JP6374878B2 - 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するためのステーションおよび方法 - Google Patents
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Description
− 少なくとも1つの負荷ポートを備える、制御された環境のチャンバ(制御環境チャンバ)であって、少なくとも1つの負荷ポートは、剛性筐体とともに、輸送キャリアのドアとも結合するようになっており、これにより、ドアを、制御環境チャンバの中に移動させて、剛性筐体の内部を制御環境チャンバの内部と連通させることができる制御環境チャンバと、
− 粒子測定ユニットと筐体測定インタフェースとを備える測定モジュールであって、筐体測定インタフェースは、制御環境チャンバに接続された剛性輸送キャリア筐体に、ドアに代わって結合するようになっている測定モジュールとを備え、
前記筐体測定インタフェースは、筐体測定インタフェースの基部から突出している測定ヘッドを備え、測定ヘッドは、粒子測定ユニットと結合している第1のサンプル開口と、少なくとも2つの注入ノズルとを備え、少なくとも2つの注入ノズルは、制御環境チャンバと結合している剛性筐体の上の、少なくとも2つの異なる場所にガスジェットを向けるようになっており、各注入ノズルの方向は、結合した剛性筐体に対して、固定されていることを特徴としている。
2 剛性筐体
3 ドア
4 制御環境チャンバ
5 測定モジュール
5a ハウジング
6 濾過層流ユニット
7 電気キャビネット
8 負荷ポート
8a、8b 負荷ポート
9 プラットフォーム
10 正面アクセス
11 負荷ポートドア
12 第1のサンプル開口
13 測定ヘッド
14 粒子測定ユニット
15 モジュール移動機構
16 筐体測定インタフェース
17 真空ポンプ
18 粒子カウンタ
19 サンプルライン
19a 第1の分離弁
19b 第2の分離弁
20 注入ノズル
21 中空形状ドア測定インタフェース
22 測定面
23 注入ノズル
24 第2のサンプル開口
25a、25b ドア作動機構
26 モジュール移動機構
27 処理ユニット
28 ユーザインタフェース
29 洗浄手段
D1、D2、D3、D4 矢印
F1 矢印
V1 第1の測定容積
V2 第2の測定容積
Claims (13)
- 大気圧で半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するための測定ステーションであって、前記輸送キャリアは、開口と前記開口を閉じることができる着脱可能ドア(3)とを含む剛性筐体(2)を備え、前記測定ステーションは、
− 少なくとも1つの負荷ポート(8)を備える制御環境チャンバ(4)であって、負荷ポート(8)は、剛性筐体(2)とともに、前記輸送キャリアのドア(3)とも結合するようになっており、これにより、ドア(3)を、制御環境チャンバ(4)の中に移動させ、剛性筐体(2)の内部を制御環境チャンバ(4)の内部と連通させることができるようになっている制御環境チャンバ(4)と、
− 粒子測定ユニット(14)と筐体測定インタフェース(16)とを備える測定モジュール(5)であって、筐体測定インタフェース(16)は、制御環境チャンバ(4)に結合している剛性輸送キャリア筐体(2)に、ドア(3)に代わって結合するようになっている測定モジュール(5)とを備える測定ステーションにおいて、
筐体測定インタフェース(16)は、測定ヘッド(13)を備え、測定ヘッド(13)は、筐体測定インタフェース(16)の基部から突出しており、粒子測定ユニット(14)に接続された第1のサンプル開口(12)と、少なくとも2つの注入ノズル(20)とを有し、少なくとも2つの注入ノズル(20)は、制御環境チャンバ(4)に結合している剛性筐体(2)の上の、異なる、少なくとも2つの場所にガスジェットを導くようになっており、注入ノズル(20)の前記それぞれの方向は、結合剛性筐体(2)に対して固定され、
前記測定ヘッド(13)は、平行六面体の形状を有し、測定ヘッド(13)の5面の各々は、筐体測定インタフェース(16)の基部から突出しており、少なくとも1つの注入ノズル(20)を備えていることを特徴とする測定ステーション。 - 測定モジュール(5)は、筐体測定インタフェース(16)を、休止位置と結合剛性筐体(2)の中の測定位置との間を移動させるようになっているモジュール移動機構(15、26)を備えていることを特徴とする、請求項1に記載の測定ステーション。
- 注入ノズル(20)の中へのガス注入を選択的に制御するようになっている処理ユニット(27)を備えていることを特徴とする、請求項1または2に記載の測定ステーション。
- モジュール移動機構(15、26)のアクチュエータは、制御環境チャンバ(4)の中に配置され、制御環境チャンバ(4)は、濾過層流ユニット(6)を備え、これにより、制御環境チャンバ(4)の内部雰囲気を、濾過された空気の層流下に置くことを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 制御環境チャンバ(4)の横側に配置された電気キャビネット(7)を備え、前記電気キャビネット(7)は、粒子測定ユニット(14)の真空ポンプ(17)を収容している
ことを特徴とする、請求項4に記載の測定ステーション。 - 注入ノズル(20)は、ガスジェットを、互いに垂直で、制御環境チャンバ(4)に結合している剛性輸送キャリア筐体(2)の壁に垂直な、少なくとも2つの方向に向けるようになっていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 粒子測定ユニット(14)は、サンプルライン(19)の中にパージガスを注入するようになっている洗浄手段(29)を備えていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 制御環境チャンバ(4)は、それぞれの輸送キャリアに結合するようになっている2つの負荷ポート(8a、8b)を備えていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 請求項1〜8のいずれか1項に記載の測定ステーションを使用して、大気圧で半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するための測定方法であって、ガスジェットは、前記筐体測定インタフェース(16)が剛性筐体(2)と結合された後に、前記筐体測定インタフェース(16)の注入ノズル(20)に注入されるステップを備えていることを特徴とする測定方法。
- 筐体測定インタフェース(16)と、筐体測定インタフェース(16)に結合した剛性筐体(2)との間に間隙が残され、注入されるガスジェットは、パラメータ化され、これにより、前記間隙を通して剛性筐体(2)の外部に向かう漏れガス流を生成させることを特徴とする、請求項9に記載の測定方法。
- 前記筐体測定インタフェース(16)は、制御環境チャンバ(4)に結合された剛性筐体(2)の中に移動されることを特徴とする、請求項9または10に記載の測定方法。
- ガスジェットは、所定の数の注入ノズル(20)の中に同時に注入されることを特徴とする、請求項9〜11のいずれか1項に記載の測定方法。
- ガスジェットは、所定の方向の全ての注入ノズル(20)の中に、同時に注入されることを特徴とする、請求項12に記載の測定方法。
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