KR100711937B1 - 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 - Google Patents
초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 Download PDFInfo
- Publication number
- KR100711937B1 KR100711937B1 KR1020050068710A KR20050068710A KR100711937B1 KR 100711937 B1 KR100711937 B1 KR 100711937B1 KR 1020050068710 A KR1020050068710 A KR 1020050068710A KR 20050068710 A KR20050068710 A KR 20050068710A KR 100711937 B1 KR100711937 B1 KR 100711937B1
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- substrate
- ultrasonic
- ultrasonic waves
- delete delete
- stage
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/44—Processing the detected response signal, e.g. electronic circuits specially adapted therefor
- G01N29/48—Processing the detected response signal, e.g. electronic circuits specially adapted therefor by amplitude comparison
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/04—Analysing solids
- G01N29/043—Analysing solids in the interior, e.g. by shear waves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N29/00—Investigating or analysing materials by the use of ultrasonic, sonic or infrasonic waves; Visualisation of the interior of objects by transmitting ultrasonic or sonic waves through the object
- G01N29/22—Details, e.g. general constructional or apparatus details
- G01N29/223—Supports, positioning or alignment in fixed situation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/04—Wave modes and trajectories
- G01N2291/042—Wave modes
- G01N2291/0421—Longitudinal waves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/04—Wave modes and trajectories
- G01N2291/042—Wave modes
- G01N2291/0422—Shear waves, transverse waves, horizontally polarised waves
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/04—Wave modes and trajectories
- G01N2291/044—Internal reflections (echoes), e.g. on walls or defects
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/04—Wave modes and trajectories
- G01N2291/056—Angular incidence, angular propagation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2291/00—Indexing codes associated with group G01N29/00
- G01N2291/10—Number of transducers
- G01N2291/101—Number of transducers one transducer
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Acoustics & Sound (AREA)
- Signal Processing (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
Abstract
Description
Claims (26)
- 삭제
- 삭제
- 반도체 기판의 중심 부위에 초음파를 인가하는 단계;상기 기판의 가장자리 부위 및 상기 기판 내부의 결함으로부터 반사되어 상기 기판을 통해 전달된 초음파를 다수의 지점에서 수신하는 단계; 및상기 수신된 초음파 신호를 분석하여 상기 기판 내부의 결함을 검출하는 단계를 포함하는 초음파를 이용한 기판 검사 방법.
- 제3항에 있어서, 상기 전달된 초음파는 상기 기판의 중심으로부터 방사상으로 위치된 적어도 3개의 수신 지점들에서 수신되는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 기판 검사 방법.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 반도체 기판을 지지하기 위한 스테이지;상기 기판의 후면과 접하도록 상기 스테이지의 중심 부위에 내장되며, 상기 기판의 중심 부위로 초음파를 인가하기 위한 제1 초음파 변환기;상기 기판의 후면과 접하도록 상기 스테이지의 중심 부위로부터 이격된 다수의 지점들에 내장되며, 상기 기판의 가장자리 부위 및 상기 기판 내부의 결함으로부터 반사되어 상기 기판을 통해 전달된 초음파를 수신하기 위한 다수의 제2 초음파 변환기들; 및상기 수신된 초음파 신호를 분석하여 상기 기판 내부의 결함을 검출하기 위한 분석기를 포함하는 초음파를 이용한 기판 검사 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 제2 초음파 변환기들은 서로 일정 간격 이격되어 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 기판 검사 장치.
- 제13항에 있어서, 상기 제1 초음파 변환기와 연결되며 고주파 신호를 발생시키기 위한 주파수 발생기와, 상기 제2 초음파 변환기들과 연결되어 상기 제2 초음파 변환기들에 의해 수신된 초음파 신호들을 증폭시키기 위한 신호 증폭기를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 기판 검사 장치.
- 제15항에 있어서, 상기 분석기는, 상기 증폭된 초음파 신호들을 디지털화하기 위한 아날로그/디지털 컨버터와, 상기 디지털화된 초음파 신호값들로 구성된 검출 정보를 기준 정보와 비교하여 상기 결함을 검출하기 위한 연산 유닛과, 상기 검출 정보와 상기 기준 정보를 저장하기 위한 데이터 저장 유닛을 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 기판 검사 장치.
- 제16항에 있어서, 상기 분석기와 연결되며, 상기 검출 정보와 상기 검출된 결함을 표시하기 위한 디스플레이 유닛을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 초음파 를 이용한 기판 검사 장치.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 반도체 기판을 지지하기 위한 스테이지;상기 스테이지 상에 지지된 기판의 중심 부위로부터 이격된 적어도 3개의 지점들에서 상기 기판의 후면과 접하도록 상기 스테이지에 내장되며, 상기 기판으로 초음파를 인가하고, 상기 기판의 가장자리 부위 및 상기 기판의 내부 결함으로부터 반사되어 상기 기판을 통해 전달된 초음파를 수신하기 위한 다수의 초음파 변환기들; 및상기 수신된 초음파 신호를 분석하여 상기 기판 내부의 결함을 검출하기 위한 분석기를 포함하되,상기 초음파 변환기들 중에서 선택된 하나로부터 상기 초음파가 발생되며, 상기 전달된 초음파는 나머지 초음파 변환기들에 의해 수신되는 것을 특징으로 하는 초음파를 이용한 기판 검사 장치.
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
- 삭제
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050068710A KR100711937B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
US11/428,804 US7526959B2 (en) | 2005-07-28 | 2006-07-05 | Method of inspecting a substrate using ultrasonic waves and apparatus for performing the same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050068710A KR100711937B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20070014261A KR20070014261A (ko) | 2007-02-01 |
KR100711937B1 true KR100711937B1 (ko) | 2007-05-02 |
Family
ID=37692827
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050068710A Expired - Fee Related KR100711937B1 (ko) | 2005-07-28 | 2005-07-28 | 초음파를 이용한 기판 검사 방법 및 이를 수행하기 위한장치 |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7526959B2 (ko) |
KR (1) | KR100711937B1 (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20250018649A (ko) | 2023-07-31 | 2025-02-07 | 인하대학교 산학협력단 | 반도체 기판의 건전성 진단 시스템 및 방법 |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102006040486A1 (de) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur zerstörungsfreien Materialprüfung von hochreinem polykristallinen Silicium |
US7902091B2 (en) * | 2008-08-13 | 2011-03-08 | Varian Semiconductor Equipment Associates, Inc. | Cleaving of substrates |
US8626459B2 (en) * | 2008-09-25 | 2014-01-07 | The Regents Of The University Of California | Defect detection in objects using statistical approaches |
US8508239B2 (en) * | 2009-05-05 | 2013-08-13 | Lam Research Corporation | Non-destructive signal propagation system and method to determine substrate integrity |
JP5976392B2 (ja) * | 2012-05-16 | 2016-08-23 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体集積回路およびその動作方法 |
US10119290B2 (en) * | 2016-08-02 | 2018-11-06 | Worksafe Technologies | Modular isolation supports and floors |
EP3769078B1 (en) | 2018-03-22 | 2024-08-14 | Molex, LLC | System and method of submitting data from individual sensors over a shared cable |
CN108760883B (zh) * | 2018-05-30 | 2021-03-16 | 东营钧辰石油设备有限责任公司 | 一种便捷型超声波探伤设备 |
US11486834B2 (en) * | 2018-12-27 | 2022-11-01 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Substrate inspection method and method of fabricating a semiconductor device using the same |
JP2021043012A (ja) * | 2019-09-09 | 2021-03-18 | キオクシア株式会社 | 検査装置 |
KR20230027599A (ko) * | 2021-08-19 | 2023-02-28 | 삼성전기주식회사 | 전자부품의 결함 검출장치 및 검출방법 |
KR102684125B1 (ko) * | 2021-11-24 | 2024-07-11 | 주식회사 메타소닉 | 적층형 반도체의 잠재 불량 스크린 장치 및 그 방법 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH095227A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
KR20010108385A (ko) * | 1999-03-24 | 2001-12-07 | 추후제출 | 자동 처리 장치에서 제품을 검출하기 위한 장치 및 방법 |
KR20020046829A (ko) * | 2000-12-15 | 2002-06-21 | 윤종용 | 웨이퍼 검사 장치 |
JP2004335570A (ja) * | 2003-05-01 | 2004-11-25 | Renesas Technology Corp | 基板処理装置 |
KR20050007482A (ko) * | 2003-07-08 | 2005-01-19 | 동부아남반도체 주식회사 | 웨이퍼 상의 파티클 검출장치 및 검출방법 |
Family Cites Families (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3380939D1 (de) * | 1982-10-06 | 1990-01-11 | Welding Inst | Akustische feststellung von fehlstellen in strukturen. |
JPS6064282A (ja) * | 1983-09-19 | 1985-04-12 | Nissan Motor Co Ltd | 超音波式距離測定装置 |
US4523468A (en) * | 1983-10-03 | 1985-06-18 | Trw Inc. | Phased array inspection of cylindrical objects |
JPS60163643A (ja) * | 1984-02-07 | 1985-08-26 | テルモ株式会社 | 超音波測定装置 |
US4866614A (en) * | 1985-12-26 | 1989-09-12 | General Electric Company | Ultrasound characterization of 3-dimensional flaws |
US4741212A (en) * | 1986-07-31 | 1988-05-03 | General Electric Company | Method for determining structural defects in semiconductor wafers by ultrasonic microscopy |
JP2614730B2 (ja) * | 1987-10-13 | 1997-05-28 | 富士通株式会社 | 半導体中の欠陥の測定装置および方法 |
ES2088409T3 (es) * | 1989-01-13 | 1996-08-16 | Mannesmann Ag | Procedimiento para la deteccion de deficiencias en piezas de trabajo oblongas. |
JP3299655B2 (ja) * | 1995-03-17 | 2002-07-08 | 株式会社日立製作所 | 多層構造体の検査のための超音波探傷装置及びその超音波探傷方法 |
US6467352B2 (en) * | 1998-04-16 | 2002-10-22 | Percepton, Inc. | Method and apparatus for on-line monitoring of log sawing |
KR20020053621A (ko) | 2000-12-27 | 2002-07-05 | 이 창 세 | 웨이퍼 표면의 미세 결함 측정 장치 |
US6865948B1 (en) * | 2002-01-29 | 2005-03-15 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company | Method of wafer edge damage inspection |
KR20040103045A (ko) | 2003-05-30 | 2004-12-08 | 삼성전자주식회사 | 결함 검출 장치 및 방법 |
US6941811B2 (en) * | 2003-08-04 | 2005-09-13 | Nan Ya Technology Corporation | Method and apparatus for detecting wafer flaw |
-
2005
- 2005-07-28 KR KR1020050068710A patent/KR100711937B1/ko not_active Expired - Fee Related
-
2006
- 2006-07-05 US US11/428,804 patent/US7526959B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH095227A (ja) * | 1995-06-22 | 1997-01-10 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | ウエーハ収納部材の清浄度測定・評価方法及びその装置 |
KR20010108385A (ko) * | 1999-03-24 | 2001-12-07 | 추후제출 | 자동 처리 장치에서 제품을 검출하기 위한 장치 및 방법 |
KR20020046829A (ko) * | 2000-12-15 | 2002-06-21 | 윤종용 | 웨이퍼 검사 장치 |
JP2004335570A (ja) * | 2003-05-01 | 2004-11-25 | Renesas Technology Corp | 基板処理装置 |
KR20050007482A (ko) * | 2003-07-08 | 2005-01-19 | 동부아남반도체 주식회사 | 웨이퍼 상의 파티클 검출장치 및 검출방법 |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
1020050007482 * |
16335570 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20250018649A (ko) | 2023-07-31 | 2025-02-07 | 인하대학교 산학협력단 | 반도체 기판의 건전성 진단 시스템 및 방법 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20070014261A (ko) | 2007-02-01 |
US20070022815A1 (en) | 2007-02-01 |
US7526959B2 (en) | 2009-05-05 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7526959B2 (en) | Method of inspecting a substrate using ultrasonic waves and apparatus for performing the same | |
US10008424B2 (en) | Measuring device and method for measuring layer thicknesses and defects in a wafer stack | |
TWI470683B (zh) | Semiconductor manufacturing apparatus and semiconductor manufacturing method | |
US6779386B2 (en) | Method and apparatus for detecting topographical features of microelectronic substrates | |
US6264532B1 (en) | Ultrasonic methods and apparatus for the in-situ detection of workpiece loss | |
KR20140098636A (ko) | 반도체 소자의 불량 검출장치 및 검출방법 | |
KR20150036314A (ko) | 광음향 계측 장치 | |
US20110016975A1 (en) | Method and Apparatus For Measuring In-Situ Characteristics Of Material Exfoliation | |
US20080022774A1 (en) | Imaging thin film structures by scanning acoustic microscopy | |
US11346818B2 (en) | Method, device and system for non-destructive detection of defects in a semiconductor die | |
US20120304773A1 (en) | Estimation of presence of void in through silicon via (tsv) based on ultrasound scanning | |
US20230366853A1 (en) | Semiconductor device testing apparatus and methods of testing and fabricating semiconductor device using the same | |
JP2015166751A (ja) | ウェーハスタック内の層厚さ及び欠陥を測定する測定デバイス及び方法 | |
JP2020188117A (ja) | ウェーハの製造方法、及びインゴットの分断装置 | |
US11460447B2 (en) | Inspection apparatus | |
JP4093930B2 (ja) | フレーム搬送プローバ | |
US7129507B2 (en) | Chip mis-position detection method | |
JP2002039745A (ja) | ウェーハ形状検査方法およびその装置 | |
KR20070043280A (ko) | 반도체 기판용 이송 시스템 및 이를 포함하는 반도체기판의 연마 장치 | |
TWI799140B (zh) | 單晶圓潔淨設備與其監控方法 | |
JP2021143922A (ja) | 検査方法 | |
KR100794332B1 (ko) | 대상물 고정감지장치 | |
JPH01301309A (ja) | 半導体ウェハーのダイシング方法 | |
Lu et al. | Nondestructive Measurement of C4 BLM Undercut by Scanning Acoustic Microscope | |
KR20060012150A (ko) | 백 그라인딩 테이프 접착 장치 및 이를 이용한 백그라인딩 테이프 접착 방법 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
PA0109 | Patent application |
Patent event code: PA01091R01D Comment text: Patent Application Patent event date: 20050728 |
|
PA0201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
PE0902 | Notice of grounds for rejection |
Comment text: Notification of reason for refusal Patent event date: 20060921 Patent event code: PE09021S01D |
|
AMND | Amendment | ||
E601 | Decision to refuse application | ||
PE0601 | Decision on rejection of patent |
Patent event date: 20070130 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PE06012S01D Patent event date: 20060921 Comment text: Notification of reason for refusal Patent event code: PE06011S01I |
|
PG1501 | Laying open of application | ||
J201 | Request for trial against refusal decision | ||
PJ0201 | Trial against decision of rejection |
Patent event date: 20070226 Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event code: PJ02012R01D Patent event date: 20070130 Comment text: Decision to Refuse Application Patent event code: PJ02011S01I Appeal kind category: Appeal against decision to decline refusal Decision date: 20070418 Appeal identifier: 2007101002181 Request date: 20070226 |
|
AMND | Amendment | ||
PB0901 | Examination by re-examination before a trial |
Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 20070322 Patent event code: PB09011R02I Comment text: Request for Trial against Decision on Refusal Patent event date: 20070226 Patent event code: PB09011R01I Comment text: Amendment to Specification, etc. Patent event date: 20061115 Patent event code: PB09011R02I |
|
B701 | Decision to grant | ||
PB0701 | Decision of registration after re-examination before a trial |
Patent event date: 20070418 Comment text: Decision to Grant Registration Patent event code: PB07012S01D Patent event date: 20070402 Comment text: Transfer of Trial File for Re-examination before a Trial Patent event code: PB07011S01I |
|
GRNT | Written decision to grant | ||
PR0701 | Registration of establishment |
Comment text: Registration of Establishment Patent event date: 20070420 Patent event code: PR07011E01D |
|
PR1002 | Payment of registration fee |
Payment date: 20070420 End annual number: 3 Start annual number: 1 |
|
PG1601 | Publication of registration | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20100413 Start annual number: 4 End annual number: 4 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20110405 Start annual number: 5 End annual number: 5 |
|
FPAY | Annual fee payment | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20120402 Start annual number: 6 End annual number: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment | ||
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20130329 Start annual number: 7 End annual number: 7 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20140331 Start annual number: 8 End annual number: 8 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20150331 Start annual number: 9 End annual number: 9 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20160331 Start annual number: 10 End annual number: 10 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20170331 Start annual number: 11 End annual number: 11 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20180330 Start annual number: 12 End annual number: 12 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20190329 Year of fee payment: 13 |
|
PR1001 | Payment of annual fee |
Payment date: 20190329 Start annual number: 13 End annual number: 13 |
|
PC1903 | Unpaid annual fee |