JP3452104B2 - 洗浄又は浸漬用の装置 - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は洗浄又は浸漬用の装
置に関し、特に半導体ウェーハ及び治具類の洗浄、エッ
チング等に好適な洗浄又は浸漬用の装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】洗浄又は浸漬、例えば薬液や純水による
半導体ウェーハの洗浄、或いは薬液に漬け込んでの半導
体ウェーハのエッチングなどでは、従来、石英から成る
洗浄槽（石英槽）、或いはＰＴＦＥやＰＦＡを使用した
洗浄槽が使用されて来た（以下「半導体ウェーハ」は
「ウェーハ」と略称する。ＰＴＦＥ＝ポリテトラフロロ
エチレン。ＰＦＡ＝テトラフルオロエチレン−パーフル
オロアルキルビニルエーテル重合体。）。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】石英槽は高価である。
また割れ易く取り扱いが難しい。ＰＴＦＥやＰＦＡ等を
使用した洗浄槽の場合は、長期間使用することで槽内の
表面状態が悪くなり、汚染（キャリーオーバー）を惹き
起こす虞れが大きい。

【０００４】また従来のものは槽の大きさのバリエーシ
ョン（種類）が無く（高価なので何種類も用意するのは
コスト高）、大物でも小物でも、或いはウェーハ１枚で
も２５枚でも、同じ大きさの洗浄槽を用いるしかなく、
余分な薬液の使用があった。これは単に不経済というだ
けでなく、廃液処理のコストが嵩むという問題にも繋が
っていた。

【０００５】また従来のものは大きくて重い。このた
め、槽の持ち運び、移動も難しかった。保管スペースも
大きく取られていた。

【０００６】本発明の目的は、これら従来の欠点を解消
し、これら小物、大物といった種々の洗浄、浸漬の形態
に対応可能で、薬液等の使用量も節約でき、環境にも優
しく、プロセス設計時の試作、少量多品種生産などにも
適し、運搬等が簡単、保管スペースも少なく、槽内の表
面を常に良好に維持出来る等、種々の効果が期待できる
洗浄又は浸漬用の装置を提供することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】上記目的達成のため本発
明では、処理対象物を洗浄槽に入れて洗浄又は浸漬を行
なう洗浄又は浸漬用の装置に於て、両側にリングが形成
された上記洗浄槽と、該洗浄槽のリングをフックにより
懸架すると共に、自在に変形可能な洗浄槽支持枠とを有
し、該洗浄槽の形状に応じて前記洗浄槽支持枠を変形可
能にしたものを用いることとし、その変形可能な洗浄槽
にて半導体ウェーハの洗浄又は浸漬を行う。

【０００８】洗浄槽は、例えばＰＴＦＥのフィルムを用
い袋状に形成される。変形可能なので、折り畳み自在で
あり、運搬、移動取り付けが簡単になる。また洗浄槽の
内部表面が荒れて来たときは簡単に取り替えられる。袋
の口を閉鎖すれば、雰囲気が外部へ洩れることも無くな
る。外部から洗浄槽内への酸素その他のガス進入も阻止
される。

【０００９】

【発明の実施の形態】以下本発明の詳細を各図を引用し
て説明する。図１及び図２に本発明の実施の形態の一例
を示す。図１は実施の形態例たる洗浄装置１０全体を示
す。図２はその洗浄槽１１と、洗浄槽支承枠１２とを取
り出して示す。

【００１０】洗浄槽１１は、ＰＴＦＡ、ＰＦＡ、塩化ビ
ニール等のフィルムで箱状に形成されていて、両側にリ
ング１２が設けられている。これが洗浄槽支承枠１２の
フック１４に懸架され、全体が下方に垂下して箱状をな
す。

【００１１】洗浄槽支承枠１３は、複数枚の板材１５を
ヒンジ１６で連結したものである。図２のように筒状に
展開し、自立させることが出来る。また種々の洗浄槽の
形状に合わせ、自在に変形させることが出来る。これで
前述のとおりリング１２をフック１４に懸架して洗浄槽
１１を吊下する。なお図１では板材の一部の図示を省略
した。

【００１２】図１の説明に戻り、１７は洗浄対象物たる
ウェーハである。この例ではウェーハ１７はキャリヤ１
８に収容され洗浄槽１１内に置かれている。キャリヤ１
８の下には散乱板（ビーズ板）１９が配置されている。

【００１３】散乱板１９は、洗浄槽１１内へ供給される
純水その他の液体を、洗浄槽１１内に均等に分散させる
為のものである。洗浄対象物の置台にも利用される。

【００１４】２２はレベラーで、洗浄槽１１内の純水又
は薬液の液面位置を計測する。２３は熱電対で、純水、
薬液の温度を計測する。２４はドレン口で、ここから用
済みの純水や薬液を排出する。純水の供給口としても利
用される。２５はバルブで、ドレン口２４を開閉する。

【００１５】薬液は、薬液供給管２０から注入され、ド
レン口２４から排出される。純水は、純水供給管２１或
いはドレン口２４から排出される。ドレン口２４から注
入されることもある。

【００１６】例えばウェーハ洗浄では、下記順序で注
入、排出が行なわれる。

【００１７】 純水 過酸化水素水＋アンモニア 純水 過酸化水素水＋塩酸 希弗酸（水１００に対し弗酸１） 以下、変形例について説明する。洗浄槽は密閉形式にも
出来る。この例を図３及び図４に示す。図３の洗浄槽３
１の場合は、例えばホース３４で窒素ガスを封入しなが
ら上部開口３２をホースバンド３３等で閉鎖し、密閉す
る。

【００１８】図４の洗浄槽４１は、いわば牛乳パック型
のもので、これも折り畳み、密閉が可能である（上部開
口４２を牛乳パックと同様に閉鎖）。

【００１９】これら洗浄槽３１，４１は、作業終了直後
に密閉することで、クリーンな密閉型キャリア、即ち、
内部のものを空気や塵埃に触れさせない搬送手段として
も利用できる。

【００２０】図５の洗浄槽６１は、槽の厚みＴを少なく
したものである。ウェーハ１枚のみを洗浄するときなど
有用である。また図示のように底部６２に複数の注入排
出口６３を分散配置すると、底部６２の隅での洗浄液、
スラリー等の滞留を防ぎ、洗浄効果が高い。

【００２１】図６の洗浄槽７１は単純な円筒状である。
これも自立性が高い。なお７２は懸架用の孔で、洗浄槽
１１のリング１２に相当する。洗浄槽支承枠１２を使用
するときは、これをフック１４に懸架する。

【００２２】下方の筒７３は注入排出口で、ここから薬
液や純水の注入、排出を行なう。このとき上部の孔７１
を溢水口に利用しても良い。

【００２３】図７の洗浄槽８１は単純な箱型で、これで
も十分用をなす。なお８２は注入排出口である。８３は
懸架用取手で、洗浄槽１１のリング１２と同様のもので
ある。また運搬、設置、移動の際の取手にも利用できる
（リング１２も同じ）。

【００２４】個々の洗浄槽の荷姿の例（収納形態の例）
を図８に示す。同図（Ａ）は洗浄槽１１（図１、図
２）、洗浄槽３１（図３）、洗浄槽８１（図７）などの
荷姿を示し、同図（Ｂ）は洗浄槽４１（図４）の荷姿、
同図（Ｃ）は洗浄槽６１（図５）、洗浄槽７１（図６）
などの荷姿、同図（Ｄ）は洗浄槽５１（図６）の荷姿を
示す。

【００２５】なお本発明装置は、露光したウェーハを薬
液に漬けてエッチングするなど、薬液への種々のものの
浸漬作業にも利用できる。またウェーハ以外の種々の大
物、小物の洗浄、浸漬にも利用出来る。

【００２６】

【発明の効果】以上説明したように本発明では、両側に
リングが形成された洗浄槽と、該洗浄槽のリングをフッ
クにより懸架すると共に、自在に変形可能な洗浄槽支持
枠と、処理対象物を入れる洗浄槽とを有し、該洗浄槽の
形状に応じて前記洗浄槽支持枠を変形可能にしたものを
用いることとし、その変形可能な洗浄槽を半導体ウェー
ハの洗浄又は浸漬に用いるので、洗浄対象物に対応して
自在に変形が可能であり、全ての洗浄形態に対応可能で
ある。また、薬液や純水の使用量を洗浄対象物の洗浄等
に必要な量に応じた値にすることができ、排出される薬
液量が削減され、薬液の無駄をなくすことができる。そ
して、洗浄支持枠のリングを洗浄槽のフックにより懸架
することにより洗浄槽を例えば筒状に展開する等して自
立させることも可能である。

【００２７】従って、洗浄対象物に対応して、自在な変
形が可能であり、小物、ウェーハ１枚だけの洗浄から、
大物、多数枚のウェーハの洗浄というように、全ての洗
浄形態に対応可能である。薬液や純水の使用量をそれに
応じた値に抑えることが出来、排出される薬液量が削減
され、薬液代も削減出来る。環境にも優しくなる。

【００２８】プロセス設計時の試作にも有効で、更に少
量多品種という時代の流れにも適応している。折り畳み
が可能で、運搬、移動、取り付けが簡単になり、保管ス
ペースが少なくなる。

【００２９】装置の製造コストが安価になり、半導体装
置その他の生産コストが低減される。安価なので、いわ
ば気軽に交換出来、常に洗浄槽内表面を良好な状態に維
持出来、質の高い洗浄が実現される。メンテナンスコス
トも安くなる。

【００３０】密閉構造が容易に実現でき、製品の酸化、
汚染が防止出来る。窒素ガスを封入するなどしてその侭
保存することも出来るようになる。有害な薬液等を使用
するとき、外部に雰囲気を漏出させないで済む。窒素ガ
スなどの雰囲気の節約にもなる。キャリアにも使用でき
る（特に密閉キャリヤとして）。

【図面の簡単な説明】

【図１】 本発明の実施の形態の一例たる洗浄装置１０
の全体を示す斜視図。

【図２】 図１の洗浄槽とその支承枠（洗浄槽支承枠１
２）とを取り出して示す斜視図。

【図３】 密閉可能な洗浄槽の例（３１）を示す斜視
図。

【図４】 密閉可能な洗浄槽の例（４１）を示す斜視
図。

【図５】 槽の厚みＴを少なくし洗浄槽の例（６１）を
示す斜視図。

【図６】 単純な円筒状の洗浄槽の例（７１）を示す斜
視図。

【図７】 単純な箱型の洗浄槽の例（８１）を示す斜視
図。

【図８】 個々の洗浄槽の荷姿の例（収納形態の例）を
示す斜視図。

【符号の説明】

１０…洗浄又は浸漬用の装置 １１…洗浄槽 ３１…洗浄槽 ４１…洗浄槽 ５１…洗浄槽 ６１…洗浄槽 ７１…洗浄槽 ８１…洗浄槽

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (58)調査した分野(Int.Cl.⁷，ＤＢ名) H01L 21/304 B08B 3/04

Claims (2)

(57)【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理対象物を洗浄槽に入れて洗浄又は浸
   漬を行う洗浄又は浸漬用の装置に於て、 両側にリングが形成された前記洗浄槽と、 前記洗浄槽のリングをフックにより懸架すると共に、自
   在に変形可能な洗浄槽支持枠とを有し、 前記洗浄槽の形状に応じて前記洗浄槽支持枠を変形可能
   にしたことを特徴とする洗浄又は浸漬用の装置。
2. 【請求項２】 ウェーハを洗浄槽に入れて洗浄すること
   を特徴とする請求項１記載の洗浄又は浸漬用の装置。