JP2016506065A - 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアにおける粒子汚染を測定するための測定ステーションおよび測定方法 - Google Patents
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- H01L21/6735—Closed carriers
- H01L21/67389—Closed carriers characterised by atmosphere control
Abstract
Description
− 少なくとも1つの負荷ポートを備える、制御された環境のチャンバ(制御環境チャンバ)であって、少なくとも1つの負荷ポートは、剛性筐体と、輸送キャリアのドアとの両方に結合するようになっており、これにより、ドアを制御環境チャンバの中に移動させることができる制御環境チャンバと、
− 粒子測定ユニットを備える測定モジュールとを備え、この測定モジュールは、
− 筐体測定インタフェースであって、制御環境チャンバに結合した剛性筐体と、ドアに代わって結合するようになっており、これにより、第1の測定容積を画定し、また、少なくとも1つの注入ノズルと、粒子測定ユニットに接続された第1のサンプル開口とを備えている、筐体測定インタフェースと、
− 中空状ドア測定インタフェースであって、ドアと結合して、測定モジュールの測定面と反対側ドアとの間の第2の測定容積を画定するようになっており、前記測定面は、少なくとも1つの注入ノズルと、粒子測定ユニットに接続された第2のサンプル開口とを有する、中空状ドア測定インタフェースとを備えていることを特徴としている。
− 測定モジュールを剛性筐体と結合させ、それにより、筐体測定インタフェースと結合剛性筐体の間の第1の測定容積を画定し、剛性筐体の内壁の汚染を測定するステップと、
− ドアを測定モジュールと結合させ、それにより、前記測定面と反対側ドアとの間の第2の測定容積を画定し、ドアの汚染を測定するステップとを備えている。
ガスジェットは、ドア3の上に存在する粒子のサンプルを剥離する。注入ノズル23の吐出孔とドア3との間の距離は制御され、これにより、次々に取り扱う輸送キャリアに対して、再現性のよい粒子剥離を行うことができる。
2 剛性筐体
3 ドア
4 制御環境チャンバ
5 測定モジュール
5a ハウジング
6 濾過層流ユニット
7 電気キャビネット
8 負荷ポート
8a、8b 負荷ポート
9 プラットフォーム
10 正面板
11 負荷ポートドア
12 第1のサンプル開口
13 測定ヘッド
14 粒子測定ユニット
15 モジュール移動機構
16 筐体測定インタフェース
17 真空ポンプ
18 粒子カウンタ
19 サンプルライン
19a 第1の分離弁
19b 第2の分離弁
20 注入ノズル
21 中空状ドア測定インタフェース
22 測定面
23 注入ノズル
24 第2のサンプル開口
25a、25b ドア作動機構
26 モジュール移動機構
27 処理ユニット
28 ユーザインタフェース
29 洗浄手段
D1、D2、D3、D4 矢印
F1 矢印
V1 第1の測定容積
V2 第2の測定容積
Claims (12)
- 大気圧で半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するための測定ステーションであって、前記輸送キャリアは、開口と前記開口を閉じるようになっている着脱可能なドア(3)とを有する剛性筐体(2)を備え、前記測定ステーションは、
− 少なくとも1つの負荷ポート(8)を備える制御環境チャンバ(4)であって、少なくとも1つの負荷ポート(8)は、剛性筐体(2)と前記輸送キャリアのドア(3)との両方に結合されるようになっており、これにより、ドア(3)を制御環境チャンバ(4)の中に移動させることができるようになっている制御環境チャンバ(4)と、
− 粒子測定ユニット(14)を備える測定モジュール(5)とを備え、
前記測定モジュール(5)は、
− 筐体測定インタフェース(16)であって、制御環境チャンバ(4)と結合している剛性筐体(2)に、ドア(3)に代わって結合するようになっており、それにより、第1の測定容積(V1)を画定し、かつ少なくとも1つの注入ノズル(20)と、粒子測定ユニット(14)に接続された第1のサンプル開口(12)とを備えている筐体測定インタフェース(16)と、
− 中空状ドア測定インタフェース(21)であって、ドア(3)と結合するようになっており、それにより、測定モジュール(5)の測定面(22)と、反対側ドア(3)との間の第2の測定容積(V2)を画定し、前記測定面(22)は、少なくとも1つの注入ノズル(23)と、粒子測定ユニット(14)に接続された第2のサンプル開口(24)とを備えている、中空状ドア測定インタフェース(21)とを備えていることを特徴とする測定ステーション。 - 中空状ドア測定インタフェース(21)は、おおむね枠状であることを特徴とする請求項1に記載の測定ステーション。
- ドア(3)は、中空状ドア測定インタフェース(21)の方向に移動するようになっていることを特徴とする、請求項1または2に記載の測定ステーション。
- 測定モジュール(5)は、休止位置と、剛性筐体(2)の中の測定位置との間で、筐体測定インタフェース(16)を移動させるようになっているモジュール移動機構(15、26)を備えていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 筐体測定インタフェース(16)と中空状ドア測定インタフェース(21)とは、背中合わせに配置され、筐体測定インタフェース(16)は、剛性筐体(2)の中を並進移動するようになっており、ドア(3)は、中空状ドア測定インタフェース(21)の方向に移動するようになっていることを特徴とする、請求項3または4に記載の測定ステーション。
- 粒子測定ユニット(14)のサンプルライン(19)は、分離弁(19a、19b)を備え、第1および第2のサンプル開口(12、24)の間を選択的に切り替えるようになっていることを特徴とする、請求項1〜5のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 筐体測定インタフェース(16)は、制御環境チャンバ(4)に結合された剛性筐体(2)の上の、異なる、少なくとも2つの場所にガスジェットを導くようになっている、少なくとも2つの注入ノズル(20)を備え、注入ノズル(20)のそれぞれの方向は、剛性筐体(2)に対して固定されていることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 筐体測定インタフェース(16)は、その基部から突出している測定ヘッド(13)を備えていることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 前記測定ヘッド(13)は、平行6面体の形状を有し、測定ヘッド(13)の5面のそれぞれは、筐体測定インタフェース(16)の基部から突出しており、かつ少なくとも1つの注入ノズル(20)を備えていることを特徴とする、請求項8に記載の測定ステーション。
- 注入ノズル(20、23)の中へのガスの注入を選択的に制御するようになっている処理ユニット(27)を備えていることを特徴とする、請求項6〜8のいずれか1項に記載の測定ステーション。
- 請求項1〜10のいずれか1項に記載の測定ステーションを使用して、大気圧で半導体基板を搬送し、格納する輸送キャリアの粒子汚染を測定するための測定方法であって、
− 測定モジュール(5)を剛性筐体(2)と結合し、それにより、筐体測定インタフェース(16)と剛性筐体(2)との間の第1の測定容積(V1)を画定し、剛性筐体(2)の内壁の汚染を測定するステップと、
− ドア(3)を測定モジュール(5)と結合し、それにより、前記測定面(22)と反対側ドア(3)との間の第2の測定容積(V2)を画定し、ドア(3)の汚染を測定するステップとを備えていることを特徴とする測定方法。 - 第1の隙間は、筐体測定インタフェース(16)と、筐体測定インタフェース(16)に結合した剛性筐体(2)との間に残され、注入ノズル(20)の中に注入されるガスジェットは、条件が変えられていて、前記第1の隙間を通して剛性筐体(2)の外部に向かう漏れガス流が生成され、また、第2の隙間は、中空状ドア測定インタフェース(21)と、中空状ドア測定インタフェース(21)に結合した剛性筐体(2)との間に残され、注入ノズル(23)の中に注入されるガスジェットは、条件が変えられていて、第2の隙間を通して中空状ドア測定インタフェース(21)の外部に向かう漏れガス流を生成させるようになっていることを特徴とする、請求項11に記載の測定方法。
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