JPH095227A - ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 - Google Patents
ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置Info
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- JPH095227A JPH095227A JP17936195A JP17936195A JPH095227A JP H095227 A JPH095227 A JP H095227A JP 17936195 A JP17936195 A JP 17936195A JP 17936195 A JP17936195 A JP 17936195A JP H095227 A JPH095227 A JP H095227A
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Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
- Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 半導体ウエーハを保管あるいは輸送するため
のウエーハケースに付着するパーティクル及びウエーハ
ケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較的
簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材（ウエーハケース）のうち
内部に液体を収容し得るウエーハケース本体、上蓋等の
容器状部材内に純水を注入し、これに低周波振動又は超
音波振動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウ
ントするように構成する。
のウエーハケースに付着するパーティクル及びウエーハ
ケース自体から発生するパーティクルの双方を、比較的
簡単な構造かつ低コストの装置で以って定量的に検知
し、評価する方法を提供する。 【構成】 ウエーハ収納部材（ウエーハケース）のうち
内部に液体を収容し得るウエーハケース本体、上蓋等の
容器状部材内に純水を注入し、これに低周波振動又は超
音波振動を附与し、純水中のパーティクルの個数をカウ
ントするように構成する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はシリコン、ガリウム砒素
等からなる半導体ウエーハ（以下ウエーハと略称する）
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材（以下ウ
エーハケースという）の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
等からなる半導体ウエーハ（以下ウエーハと略称する）
の保管又は輸送に用いられるウエーハ収納部材（以下ウ
エーハケースという）の清浄度を測定・評価する方法、
特にウエーハケースに付着するかもしくはウエーハケー
ス自体から発生する微粒子異物即ちパーティクルを定量
的に測定・評価する清浄度測定・評価方法及びこれに使
用される装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】ウエーハを保管あるいは輸送するための
ウエーハケース５０は、図３に示されるように、多数の
ウエーハ１００を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット５３と、該バスケット５３を収納す
るウエーハケース本体１と、該ウエーハケース本体１の
上方開口部を覆蓋する上蓋５２と、ウエーハバスケット
５３内のウエーハ１００を押さえて保持するためのウエ
ーハ押さえ５４とパッキン５５とにより構成されてい
る。
ウエーハケース５０は、図３に示されるように、多数の
ウエーハ１００を並列に収納するためのひだ部を備えた
ウエーハバスケット５３と、該バスケット５３を収納す
るウエーハケース本体１と、該ウエーハケース本体１の
上方開口部を覆蓋する上蓋５２と、ウエーハバスケット
５３内のウエーハ１００を押さえて保持するためのウエ
ーハ押さえ５４とパッキン５５とにより構成されてい
る。
【０００３】前記ウエーハケース５０にあっては、その
内部に収納されるウエーハ１００を保管あるいは輸送す
る際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力
少なくするため、該ウエーハケース５０の清浄度を常時
高く保持することが要求される。
内部に収納されるウエーハ１００を保管あるいは輸送す
る際に、ウエーハの表面に付着するパーティクルを極力
少なくするため、該ウエーハケース５０の清浄度を常時
高く保持することが要求される。
【０００４】通常前記ウエーハケース５０には、ポリプ
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース５０の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース５０を用いてウエーハ１００を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定・評価を行い、ケース表面に付着しているパーティ
クルを除去する必要がある。
ロピレン、ポリカーボネート等の熱可塑性樹脂を所望の
形状に射出成形したものが使用されている。このため、
ウエーハケース５０の成形後には前記パーティクルがそ
の表面に付着していることが多く、このような状態にあ
るウエーハケース５０を用いてウエーハ１００を保管あ
るいは輸送する際には、ケースの成形後にその清浄度の
測定・評価を行い、ケース表面に付着しているパーティ
クルを除去する必要がある。
【０００５】かかるウエーハケース５０の清浄度の評価
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来 （１）ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 （２）ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
方法特にパーティクルの付着状況の検知方法としては、
従来 （１）ウエーハケース洗浄後のケース内面に残留してい
るパーティクルを目視にて検知する。 （２）ウエーハケース洗浄用のリンス水中に存在するパ
ーティクルをカウントする。
【０００６】（３）特開平５−１０９８５７号に示され
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
るように、クリーンエアの雰囲気内において、ウエーハ
バスケットの底部よりウエーハ回転器によりウエーハを
一定時間回転せしめ、ウエーハバスケットの内壁に設け
られたウエーハ保持用の溝とウエーハの外縁との摩擦に
よって発生した塵埃の量を塵埃測定器にて測定し、予め
設定した塵埃量の限界値を超えた場合は、清浄度が不良
と判定する。等の清浄度評価方法が提供されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。 （１）前記（１）項に示す目視による方法にあっては、
検知可能なパーティクルは比較的粒径が大きいものに限
られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴い、より微小
なパーティクルの検出が要求されている現状には適応で
きない。また目視のみであるので定量性が無い。
来のウエーハケース清浄度の検知・評価方法には次のよ
うな問題点あるいは不備点がある。 （１）前記（１）項に示す目視による方法にあっては、
検知可能なパーティクルは比較的粒径が大きいものに限
られ、最近の半導体集積回路の微細化に伴い、より微小
なパーティクルの検出が要求されている現状には適応で
きない。また目視のみであるので定量性が無い。
【０００８】（２）前記（２）項に示す方法にあって
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、また、ウ
エーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可
能である。
は、洗浄後のリンス水中のパーティクルをカウントする
方法であるため、洗浄時にリンス水中に混入されずに除
去されなかったパーティクルの存在があり得るにも拘ら
ず、このパーティクルは定量的に検知できず、また、ウ
エーハケース自体から発生するパーティクルも検知不可
能である。
【０００９】（３）前記（３）項に示す方法にあって
は、上記（１），（２）のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置等
多くの大がかりな附属機器を必要とし、検知装置の構造
が複雑になり、かつ高コストとなる。
は、上記（１），（２）のような不具合点は無いが、ウ
エーハを回転させるための回転機構及びその附属装置等
多くの大がかりな附属機器を必要とし、検知装置の構造
が複雑になり、かつ高コストとなる。
【００１０】本発明の目的は、半導体ウエーハを保管、
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
あるいは輸送するためのウエーハケースに付着するパー
ティクル及びウエーハケース自体から発生するパーティ
クルの双方を、比較的簡単な構造かつ低コストの装置で
以って定量的に検知し、評価する方法を提供することで
ある。
【００１１】また本発明の他の目的は、近年資源保護や
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
環境対応のため樹脂材からなるウエーハケースを廃棄す
ることなく再利用することが求められていることに鑑
み、ウエーハケースの再利用のための、洗浄後のウエー
ハケース洗浄度の評価方法を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】本発明は前記ウエーハケ
ースを構成する部材のうち、内部に水等の液体を収容し
得る容器状の部材であるウエーハケース本体及び上蓋の
清浄度を測定・評価する方法及びその装置に係り、その
第１の手段は、半導体ウエーハ収納用のウエーハバスケ
ットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上蓋
の清浄度を測定・評価するにあたり、前記ウエーハケー
ス本体又は上蓋にて構成される容器状の被測定部材内に
純水を注入して加振機上に載置し、前記純水の液面の安
定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記被測定部材の清浄度を
評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測
定・評価方法にある。
ースを構成する部材のうち、内部に水等の液体を収容し
得る容器状の部材であるウエーハケース本体及び上蓋の
清浄度を測定・評価する方法及びその装置に係り、その
第１の手段は、半導体ウエーハ収納用のウエーハバスケ
ットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上蓋
の清浄度を測定・評価するにあたり、前記ウエーハケー
ス本体又は上蓋にて構成される容器状の被測定部材内に
純水を注入して加振機上に載置し、前記純水の液面の安
定後でかつ加振前に液中パーティクルの個数をカウント
し、次いで前記加振機により低周波振動を一定時間印加
し、その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウン
トして加振前後のパーティクルの増加個数を求め、該パ
ーティクルの増加個数により前記被測定部材の清浄度を
評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測
定・評価方法にある。
【００１３】また第２の手段は、上記第１の手段におい
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第３の手段は振動数を５０Ｈｚ〜２０００Ｈｚに設
定することにあり、また、第４の手段は振動の加速度を
２Ｇ〜５０Ｇに設定することにあり、さらに第５の手段
は前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
て、前記低周波振動を正弦波振動に設定することにあ
り、第３の手段は振動数を５０Ｈｚ〜２０００Ｈｚに設
定することにあり、また、第４の手段は振動の加速度を
２Ｇ〜５０Ｇに設定することにあり、さらに第５の手段
は前記低周波振動を鉛直方向に印加することにある。
【００１４】本発明の第６の手段は被測定部材に超音波
を印加する手段であり、半導体ウエーハ収納用のウエー
ハバスケットを収納するウエーハケース本体及び該ケー
スの上蓋の清浄度を測定・評価するにあたり、前記ウエ
ーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状の被測定
部材内に純水を注入して、超音波発振器を備えた水槽内
に配置し、前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中
パーティクルの個数をカウントし、次いで前記超音波発
振器により超音波を一定時間印加し、その後に再度純水
中のパーティクルの個数をカウントして超音波印加前後
のパーティクルの増加個数を求め、該パーティクルの増
加個数により前記被測定部材の清浄度を評価することを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法に
ある。
を印加する手段であり、半導体ウエーハ収納用のウエー
ハバスケットを収納するウエーハケース本体及び該ケー
スの上蓋の清浄度を測定・評価するにあたり、前記ウエ
ーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状の被測定
部材内に純水を注入して、超音波発振器を備えた水槽内
に配置し、前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中
パーティクルの個数をカウントし、次いで前記超音波発
振器により超音波を一定時間印加し、その後に再度純水
中のパーティクルの個数をカウントして超音波印加前後
のパーティクルの増加個数を求め、該パーティクルの増
加個数により前記被測定部材の清浄度を評価することを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法に
ある。
【００１５】また第７の手段は、第６の手段において、
超音波の周波数を２０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚに設定するこ
とにあり、第８の手段は超音波の出力を３００Ｗ〜４０
０Ｗに設定することにある。
超音波の周波数を２０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚに設定するこ
とにあり、第８の手段は超音波の出力を３００Ｗ〜４０
０Ｗに設定することにある。
【００１６】また第９の手段は前記第６〜第８の手段に
おいて、前記超音波発振器と被測定部材との間で超音波
減衰装置により超音波を減衰せしめ、減衰された超音波
を前記被測定部材に印加することにある。
おいて、前記超音波発振器と被測定部材との間で超音波
減衰装置により超音波を減衰せしめ、減衰された超音波
を前記被測定部材に印加することにある。
【００１７】さらに第１０の手段は、前記第１，第６の
手段において、前記純水の注入量が前記被測定部材の内
容積の３５〜９５％に設定されたことにある。
手段において、前記純水の注入量が前記被測定部材の内
容積の３５〜９５％に設定されたことにある。
【００１８】第１１の手段は前記被測定部材に振動を印
加するための装置に係り、半導体ウエーハ収納用のウエ
ーハバスケットを収納するウエーハケース本体及び該ケ
ースの上蓋の清浄度を測定・評価するものにおいて、前
記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状の
被測定部材を、該被測定部材内に一定量の純水が注入さ
れた状態で加振する加振機と、前記被測定部材内の純水
中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定する
パーティクル測定装置とを備えたことを特徴とするウエ
ーハ収納部材の清浄度測定・評価装置にある。
加するための装置に係り、半導体ウエーハ収納用のウエ
ーハバスケットを収納するウエーハケース本体及び該ケ
ースの上蓋の清浄度を測定・評価するものにおいて、前
記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状の
被測定部材を、該被測定部材内に一定量の純水が注入さ
れた状態で加振する加振機と、前記被測定部材内の純水
中に接続され、該純水中のパーティクルの量を測定する
パーティクル測定装置とを備えたことを特徴とするウエ
ーハ収納部材の清浄度測定・評価装置にある。
【００１９】第１２の手段は前記被測定部材に超音波振
動を印加するための装置に係り、半導体ウエーハ収納用
のウエーハバスケットを収納するウエーハケース本体及
び該ケースの上蓋の清浄度を測定・評価するものにおい
て、前記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成され内部
に純水が注入された容器状の被測定部材と、該被測定部
材をその外壁面が水中に浸漬された状態で収容する水槽
と、該水槽内の前記被測定部材の下方に設置され、該被
測定部材に超音波を印加する超音波発振器と、前記被測
定部材内の純水中に接続され、該純水中のパーティクル
の量を測定するパーティクル測定装置とを備えたことを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置に
ある。
動を印加するための装置に係り、半導体ウエーハ収納用
のウエーハバスケットを収納するウエーハケース本体及
び該ケースの上蓋の清浄度を測定・評価するものにおい
て、前記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成され内部
に純水が注入された容器状の被測定部材と、該被測定部
材をその外壁面が水中に浸漬された状態で収容する水槽
と、該水槽内の前記被測定部材の下方に設置され、該被
測定部材に超音波を印加する超音波発振器と、前記被測
定部材内の純水中に接続され、該純水中のパーティクル
の量を測定するパーティクル測定装置とを備えたことを
特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置に
ある。
【００２０】第１３の手段は、第１２の手段において、
前記超音波発振器と被測定部材との間に超音波を減衰す
る超音波減衰装置を設けたことにある。
前記超音波発振器と被測定部材との間に超音波を減衰す
る超音波減衰装置を設けたことにある。
【００２１】前記第１１〜第１３の手段におけるパーテ
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさが０．１μｍ程
度までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
ィクル測定装置としては、液中パーティクルが測定可能
なものであって、パーティクルの大きさが０．１μｍ程
度までのパーティクルが測定可能なものが好適である。
【００２２】また、前記超音波減衰装置としては、前記
容器状の被測定部材を内部に収納可能な容器状に形成さ
れるとともに、材料をポリプロピレン、ポリエチレン、
又はポリカーボネートで構成するのが好適である。
容器状の被測定部材を内部に収納可能な容器状に形成さ
れるとともに、材料をポリプロピレン、ポリエチレン、
又はポリカーボネートで構成するのが好適である。
【００２３】
【作用】本発明は前記のように構成されており、第１の
手段及び第１１の手段（装置）によれば、純水を注入し
たウエーハケース（被測定部材）を加振機上に載置し該
ウエーハケースに低周波振動を与えるため、ウエーハケ
ースに付着したパーティクルが純水中に離脱し易くなる
とともに、ウエーハケース自体からのパーティクルの発
生を検出することも可能になる。特にウエーハケースに
収納したウエーハを輸送する際には振動が加わることが
あるため、ケース内壁に付着したパーティクルの離脱の
みならず、ケース自体から発生するパーティクルについ
てもその量を正しく把握する必要があるが、かかる手段
はこの要求を充分に満足できる。
手段及び第１１の手段（装置）によれば、純水を注入し
たウエーハケース（被測定部材）を加振機上に載置し該
ウエーハケースに低周波振動を与えるため、ウエーハケ
ースに付着したパーティクルが純水中に離脱し易くなる
とともに、ウエーハケース自体からのパーティクルの発
生を検出することも可能になる。特にウエーハケースに
収納したウエーハを輸送する際には振動が加わることが
あるため、ケース内壁に付着したパーティクルの離脱の
みならず、ケース自体から発生するパーティクルについ
てもその量を正しく把握する必要があるが、かかる手段
はこの要求を充分に満足できる。
【００２４】また、ウエーハケース内に注入した純水を
配管によりパーティクル測定装置に直結し、パーティク
ルの個数を逐次的に測定するようにしているので、パー
ティクル発生の経時変化が把握できるようになる。
配管によりパーティクル測定装置に直結し、パーティク
ルの個数を逐次的に測定するようにしているので、パー
ティクル発生の経時変化が把握できるようになる。
【００２５】また第２ないし第４の手段によれば、上記
に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波の
低周波振動をウエーハケース（被測定部材）に与えるこ
とによってウエーハケースに加わる振動の再現性が良好
となるため、一定時間低周波振動を与える前後の純水中
のパーティクル個数を比較することにより、ウエーハケ
ースの清浄度をより定量的に評価することが可能とな
る。
に加えて、周波数と加速度のばらつきの少ない正弦波の
低周波振動をウエーハケース（被測定部材）に与えるこ
とによってウエーハケースに加わる振動の再現性が良好
となるため、一定時間低周波振動を与える前後の純水中
のパーティクル個数を比較することにより、ウエーハケ
ースの清浄度をより定量的に評価することが可能とな
る。
【００２６】さらに第５の手段によれば、加振機上に載
置した純水を漏洩することなく加振できる。
置した純水を漏洩することなく加振できる。
【００２７】次に第６及び第１２の手段によれば、純水
を注入したウエーハケースを加振台上に載置し、該ウエ
ーハケースに超音波振動を与えることにより、ウエーハ
ケース内面に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、ウエーハケース自体からのパーティク
ルの発生も検出される。特にウエーハケースに収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、ケース内壁に付着したパーティクルの離脱だけでな
く、ケース自体から発生するパーティクルに関してもそ
の量を正しく把握する必要があるが、かかる手段によれ
ば、この要求が充分に満足される。
を注入したウエーハケースを加振台上に載置し、該ウエ
ーハケースに超音波振動を与えることにより、ウエーハ
ケース内面に付着したパーティクルが純水中に離脱し易
くなるとともに、ウエーハケース自体からのパーティク
ルの発生も検出される。特にウエーハケースに収納した
ウエーハを輸送する際には振動が加わることがあるた
め、ケース内壁に付着したパーティクルの離脱だけでな
く、ケース自体から発生するパーティクルに関してもそ
の量を正しく把握する必要があるが、かかる手段によれ
ば、この要求が充分に満足される。
【００２８】また、周波数と出力のばらつきの少ない超
音波振動を与えることによってウエーハケースに加わる
振動の再現性が良好となるため、一定時間超音波振動を
与える前後の純水中のパーティクル個数を比較すること
により、ウエーハケースの清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
音波振動を与えることによってウエーハケースに加わる
振動の再現性が良好となるため、一定時間超音波振動を
与える前後の純水中のパーティクル個数を比較すること
により、ウエーハケースの清浄度をより定量的に評価す
ることが可能となる。
【００２９】また第７，第８の手段によれば、かかる手
段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつき
が少なく、加振効果も大きくなる。
段における周波数及び出力の範囲での超音波がばらつき
が少なく、加振効果も大きくなる。
【００３０】また第９及び第１３の手段によれば、超音
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰装置
にてこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加すること
ができる。
波の出力が過大となった場合において、超音波減衰装置
にてこれを減衰せしめた後、被測定部材に印加すること
ができる。
【００３１】また第１０の手段によれば、ウエーハケー
スに注入される純水の量を適切に設定することにより、
ウエーハケースからのパーティクルが侵入され易い純水
量で以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上
する。
スに注入される純水の量を適切に設定することにより、
ウエーハケースからのパーティクルが侵入され易い純水
量で以って清浄度の測定が可能となり、測定精度が向上
する。
【００３２】
【実施例】以下図１〜図１０を参照して本発明の実施例
につき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されて
いる構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は
特に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそ
れに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
につき詳細に説明する。但し、この実施例に記載されて
いる構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は
特に特定的な記載がないかぎりは、この発明の範囲をそ
れに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
【００３３】（１）第１実施例 図１は本発明の第１実施例に係るウエーハケースの清浄
度評価システムの系統図である。図１において、１は図
３に示されるウエーハケース本体であり、加振機５上に
連設されたステージ６上に載置され、加振機５からの正
弦波の加振力がステージ６を介して印加されるようにな
っている。
度評価システムの系統図である。図１において、１は図
３に示されるウエーハケース本体であり、加振機５上に
連設されたステージ６上に載置され、加振機５からの正
弦波の加振力がステージ６を介して印加されるようにな
っている。
【００３４】前記ウエーハケース本体１内には純水２が
その内容積の８０％程度（３５〜９５％の範囲が好まし
い）収容されている。４は純水２中のパーティクルの個
数を測定するためのパーティクル測定器であり、配管３
を介してウエーハケース本体１内の純水２に連通され、
純水２中のパーティクルを逐次的に測定可能となってい
る。
その内容積の８０％程度（３５〜９５％の範囲が好まし
い）収容されている。４は純水２中のパーティクルの個
数を測定するためのパーティクル測定器であり、配管３
を介してウエーハケース本体１内の純水２に連通され、
純水２中のパーティクルを逐次的に測定可能となってい
る。
【００３５】次に図１に示される清浄度測定・評価シス
テムを使用したウエーハケースの清浄度の測定・評価方
法について説明する。
テムを使用したウエーハケースの清浄度の測定・評価方
法について説明する。
【００３６】実験例１： （１）ウエーハケース本体１内に純水２を注入後、該純
水２の液面が安定するのを待って、液中の０．２μｍ以
上の大きさのパーティクル個数をパーティクル測定器４
によって測定した。 （２）その後、加振機５により振動数９００Ｈｚ、加速
度２０Ｇの正弦波の低周波振動をウエーハケース本体１
及びケース内の純水２に印加し、この低周波振動を、純
水２中のパーティクル個数をパーティクル測定器４によ
り１分間隔で測定しながら３０分印加し続けた。
水２の液面が安定するのを待って、液中の０．２μｍ以
上の大きさのパーティクル個数をパーティクル測定器４
によって測定した。 （２）その後、加振機５により振動数９００Ｈｚ、加速
度２０Ｇの正弦波の低周波振動をウエーハケース本体１
及びケース内の純水２に印加し、この低周波振動を、純
水２中のパーティクル個数をパーティクル測定器４によ
り１分間隔で測定しながら３０分印加し続けた。
【００３７】（３）上記方法による測定結果を加振時間
に対するパーティクルの増加個数の関係として、図４に
示す。図４に明らかなように、液中（純水２中）のパー
ティクルの数は加振時間１０分経過後にほぼ飽和してい
る。
に対するパーティクルの増加個数の関係として、図４に
示す。図４に明らかなように、液中（純水２中）のパー
ティクルの数は加振時間１０分経過後にほぼ飽和してい
る。
【００３８】実験例２： （１）実験例１の（１）項と同一操作、測定を行う。 （２）加振機５により振動数４００Ｈｚ、加速度１０Ｇ
の正弦波低周波振動をウエーハケース本体１及びケース
内の純水２に印加し続けてパーティクルの個数を１分間
隔で測定し、１０分間経過後に振動の印加を遮断した。
の正弦波低周波振動をウエーハケース本体１及びケース
内の純水２に印加し続けてパーティクルの個数を１分間
隔で測定し、１０分間経過後に振動の印加を遮断した。
【００３９】（３）ウエーハケース本体１内の純水２を
排出し、再度排水量と同量の純水をウエーハケース本体
１内に注入し、液面が安定した後、パーティクル測定器
４により純水２中のパーティクルの個数を測定した。 （４）次いでウエーハケース本体１及び純水２に、上記
（２）項と同一の正弦波低周波振動を１０分間印加し、
１分間毎に純水中のパーティクルの個数をパーティクル
測定器４により測定した。
排出し、再度排水量と同量の純水をウエーハケース本体
１内に注入し、液面が安定した後、パーティクル測定器
４により純水２中のパーティクルの個数を測定した。 （４）次いでウエーハケース本体１及び純水２に、上記
（２）項と同一の正弦波低周波振動を１０分間印加し、
１分間毎に純水中のパーティクルの個数をパーティクル
測定器４により測定した。
【００４０】（５）上記（１）〜（４）による測定結果
を図５に示す。図５から明らかなように、ウエーハケー
ス本体１内の純水２を１回排出した後は、再度純水を注
入し振動を与えても液中（純水中）パーティクルは殆ど
検出されない。即ち、ウエーハケース本体１中の純水２
に低周波振動を印加することにより、ウエーハケース本
体１の内壁に付着したパーティクルは効率良く離脱され
ることとなる。
を図５に示す。図５から明らかなように、ウエーハケー
ス本体１内の純水２を１回排出した後は、再度純水を注
入し振動を与えても液中（純水中）パーティクルは殆ど
検出されない。即ち、ウエーハケース本体１中の純水２
に低周波振動を印加することにより、ウエーハケース本
体１の内壁に付着したパーティクルは効率良く離脱され
ることとなる。
【００４１】実験例３： （１）成形後のウエーハケース本体１と洗浄後のウエー
ハケース本体１とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハケース本体１内に純水２を注入し、実
験例１と同様、振動数９００Ｈｚ、加速度２０Ｇの正弦
波低周波振動を１０分間印加した後、液中パーティクル
の個数を測定した。
ハケース本体１とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハケース本体１内に純水２を注入し、実
験例１と同様、振動数９００Ｈｚ、加速度２０Ｇの正弦
波低周波振動を１０分間印加した後、液中パーティクル
の個数を測定した。
【００４２】（３）上記（１）〜（２）による測定結果
を図６に示す。図６に明らかなように、成形後（未洗
浄）に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハケース本体の清浄度が上昇して
いる。
を図６に示す。図６に明らかなように、成形後（未洗
浄）に較べ、洗浄後におけるパーティクルの量が大幅に
減少しており、ウエーハケース本体の清浄度が上昇して
いる。
【００４３】実験例４： （１）ウエーハケース本体１に代えて、該本体１を覆蓋
するための上蓋５２をステージ６上に載置し、純水２を
該上蓋５２の内容積の８０％程度注入し、液面が安定し
た後、純水中の０．２μｍ以上の大きさのパーティクル
の個数を測定した。
するための上蓋５２をステージ６上に載置し、純水２を
該上蓋５２の内容積の８０％程度注入し、液面が安定し
た後、純水中の０．２μｍ以上の大きさのパーティクル
の個数を測定した。
【００４４】（２）その後加振機５により振動数９００
Ｈｚ、加速度３０Ｇの正弦波低周波振動を、上蓋５２及
びその内部の純水２に印加し、１分毎に液中のパーティ
クル個数をパーティクル測定器４によって測定しながら
上記振動を３０分間印加し続けた。 （３）上記（１）〜（２）による測定結果を図７に示
す。図７から明らかなように、液中（純水２中）のパー
ティクルの量は加振を始めて約２分後にほぼ飽和してい
る。
Ｈｚ、加速度３０Ｇの正弦波低周波振動を、上蓋５２及
びその内部の純水２に印加し、１分毎に液中のパーティ
クル個数をパーティクル測定器４によって測定しながら
上記振動を３０分間印加し続けた。 （３）上記（１）〜（２）による測定結果を図７に示
す。図７から明らかなように、液中（純水２中）のパー
ティクルの量は加振を始めて約２分後にほぼ飽和してい
る。
【００４５】（２）第２実施例 図２は本発明の第２実施例に係るウエーハケース清浄度
評価システムの系統図である。図２において、１は図３
に示されるウエーハケース本体であり、内部に純水２が
収容されている。該純水２の量はウエーハケース本体１
の内容積の３５〜９５％が適切である。
評価システムの系統図である。図２において、１は図３
に示されるウエーハケース本体であり、内部に純水２が
収容されている。該純水２の量はウエーハケース本体１
の内容積の３５〜９５％が適切である。
【００４６】６１は内部に水８が貯溜された水槽であ
り、該水槽６１の底部には超音波発振器５９が設置され
ている。９は該超音波発振器５９からの超音波を被測定
部材であるウエーハケース本体１に印加するに適切な強
さまで減衰するための超音波減衰器である。
り、該水槽６１の底部には超音波発振器５９が設置され
ている。９は該超音波発振器５９からの超音波を被測定
部材であるウエーハケース本体１に印加するに適切な強
さまで減衰するための超音波減衰器である。
【００４７】前記超音波減衰器９はポリプロピレン、ポ
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器９は複数個の支持脚７にて水
槽６１に支持され、さらにウエーハケース（被測定体）
１は超音波減衰器９の底部から立設された支持脚１０に
より支持されている。
リエチレン、ポリカーボネート等の材料から構成され
る。また前記超音波減衰器９は複数個の支持脚７にて水
槽６１に支持され、さらにウエーハケース（被測定体）
１は超音波減衰器９の底部から立設された支持脚１０に
より支持されている。
【００４８】４はウエーハケース１内のパーティクルを
測定するためのパーティクル測定器であり、配管３を介
してウエーハケース１内の純水２に連通され、純水２中
のパーティクルを逐次的に測定可能となっている。
測定するためのパーティクル測定器であり、配管３を介
してウエーハケース１内の純水２に連通され、純水２中
のパーティクルを逐次的に測定可能となっている。
【００４９】次に図２に示される清浄度測定・評価シス
テムを使用したウエーハケースの清浄度の測定・評価方
法について説明する。
テムを使用したウエーハケースの清浄度の測定・評価方
法について説明する。
【００５０】実験例５： （１）ウエーハケース本体１内に純水２を注入し、液面
の安定後、０．２μｍ以上のパーティクルの個数をパー
ティクル測定器４によって測定した。 （２）超音波発振器５により、周波数４０ｋＨｚ、出力
３００Ｗの超音波を２０分印加しパーティクル個数を１
分間隔で測定する。次に前記２０分印加後の純水を排出
した後、純水を再注入し１０分印加し、１分毎に測定し
た。
の安定後、０．２μｍ以上のパーティクルの個数をパー
ティクル測定器４によって測定した。 （２）超音波発振器５により、周波数４０ｋＨｚ、出力
３００Ｗの超音波を２０分印加しパーティクル個数を１
分間隔で測定する。次に前記２０分印加後の純水を排出
した後、純水を再注入し１０分印加し、１分毎に測定し
た。
【００５１】（３）上記方法によれば、純水２中のパー
ティクルの個数は図８に示すように、液中パーティクル
の個数は１０分後にほぼ飽和している。また、ウエーハ
ケース本体１内の純水２を１回排出した後は、再度純水
を注入し超音波振動を与えても液中（純水中）パーティ
クルは殆ど検出されない。即ちウエーハケース本体１内
の純水２に超音波振動を印加することにより、ウエーハ
ケース本体１の内壁に付着したパーティクルは効率良く
離脱されることとなる。
ティクルの個数は図８に示すように、液中パーティクル
の個数は１０分後にほぼ飽和している。また、ウエーハ
ケース本体１内の純水２を１回排出した後は、再度純水
を注入し超音波振動を与えても液中（純水中）パーティ
クルは殆ど検出されない。即ちウエーハケース本体１内
の純水２に超音波振動を印加することにより、ウエーハ
ケース本体１の内壁に付着したパーティクルは効率良く
離脱されることとなる。
【００５２】実験例６： （１）成形後のウエーハケース本体１と洗浄後のウエー
ハケース本体１とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハケース本体１内に純水２を注入し、周
波数４０ｋＨｚ、出力３００Ｗの超音波を超音波発振器
５により１０分間印加した後、液中パーティクルの個数
を測定した。
ハケース本体１とを夫々１０個用意した。 （２）各ウエーハケース本体１内に純水２を注入し、周
波数４０ｋＨｚ、出力３００Ｗの超音波を超音波発振器
５により１０分間印加した後、液中パーティクルの個数
を測定した。
【００５３】（３）上記による測定方法によれば、成形
後（未洗浄）のものに較べ図９に示すように、洗浄後の
ウエーハケース本体１の清浄度が大幅に向上している。
後（未洗浄）のものに較べ図９に示すように、洗浄後の
ウエーハケース本体１の清浄度が大幅に向上している。
【００５４】実験例７： （１）図２におけるウエーハケース本体１に代えて上蓋
５２（図３参照）を取付け、該上蓋５２内に純水を内容
積の８０％程度注入する。 （２）液面の安定後、液中の０．２μｍ以上の大きさの
パーティクル個数をパーティクル測定器４にて測定し
た。
５２（図３参照）を取付け、該上蓋５２内に純水を内容
積の８０％程度注入する。 （２）液面の安定後、液中の０．２μｍ以上の大きさの
パーティクル個数をパーティクル測定器４にて測定し
た。
【００５５】（３）その後、周波数４０ｋＨｚ、出力４
００Ｗの超音波をを２０分印加しパーティクル個数を１
分間隔で測定する。次に前記２０分印加後の純水を排出
した後、純水を再注入し１０分印加し、１分毎に測定し
た。 （４）上記（１）〜（３）による測定結果を図１０に示
す。図１０から明らかなように、液中パーティクルの個
数は１０分後にほぼ飽和している。また、上蓋５２内の
純水２を１回排出した後は、再度純水を注入し超音波振
動を与えても液中（純水中）パーティクルは殆ど検出さ
れない。即ち上蓋５２内の純水２に超音波振動を印加す
ることにより、上蓋５２の内壁に付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
００Ｗの超音波をを２０分印加しパーティクル個数を１
分間隔で測定する。次に前記２０分印加後の純水を排出
した後、純水を再注入し１０分印加し、１分毎に測定し
た。 （４）上記（１）〜（３）による測定結果を図１０に示
す。図１０から明らかなように、液中パーティクルの個
数は１０分後にほぼ飽和している。また、上蓋５２内の
純水２を１回排出した後は、再度純水を注入し超音波振
動を与えても液中（純水中）パーティクルは殆ど検出さ
れない。即ち上蓋５２内の純水２に超音波振動を印加す
ることにより、上蓋５２の内壁に付着したパーティクル
は効率良く離脱されることとなる。
【００５６】
【発明の効果】本発明は、ウエーハ収納部材（ウエーハ
ケース）のうち内部に液体を収容し得るウエーハケース
本体、上蓋等の容器状部材内に純水を注入し、これに低
周波振動又は超音波振動を印加し、純水中のパーティク
ルの個数をカウントするように構成したので、ウエーハ
ケースに付着したパーティクルが純水中に離脱し易くな
るとともに、ウエーハケース自体からのパーティクルの
発生も定量的に検知することができる。
ケース）のうち内部に液体を収容し得るウエーハケース
本体、上蓋等の容器状部材内に純水を注入し、これに低
周波振動又は超音波振動を印加し、純水中のパーティク
ルの個数をカウントするように構成したので、ウエーハ
ケースに付着したパーティクルが純水中に離脱し易くな
るとともに、ウエーハケース自体からのパーティクルの
発生も定量的に検知することができる。
【００５７】また純水をパーティクル測定装置に導きパ
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
ーティクルの個数を逐次的に測定するようにしているの
で、パーティクル発生の経時変化を正確に把握すること
ができる。
【００５８】また請求項２〜５の発明によれば、周波数
と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与え
ることによってウエーハケースに加わる振動の再現性が
良好となるため、一定時間低周波振動を与える前後の純
水中のパーティクル個数を比較することにより、ウエー
ハケースの清浄度をより定量的に評価することが可能と
なる。
と加速度のばらつきの少ない正弦波の低周波振動を与え
ることによってウエーハケースに加わる振動の再現性が
良好となるため、一定時間低周波振動を与える前後の純
水中のパーティクル個数を比較することにより、ウエー
ハケースの清浄度をより定量的に評価することが可能と
なる。
【００５９】また請求項６〜９の発明によれば、周波数
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースに加わる振動の再現性が良好となる
ため、一定時間超音波振動を与える前後の純水中のパー
ティクル個数を比較することで、ウエーハケースの清浄
度をより定量的に評価することが可能となる。
と出力のばらつきの少ない超音波振動を与えることによ
ってウエーハケースに加わる振動の再現性が良好となる
ため、一定時間超音波振動を与える前後の純水中のパー
ティクル個数を比較することで、ウエーハケースの清浄
度をより定量的に評価することが可能となる。
【００６０】また請求項１１〜１３に示される本発明の
装置によれば、ウエーハケースに純水を注入し、これに
振動を与えてパーティクルの個数を検出するという、比
較的簡単かつ低コストの装置で以ってウェーハケースの
清浄度を正しく検知・評価することができる。
装置によれば、ウエーハケースに純水を注入し、これに
振動を与えてパーティクルの個数を検出するという、比
較的簡単かつ低コストの装置で以ってウェーハケースの
清浄度を正しく検知・評価することができる。
【００６１】以上に示されたウエーハケースの清浄度測
定、詳細方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
定、詳細方法及び装置によれば、新品のウエーハケース
のみならず、ウエーハケースの再利用品についても新品
と同様な手法で以ってウエーハケースの清浄度の測定・
評価を行うことができる。
【図１】本発明の第１実施例に係るウエーハケースの清
浄度測定・評価装置（低周波振動印加）の構成図。
浄度測定・評価装置（低周波振動印加）の構成図。
【図２】本発明の第２実施例に係るウエーハケースの清
浄度測定・評価装置（超音波振動印加）の構成図。
浄度測定・評価装置（超音波振動印加）の構成図。
【図３】ウエーハケース（ウエーハ収納部材）の分解斜
視図。
視図。
【図４】第１実験例の結果を示す線図。
【図５】第２実験例の結果を示す線図。
【図６】第３実験例の結果を示す線図。
【図７】第４実験例の結果を示す線図。
【図８】第５実験例の結果を示す線図。
【図９】第６実験例の結果を示す線図。
【図１０】第７実験例の結果を示す線図。
５０ ウエーハケース １ ウエーハケース本体 ５２ 上蓋 ２ 純水 ３ 配管 ４ パーティクル測定器 ５ 加振機 ６１ 水槽 ８ 水 ５９ 超音波発振器
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｈ０１Ｌ 21/66 Ｊ 21/68 21/68 Ｔ
Claims (13)
- 【請求項１】 半導体ウエーハ収納用のウエーハバスケ
ットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上蓋
の清浄度を測定・評価するにあたり、前記ウエーハケー
ス本体又は上蓋にて構成される容器状の被測定部材内に
純水を注入して加振機上に載置し、 前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中パーティク
ルの個数をカウントし、 次いで前記加振機により低周波振動を一定時間附与し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て加振前後のパーティクルの増加個数を求め、 該パーティクルの増加個数により前記被測定部材の清浄
度を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項２】 前記低周波振動が正弦波振動である請求
項１記載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項３】 前記低周波振動の振動数が５０Ｈｚ〜２
０００Ｈｚである請求項１ないし２記載のウエーハ収納
部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項４】 前記低周波振動の加速度が２Ｇ〜５０Ｇ
である請求項１ないし３記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項５】 前記低周波振動が鉛直方向に附与される
請求項１ないし４記載のウエーハ収納部材の清浄度測定
・評価方法。 - 【請求項６】 半導体ウエーハ収納用のウエーハバスケ
ットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上蓋
の清浄度を測定・評価するにあたり、 前記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状
の被測定部材内に純水を注入して、超音波発振器を備え
た水槽内に配置し、 前記純水の液面の安定後でかつ加振前に液中パーティク
ルの個数をカウントし、 次いで前記超音波発振器により超音波を一定時間印加
し、 その後に再度純水中のパーティクルの個数をカウントし
て超音波印加前後のパーティクルの増加個数を求め、 該パーティクルの増加個数により前記被測定部材の清浄
度を評価することを特徴とするウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項７】 前記超音波の周波数が２０ｋＨｚ〜５０
ｋＨｚである請求項６記載のウエーハ収納部材の清浄度
測定・評価方法。 - 【請求項８】 前記超音波の出力が３００Ｗ〜４００Ｗ
である請求項６ないし７記載のウエーハ収納部材の清浄
度測定・評価方法。 - 【請求項９】 前記超音波発振器と被測定部材との間で
超音波減衰装置により超音波を減衰せしめ、減衰された
超音波を前記被測定部材に印加する請求項６ないし８記
載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項１０】 前記純水の注入量が前記被測定部材の
内容積の３５〜９５％である請求項１及び６記載のウエ
ーハ収納部材の清浄度測定・評価方法。 - 【請求項１１】 半導体ウエーハ収納用のウエーハバス
ケットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上
蓋の清浄度を測定・評価するものにおいて、 前記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成される容器状
の被測定部材を、該被測定部材内に一定量の純水が注入
された状態で加振する加振機と、 前記被測定部材内の純水中に接続され、該純水中のパー
ティクルの量を測定するパーティクル測定装置とを備え
たことを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評
価装置。 - 【請求項１２】 半導体ウエーハ収納用のウエーハバス
ケットを収納するウエーハケース本体及び該ケースの上
蓋の清浄度を測定・評価するものにおいて、 前記ウエーハケース本体又は上蓋にて構成され、内部に
純水が注入された容器状の被測定部材と、該被測定部材
をその外壁面が水中に浸漬された状態で収容する水槽
と、該水槽内の前記被測定部材の下方に設置され、該被
測定部材に超音波を印加する超音波発振器と、 前記被測定部材内の純水中に接続され、該純水中のパー
ティクルの量を測定するパーティクル測定装置とを備え
たことを特徴とするウエーハ収納部材の清浄度測定・評
価装置。 - 【請求項１３】 前記超音波発振器と被測定部材との間
に超音波を減衰する超音波減衰装置を設けた請求項１２
記載のウエーハ収納部材の清浄度測定・評価装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17936195A JP3003550B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
| US08/665,809 US5793833A (en) | 1995-06-22 | 1996-06-19 | Method of and apparatus for measuring and estimating the cleanliness of wafer accommodating members |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP17936195A JP3003550B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH095227A true JPH095227A (ja) | 1997-01-10 |
| JP3003550B2 JP3003550B2 (ja) | 2000-01-31 |
Family
ID=16064515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP17936195A Expired - Lifetime JP3003550B2 (ja) | 1995-06-22 | 1995-06-22 | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3003550B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100711937B1 (ko) * | 2005-07-28 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
| US7597012B2 (en) | 2006-06-15 | 2009-10-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System and method for using a spray/liquid particle count (LPC) to measure particulate contamination |
| JP2016506065A (ja) * | 2012-11-30 | 2016-02-25 | ファイファー バキユーム | 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアにおける粒子汚染を測定するための測定ステーションおよび測定方法 |
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|---|---|---|---|---|
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| KR102504552B1 (ko) * | 2021-09-10 | 2023-03-02 | (주)디바이스이엔지 | 반도체 제조 부품의 플러싱 조건 결정 장치 및 플러싱 조건 결정 방법 |
-
1995
- 1995-06-22 JP JP17936195A patent/JP3003550B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100711937B1 (ko) * | 2005-07-28 | 2007-05-02 | 삼성전자주식회사 | 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
| US7597012B2 (en) | 2006-06-15 | 2009-10-06 | Hitachi Global Storage Technologies Netherlands B.V. | System and method for using a spray/liquid particle count (LPC) to measure particulate contamination |
| JP2016506065A (ja) * | 2012-11-30 | 2016-02-25 | ファイファー バキユーム | 大気圧において半導体基板を搬送し格納する輸送キャリアにおける粒子汚染を測定するための測定ステーションおよび測定方法 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3003550B2 (ja) | 2000-01-31 |
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