転させるツイスト角調整機能とを有するものである。

搬送機構収容室３０に収容される搬送機構３は、ウエハ支持機構２のＸ方向下方に配置され、イオンビームＩＢの照射領域Ｐ（図２参照）を横切る方向にウエハ支持機構２を略水平方向であるＹ方向に移動させるものである。照射領域Ｐは、ウエハＷへのイオン注入が行われる位置であり、本実施形態ではイオンビームＩＢの断面形状と同一、つまりＸ方向の寸法がＹ方向の寸法よりも大きい長尺状をなす。この照射領域Ｐにおいて、搬送機構３は、ウエハ支持機構２を当該照射領域Ｐの長手方向（Ｘ方向）に略直交する短手方向（Ｙ方向成分を含む方向）を横切るように移動させる。

具体的に搬送機構３は、図３及び図４に示すように、スキャンモータ等の駆動モータである駆動部３１と、当該駆動部３１により駆動されてウエハ支持機構２及び後述の連結部材５を移動させる案内移動機構３２とを有する直動機構である。本実施形態の案内移動機構３２は、ボールねじ機構を用いたものであり、略水平方向（Ｙ方向）に沿って設けられたボールねじ３２ａと、当該ボールねじ３２ａに螺合するナット部（不図示）を有し、略水平方向に沿って移動する移動部材３２ｂと、ボールねじ３２ａを回転自在に保持するベース部材３２ｃとを備えている。そして、前記移動部材３２ｂは、上下方向（Ｘ方向）に延出して設けられた連結部材５によって前記ウエハ支持機構２と連結されている。なお、前記移動部材３２ｂの周囲には、パーティクルの飛散を防止するためのカバー（不図示）が設けられている。

なお、ボールねじ３２ａと駆動部３１との間には、駆動部３１の駆動力を伝達するための駆動力伝達手段３３が設けられている。本実施形態の駆動力伝達手段３３は、例えば磁性流体シールを用いたものであり、駆動部３１の駆動力をボールねじ３２ａに伝達するとともに、真空シールとして機能し、後述するように搬送機構収容室３０が真空にされることを可能にするものである。

次に、ウエハ処理室２０及び搬送機構収容室３０について詳述する。
ウエハ処理室２０は、図２及び図３に示すように、例えば略直方体の箱体２１により形成されている。この箱体２１は、ウエハ処理室２０のＹＺ平面における周囲を囲繞する側壁部２１０と、ウエハ処理室２０の上側を覆う上壁部２２０と、ウエハ処理室２０の下側を覆う下壁部２３０とを有する。また、側壁部２１０におけるイオンビームＩＢが入射する側には、当該イオンビームＩＢをウエハ処理室２０内に導入するための入射口２１ａが形成されている。さらに、ウエハ処理室２０の例えば側壁部２１０には、当該ウエハ処理室２０を真空排気するためのターボ分子ポンプ等の真空ポンプを用いた排気機構２０Ａが設けられている（図３参照）。ウエハ処理室２０は、主として、この排気機構２０Ａにより真空とされる。

搬送機構収容室３０は、図３に示すように、下壁部２３０の下面に筐体３００を取り付けることにより形成される。つまり、搬送機構収容室３０は、下壁部２３０と筐体３００とにより形成される。この筐体３００は、下壁部２３０の下面において後述する開口４ａを取り囲むように設けられ、搬送機構収容室３０の周囲を囲繞する側壁部３１０と、当該側壁部３１０の下側に形成される開口部３１１に開閉可能に設けられた蓋体３２０とからなる。また、筐体３００の側壁部３１０には、前記案内移動機構３２が固定されており、具体的には、側壁部３１０にベース部材３２ｃが固定されている。さらに、搬送機構収容室３０の例えば側壁部３１０には、搬送機構収容室３０を真空排気するためのターボ分子ポンプ等の真空ポンプを用いた排気機構３０Ａが設けられている（図３参照）。搬送機構収容室３０は、主として、この排気機構３０Ａにより真空とされる。

側壁部３１０は、下壁部２３０に着脱可能に設けられており、具体的には、締結部材Ｔ１により下壁部２３０の下面に固定されている。また、蓋体３２０は、前記側壁部３１０の下側に形成される開口部３１１に開閉可能に設けられており、具体的には、締結部材Ｔ２により開口部３１１に形成されたフランジ部に固定されている。

しかして本実施形態のイオンビーム照射装置１００においては、図２及び図３に示すように、前記ウエハ処理室２０と前記搬送機構収容室３０とが、下壁部２３０により仕切られている。つまり、下壁部２３０が、前記ウエハ処理室２０と前記搬送機構収容室３０とを仕切る仕切壁４となる。この仕切壁４は、ＹＺ平面に対して略平行、つまり略水平に形成されている。また、この仕切壁４は、ウエハ支持機構２及び搬送機構３を連結する連結部材５をウエハ支持機構２とともに移動させるための開口４ａが形成されている。

連結部材５は、特に図５に示すように、ウエハ支持機構２の基台２ｂと移動部材３２ｂとを連結するものである。つまり、連結部材５は、搬送機構３の移動部材３２ｂの移動に伴って、ウエハ支持機構２とともに一体となって移動する。なお、連結部材５と移動部材３２ｂとは単一の部材から一体形成されたものであっても良い。また、連結部材５には、ウエハ保持部２ａをＸ方向に沿った軸を中心軸として回転させ、チルト角を調整する角度調整機構（不図示）が設けられている。

開口４ａは、図３〜図５に示すように、前記搬送機構３による連結部材５の移動を可能に自在にするものであり、搬送機構３による連結部材５の移動方向に沿って略水平方向に延びている。具体的にこの開口４ａは、平面視における開口形状が前記移動方向に沿って延びたスリット状の長孔である。本実施形態においては、開口４ａの開口形状が略長方形とされている。この開口４ａの開口サイズは、少なくとも連結部材５の移動領域ＭＲよりも大きく、連結部材５の移動を妨げない程度であれば良い。詳細には、開口４ａの長手方向の寸法Ｌ１（図３参照）は、連結部材５の移動領域ＭＲの長手方向の寸法よりも大きく、短手方向の寸法Ｌ２（図４参照）は、連結部材５の幅寸法よりも大きい。

＜本実施形態の効果＞
このように構成した本実施形態に係るイオンビーム照射装置１００によれば、ウエハ支持機構２を収容するウエハ処理室２０と、パーティクルの主な発生源である搬送機構３を収容する搬送機構収容室３０とが、仕切壁４により仕切られているので、搬送機構３で発生したパーティクルがウエハ処理室２０に侵入して拡散することを防止し、ウエハ処理室２のウエハＷにパーティクルが付着することを防止できる。
また、仕切壁４に形成された開口４ａが、搬送機構３による連結部材５の移動方向に沿って形成され、当該開口４ａが連結部材５の移動に必要な領域のみに形成することにより、ウエハ処理室２０に侵入して拡散するパーティクルの量を一層低減し、ウエハ処理室２０のウエハＷにパーティクルが付着することを一層防止できる。

さらに、搬送機構収容室３０に、当該搬送機構収容室３０を真空にするための専用の排気機構３０Ａが設けられているので、搬送機構収容室３０で発生したパーティクルを、ウエハ処理室２０に浸入させることなく外部に排出させることができ、ウエハ処理室２０のウエハＷにパーティクルが付着することを防止できる。

その上、蓋体３２０が開閉可能であり、搬送機構３が側壁部３１０に設けられているので、搬送機構収容室３０内をメンテナンスする場合に、搬送機構３を取り外すことなく蓋体３２０を取り外すだけで作業でき、メンテナンス作業を容易にできる。

加えて、駆動部３１を大気圧下に配置する構成としているので、汎用モータを使用することができ、製造コストを低減させることができる。また、パーティクルの発生源にもなり得る駆動部３１が搬送機構収容室３０内に配置されないので、搬送機構収容室３０内において発生するパーティクルの量を低減することができ、ウエハ処理室２０に侵入するパーティクルの量を低減し、ウエハ処理室２０内においてパーティクルが拡散してウエハに付着することを防止できる。

＜その他の変形実施形態＞
なお、本発明は前記実施形態に限られるものではない。
例えば、図６及び図７に示すように、イオンビーム照射装置１００が、ウエハ支持機構２に支持されたウエハＷと搬送機構３との間に、搬送機構３で発生したパーティクルが前記ウエハＷに付着することを防止する付着防止部６を備えるものでもよい。これならば、付着防止部６が設けられているので、搬送機構３で発生したパーティクルをウエハＷに付着し難くすることができる。

図６に示す付着防止部６は、ウエハ支持機構２の基台２ｂに突出して形成されており、これにより、ウエハ支持機構２に支持されたウエハＷと搬送機構３との間に設けられている。具体的にこの付着防止部６は、前記開口４ａの長手方向（前記搬送機構３による移動方向）に沿って設けられた遮蔽板である。また、付着防止部６である遮蔽板の端部６ａは、ウエハＷよりもイオンビームＩＢ入射側に突出している。さらに、その移動方向に沿った方向の長さ寸法が、少なくともウエハＷの移動方向に沿った方向の長さ寸法よりも大きくなるように構成されている。これならば、パーティクルがウエハ処理室２０に侵入したとしても、ウエハ処理室２０のウエハＷにパーティクルが付着しにくくすることができる。また、付着防止部６を、開口４ａの長手方向に沿って設けられた遮蔽板により構成しているので、付着防止部６の構成を簡略化することができる。また、図６の付着防止部６の構成に加えて、図７に示すように、仕切壁４の上面に形成されているものでも良い。このように付着防止部６を仕切壁４の上面に形成する場合には、開口４ａを形成する開口縁又はその近傍に形成することが望ましい。

さらに、付着防止部６の他の態様としては、図８に示すように、搬送機構収容室３０内に設けられるものであっても良い。この場合、付着防止部６は、連結部材５に形成することが考えられる。また、付着防止部６の他の態様としては、ウエハ支持機構２における開口４ａの上方に設けられた基台２ｂ自体が付着防止部６としての機能を発揮するものであっても良い。

また、図９及び図１０に示すように、開口４ａにおいて、連結部材５の移動方向における片側又は両側の少なくとも一部を覆うシャッター等の蓋部材７を有するものであっても良い。この蓋部材７は、連結部材５の移動に伴って移動可能なものでも良く、例えば連結部材５とともに一体となって移動するものでも良いし、専用の駆動モータによって移動するものでも良い。これならば、蓋部材７によりパーティクルが開口４ａからウエハ処理室２０に侵入することを妨げることができ、ウエハ処理室２０内においてパーティクルが拡散してウエハに付着することを防止できる。

搬送機構３は、ボールねじ機構に限れられず、他の機械的な直動機構であっても良く、例えばタイミングベルト又はラックアンドピニオンを用いたものでも良いし、エアベアリング及び差動排気を用いたものでも良い。また、搬送機構３は、電気磁気的な直動機構であっても良く、例えばリニアモータを用いたものでも良い。

図１１に示すように、筐体３００は、上壁部３３０を有するものであってもよい。筐体３００が上壁部３３０を有するものであれば、仕切壁４は、当該上壁部３３０であっても良い。つまり、上壁部３３０に開口４ａが形成される。

また、仕切壁４は、箱体２１及び筐体３００とは別に独立して設けられ、箱体２１又は筐体３００に対して着脱可能に設けられているものでも良い。

搬送機構収容室３０を形成する筐体３００は、側壁部３１０と、蓋体３２０とが一体となっているものでも良い。これならば、下壁部２３０の下面に、筐体３００が脱着可能に設けられているので、搬送機構３をメンテナンスする場合に、筐体３００ごと搬送機構３を取り外して作業でき、メンテナンス作業を容易にできる。また、蓋体３２０が、側壁部３１０に対して蝶番等の接続部材を介して取り付けられているものでも良い。

駆動力伝達手段３３は、必ずしも磁性流体シールを用いたものでなくても良く、搬送機構収容室３０内の気密性を保てるものであれば良い。例えば、Ｏリング等のシール部材付きのベアリングを利用したものであっても良い。これならば、側壁部３１０の材質が非磁性体でなくても良く、汎用の構造材により側壁部３１０を構成しても良い。また、側壁３１０を隔てて駆動力を伝達する磁気カップリング等を利用したものであってもよい。

搬送機構収容室３０は、必ずしも下壁部２３０と筐体３００とにより形成されるものでなくてもよい。例えば、搬送機構収容室３０が、ウエハ収容室２０を形成する箱体２１の内部に形成されるものであっても良い。また、図１２に示すように、搬送機構収容室３０が、箱体２１の下壁部２３０に形成された凹部と蓋体３２０とにより形成されるものでもよい。これならば、イオンビーム照射部２００を小型化することができ、イオンビーム照射装置１００の小型化及び省スペース化を図ることができる。

その他、本発明は前記実施形態に限られず、その趣旨を逸脱しない範囲で種々の変形が可能であるのは言うまでもない。

１００・・・イオンビーム照射装置
２０ ・・・ウエハ処理室
３０ ・・・搬送機構収容室
２ ・・・ウエハ支持機構
３ ・・・搬送機構
４ ・・・仕切壁
４ａ ・・・開口
５ ・・・連結部材

Claims (8)

1. イオンビームをウエハに照射するイオンビーム照射装置であって、
   前記ウエハを支持するウエハ支持機構を収容し、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハにイオンビームを照射するためのウエハ処理室と、
   前記ウエハ処理室の下方に設けられ、前記ウエハ支持機構を略水平方向に移動させるための搬送機構を収容する搬送機構収容室とを備え、
   前記ウエハ処理室と前記搬送機構収容室との間を仕切る仕切壁に、前記ウエハ支持機構及び前記搬送機構を連結する連結部材を前記ウエハ支持機構とともに移動させるための開口が、前記搬送機構による移動方向に沿って形成されており、
   前記ウエハ支持機構が、
   前記ウエハを保持するウエハ保持部と、
   前記開口の上方に位置する軸を中心軸として前記ウエハ保持部を回転させるロード角調整機能を備えた角度調整機構とを有しているイオンビーム照射装置。
2. 前記ウエハ処理室及び前記搬送機構収容室を真空にする排気機構が、少なくとも前記搬送機構収容室側から排気するように設けられている請求項１記載のイオンビーム照射装置。
3. 前記ウエハ処理室を形成する下壁部により前記仕切壁が形成され、
   前記下壁部の下面に、前記搬送機構収容室を形成する筐体が脱着可能に設けられている請求項１又は２記載のイオンビーム照射装置。
4. 前記筐体が、前記下壁部の下面に着脱可能に設けられ、前記搬送機構収容室を囲繞する側壁部と、当該側壁部の下側に形成される開口部に開閉可能に設けられた蓋体とを有する請求項３記載のイオンビーム照射装置。
5. 前記搬送機構が、駆動部と、当該駆動部により駆動されて前記ウエハ支持機構及び前記連結部材を移動させる案内移動機構とを有し、
   前記案内移動機構が、前記搬送機構収容室内に配置され、
   前記駆動部が、大気圧下に配置されている請求項１乃至４の何れかに記載のイオンビーム照射装置。
6. 前記ウエハ支持機構に支持されたウエハと前記搬送機構との間に設けられ、前記搬送機構で発生したパーティクルが前記ウエハ支持機構に支持されたウエハに付着することを防止する付着防止部を備える請求項１乃至５の何れかに記載のイオンビーム照射装置。
7. 前記付着防止部の前記移動方向における長さ寸法が、前記ウエハ支持機構に支持されたウエハの前記移動方向における長さ寸法よりも大きい請求項６記載のイオンビーム照射装置。
8. 前記開口において、前記連結部材の前記移動方向における片側又は両側の少なくとも一部を覆う蓋部材を有する請求項１乃至７の何れかに記載のイオンビーム照射装置。