JP6086339B1 - アニロックスロールの自動洗浄装置とその洗浄方法 - Google Patents

アニロックスロールの自動洗浄装置とその洗浄方法 Download PDF

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Abstract

印刷作業終了後のアニロックスロールの確実な洗浄が可能な自動洗浄装置を提供する。印刷版3は版胴2に設置されている。版胴2は印刷版3を介して定盤14に設置された基板15に印刷液を転着させる。アニロックスロール1は版胴2と同期して回転し、印刷版3に印刷液を塗布する。塗工部4は印刷時及び洗浄液による印刷液の洗浄時にアニロックスロール1に摺接して液溜まり5を形成し、印刷液の塗布及び印刷終了後の印刷液の洗浄を行い、洗浄終了後、アニロックスロール1から離間する。液体供給部6は印刷時に液溜まり5に印刷液を供給し、印刷後の洗浄時に液溜まり5に洗浄液を供給する。純水供給部8は、アニロックスロール1の洗浄後、回転しているアニロックスロール1の表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす。乾燥部7となるケーシング7aは、アニロックスロール1に近接して配置され、アニロックスロール1の対向面に高圧空気の噴出口7bと、吸引口7kが設けられている。

Description

本発明は、印刷版を用いて被印刷体である基板に形成された微細回路パターン上に配向膜を高位置精度で印刷するフレキソ印刷において、印刷終了後のアニロックスロールの表面を自動的に洗浄する自動洗浄装置とその洗浄方法に関する。
基板への微細回路パターン上への配向膜印刷は、印刷液(例えば、ポリイミド液)をアニロックスロールに均一で且つ決められた厚さで塗布し、これをアニロックスロールに接触しつつ回転する版胴の印刷版に転着し、印刷装置の定盤上に設置された基板の上を版胴が回転しつつ移動し、印刷版に転着された印刷液を基板の微細回路パターンに合わせてその上に転写することで配向膜印刷が実行される。
印刷が終了すると、アニロックスロールから印刷液を洗浄除去する必要があるが、アニロックスロールとこれに接触(又は近接)しているスクレーパの接触部位に形成される液溜まりに洗浄液供給ノズルから洗浄液(例えば、N-メチル-2-ピロリドン液)を供給し、アニロックスロールを回転させて洗浄し、その表面の印刷液は勿論、アニロックスロールの表面に形成された微小穴内の印刷液まで洗い流すようにしている。
洗浄液がN-メチル-2-ピロリドン液の場合、揮発性有機溶媒であるが、沸点が204℃であり、残渣がアニロックスロール上(特に、表面に無数に形成された微小穴)に残る。そのため、現状では、アニロックスロールを回転させつつ作業者がアルコールを含ませたワイパーを用いて洗浄液を手作業で拭き取っている。
アニロックスロールは、上記のように表面に微小穴が所定間隔で無数に形成されており、硬質クロムメッキ又はセラミックが施されているとは言え、非常に傷付きやすいために拭き取り作業には細心の注意が要求されている。また、作業は上記のようにアニロックスロールを回転させつつ行う必要があり、作業者がアニロックスロールに巻き込まれる可能性もあり非常に危険である。
そこで、アニロックスロールの自動洗浄装置として、特許文献1に記載のような装置が提案されている。ただし、この自動洗浄装置は印刷中の自動洗浄用であり、印刷後の自動洗浄用ではない。
この従来装置は、アニロックスロール表面に揮発性の有機溶媒である洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、前記洗浄液が供給された後の前記アニロックスロールに加圧された気体を噴射する送風ユニットと、前記アニロックスロールの表面に供給された洗浄液を受ける洗浄液回収ユニットとで構成されたアニロックスロール洗浄装置を備えている。
アニロックスロールの自動洗浄は、まず、洗浄領域において、印刷液が付着したアニロックスロールを回転させつつその表面に向けて洗浄液噴射ノズルから洗浄液を噴射し、印刷液を洗い落す。洗浄液と共に或いは洗浄液が噴射された後、気体噴射ノズルにてアニロックスロールに加圧気体を噴射する。アニロックスロールの表面及び微小穴(セル)内の洗浄液はこの加圧気体により吹き飛ばされ、洗浄作業が終了する。
洗い落とされた印刷液が吹き付けられ、その後、吹き飛ばされた洗浄液は洗浄液回収ユニットに回収される。これら洗浄液噴射ノズル、気体噴射ノズル及び洗浄液回収ユニットは、アニロックスロールに近接して設けられたケース内に収納され、印刷液や洗浄液が出来る限り周囲に飛び散らないように配慮している。
特許第5482382号公報
しかしながら、ケースを設けていてもケース内で洗浄液や圧縮空気をアニロックスロールに向けて噴出させるとケース内はケース外に比べて高圧になり、アニロックスロールとケースとの間から洗浄液が外部に噴出し、周囲を汚したり、印刷液や洗浄液から出た有機溶媒も周囲に漏れ出し、作業環境を劣化させることが避けられない。更に、アニロックスロールから吹き飛ばされた印刷液混じりの洗浄液がケースの中で舞い、アニロックスロールに再付着することもあるし、如何に高圧空気の噴射によりアニロックスロールの表面から洗浄液を吹き飛ばしたとしても洗浄液の残渣がアニロックスロールの微小穴内に残留して次ロットの印刷時に印刷液に洗浄液の残渣が混じる恐れがある。
本発明は、このような問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、印刷作業終了後のアニロックスロールの確実な洗浄が可能であって、しかも洗浄液が外部に漏れず、周囲や洗浄したアニロックスロールを汚さないアニロックスロールの自動洗浄装置とその自動洗浄方法を提供するにある。
上記の課題を解決するため、請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置は、
印刷版3が設置され、前記印刷版3を介して前記印刷版3に塗布された印刷液を定盤14に設置された基板15に転着させる版胴2と、
版胴2と同期して回転し、印刷版3に印刷液を塗布するアニロックスロール1と、
印刷時にアニロックスロール1への印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロール1に摺接してアニロックスロール1との間に液溜まり5を形成し、アニロックスロール1の洗浄後、アニロックスロール1から離間する塗工部4と、
印刷時に液溜まり5に印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロール1の洗浄時に液溜まり5に洗浄液を供給する液体供給部6と、
アニロックスロール1の洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロール1の表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部8と、
アニロックスロール1に近接して配置され、アニロックスロール1に対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口7bと、前記噴出口7bに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口7kが設けられたケーシング7aを具備する乾燥部7とで構成されていることを特徴とする。
請求項2(図2(a))は、請求項1に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置において、
気液分離装置12と、
吸引口7kが形成されているケーシング7aの減圧空間7mと前記気液分離装置12の入口12aとを繋ぐ減圧配管11と、
噴出口7bが設けられたケーシング7aの加圧空間7cと前記気液分離装置12の出口12bとを接続する加圧配管10と、
加圧配管10に設置され、加圧空間7cに高圧空気を供給するコンプレッサ17とが更に設けられていることを特徴とする。
請求項3は、気液分離装置12を使用しない排気処理の別の例(図2(b))で、
請求項1に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置において、
吸引口7kが形成されているケーシング7aの減圧空間7mと工場排気管とを繋ぐ減圧配管11と、
減圧配管11或いは工場排気管に設置された排気用のブロア19と、
噴出口7bが設けられたケーシング7aの加圧空間7cと工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサ17が設置され、高圧空気を加圧空間7cに供給する加圧配管10が更に設けられていることを特徴とする。
請求項4は、請求項1〜3のいずれかに記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置において、
ケーシング7aの噴出口7bに高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部13が更に設けられていることを特徴とする。
請求項5は、請求項1に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
アニロックスロール1とアニロックスロール1に臨む位置に設けられた塗工部4との間に設けられている液溜まり5の印刷液を、版胴2に設置された印刷版3に塗布し、
前記版胴2を、基板15の上を転動させて印刷版3を基板15に接触させて印刷を行い、
基板15への印刷終了後に液溜まり5に洗浄液を供給しつつアニロックスロール1を回転させてアニロックスロール1上の印刷液を洗浄し、
洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部4をアニロックスロール1から離脱させ、然る後、アニロックスロール1に純水を供給してアニロックスロール1上の洗浄液を洗い落し、
純水による洗浄液の除去後、乾燥部7のケーシング7aをアニロックスロール1に近接させ、ケーシング7aの噴出口7bから高圧空気を噴出させてアニロックスロール1上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口7bに隣接して設けられた吸引口7kにて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする。
請求項6は、請求項2に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置12にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
分離した空気をコンプレッサ17にて高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給することを特徴とする。
請求項7は、請求項3に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロア19にて工場排気管に送り込み、
コンプレッサ17にて外気を高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給することを特徴とする。
請求項8は、請求項4に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシング7aの噴出口7bに設けた高周波振動発生部13にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする。
本発明において、 アニロックスロール1の印刷液を洗浄液(極性溶媒)で洗浄し、続いてこの洗浄液を純水で洗い落とし、最後に高圧空気で純水を吹き飛ばすので、アニロックスロール1の表面に形成されている無数の微小穴内まで確実に洗浄でき、次ロットでの洗浄液の混入は確実に阻止できる。加えて、高圧空気に高周波振動を付与しておけば、噴射空気圧に粗密が付与され、無数の微小穴内の印刷液や洗浄液の残留物も確実に排出できる。
そして、ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置12にて空気と洗浄液又は純水を分離し、分離した空気をコンプレッサ17にて高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給するようにしておけば、洗浄に使用される空気は閉回路内で循環することとなり、印刷液や洗浄液に有機溶媒を使用しても外部に漏れ出さず、作業環境を損なうことがない。別法としてブロア19にてケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、そのまま工場排気管に送給することもできる。
本発明の印刷装置の概略構成を示す斜視図である。 (a)(b)は気液分離装置を使用する場合と、そうでない場合において、洗浄液による印刷液の洗浄時の印刷装置を正面から見た概念図である。 純水による洗浄、及び高圧空気によりアニロックスロールの乾燥時の正面から見た概念図である。 図3の高圧空気噴出状態を示す部分拡大断面図である。
以下、本発明の一実施形態について図面を用いて説明する。 本実施形態の印刷装置の定盤14は直方体或いは厚板状の部材で、例えばガラス製の基板15がその上面の所定位置に設置され、印刷版3を装着した版胴2がその上を転動して往復し、その間に印刷版3が基板15に接触して基板15上の微細回路パターン上に印刷液を転写して配向膜を形成する。定盤14は、上記印刷時には基板15の表面が印刷版3に対してキッスタッチ位置まで上昇し、非印刷時には印刷版3から離れる位置に下降する。
印刷液は、本実施例では配向膜生成用で、例えば、ポリイミド液(PI液)が用いられる。
洗浄液は、後工程で純水洗浄するので、水との相溶性を有する極性溶媒、例えば液晶の場合、配向膜形成液の洗浄液としてNMP(N−メチル−2−ピロリドン(N−methylpyrrolidone))が用いられる。
上記NMP液について言うと、ラクタム構造を含む5員環の構造を持つ有機化合物であり、極性溶媒のひとつで、無色又は僅かに黄色がかった液体であり、水や酢酸エチル、クロロホルム、ベンゼン、低級アルコールや低級ケトンといった様々な溶媒と混ざり合うことができ、高い溶解性を持つ。そのため特に高分子化学の分野を中心に様々な物質に対する溶媒として用いられる。
版胴2は金属で作られた円筒状の大型部材で、表面にはゴム又は樹脂で作られた印刷版3が版胴2の表面を覆い、巻き付けるように装着されている。装着された印刷版3の一端は版胴2に固定され、他端は公知の装着装置により、印刷版3の伸びを吸収できる構造となっている。
印刷版3が装着された版胴2は、アニロックスロール1が設けられている本装置のホームポジションとアニロックスロール1の反対側の定盤14の端部との間を、図示しない版胴駆動用モータによって水平方向に回転しつつ往復移動する。
印刷版3は樹脂板又はゴム板で形成され、印刷面に印刷パターンが形成されている。(本実施例では、基板15上に碁盤の目のように整然と配置された微細回路パターンに合わせて形成されている。)
アニロックスロール1は、本装置のホームポジションに回転自在に設置されており、公知一般のものを用いることができる。アニロックスロール1の表面には無数の微小穴(セル)1aが縦横に整然と形成されている。微小穴1aの開口形状は正六角形や正方形その他で、印刷の種類によって適宜なものが選択される。微小穴1aを構成するメッシュ線数、及びメッシュのセル容積(溝の容積)を選択することにより、印刷版3への印刷液の供給量を制御することができ、これにより基板15への印刷液の転写量を制御することができる。通常、アニロックスロール1の表面は、耐摩耗性向上のためハード(工業用)クロムメッキ処理又はセラミック処理が施されている。ハード(工業用)クロムメッキ処理やセラミック処理は洗浄時後の印刷液付着や沈着を低減することができる。
塗工部4は、アニロックスロール1に摺接又は離間可能に配置された、例えば、板状のスクレーパやドクターロールのようなもので、アニロックスロール1との摺接部位に液溜まり5が形成される。本実施例ではスクレーパを塗工部4とする。
液溜まり5には、印刷時には印刷液がその上方に設置された液体供給部6(例えば、ディスペンサのようなもの)から滴下供給され、印刷液の洗浄時には切り替えて洗浄液が滴下供給される。ディスペンサは前記のように切り替えで使用してもよいが、別個のものを用意するようにしてもよい。
アニロックスロール1に対する塗工部4(スクレーパやドクターロール)の設置状態でアニロックスロール1に塗布される印刷液の量が制御される。
アニロックスロール1の下方にはアニロックスロール1、塗工部4及び液溜まり5の全体をカバーする液受け皿18が設置されている。
アニロックスロール1の乾燥部7となるケーシング7aはアニロックスロール1の直上に設置され、アニロックスロール1の軸線に対して平行に往復移動するように配置されている。
ケーシング7aの内部構造は、図1に示すように中空直方体状で、図3に示すように隔壁7dで内部を2分割した場合は、一方を加圧空間7c、他方を減圧空間7mとする。この場合、噴出口7b側を吸引口7kより下流側にし、噴出口7b側で飛散した飛沫をアニロックスロール1の回転と共に吸引口7kに移動させ、上流側の吸引口7kでこれらを吸引する。
図4の場合は、内部は2つの隔壁7dで三つの空間に分割され中央の空間が、圧縮空気が供給される加圧空間7cであり、両側の空間が減圧空間7mである。両側の減圧空間7mは独立しているように記載されているが、連通するようにしてもよい。
そしてケーシング7aのアニロックスロール1に対向する対向面(下面)には圧縮空気の噴出口7bと吸引口7kが形成され、噴出口7bは加圧空間7cに繋がっている。
図3の場合では、加圧空間7cの下面に設けられた圧縮空気の噴出口7bはアニロックスロール1に対するケーシング7aの下流側の長辺に沿って溝状に形成されている。そして噴出口7bを形成する隔壁7dの途中に噴出口7bの開口を狭くする突条7eが突設されている。前記突条7eは一対で、突条7eの間がスリット状の開口で高周波振動発生部13となっている。
図4の場合では、加圧空間7cの下面に設けられた圧縮空気の噴出口7bはアニロックスロール1に対するケーシング7aの対向面の中央に、ケーシング7aの長手方向にて溝状に形成されている。隔壁7dの途中には図3と同様の突条7eが突設され、突条7eの間がスリット状の開口で高周波振動発生部13となっている。
なお、突条7eは図のような実施例に限られず、2以上設けることができる。
吸引口7kはスリット状に形成され、噴出口7bの近傍(本実施例ではその両側)にて噴出口7bに沿うように設けられている。そして吸引口7kは噴出口7bから噴出された圧縮空気の噴出方向に傾斜して開口している。換言すれば、圧縮空気の噴出方向の軸線と吸引口7kの吸引方向の軸線との角度(内角)が鋭角に形成されている。
そして、前記吸引口7kの吸引量を、前記噴出口7bからの噴出空気量より多くして、ケーシング7aの対向面とアニロックスロール1との間に形成された吸引用空間9内を外部に対して低圧に維持し、外部から空気が吸引用空間9内に流れ込むようにしている。
ケーシング7aのアニロックスロール1に対する対向面には、図3のように単に、噴出口7bとその両側に配置された吸引口7kが形成されている。
ケーシング7aの対向面がアニロックスロール1に接触してアニロックスロール1の表面に傷を付けることがあっては好ましくないので、僅かに離間させ、両者の間に隙間16を設けてセットする。
気液分離装置12は図2(a)に示すように設置される場合と、図2(b)に示すように設置されず、そのまま工場排気管に送られる場合とがある。以下、図2(a)に示すように気液分離装置12が設置される場合について説明する。
気液分離装置12は、中空の缶体で入口12aに減圧配管11が接続され、出口12bに加圧配管10が接続され、減圧配管11はケーシング7aの減圧空間7mに接続され、加圧配管10は加圧空間7cに接続されている。加圧配管10の途中にはコンプレッサ17が設置されている。なお、気液分離装置12内にはフィルター12fが設置され、分離された空気を濾過し、コンプレッサ17側に供給している。勿論、フィルター12fは気液分離装置12外に設置することも可能である。
これに対して気液分離装置を設置せず、そのまま工場排気管に送られる場合について説明する。図2(b)に示すように、減圧配管11はケーシング7aの減圧空間7mに接続され、その出口はそのまま工場排気管に接続されている。ブロア19は減圧配管11又は工場排気管に設置されている。
一方、加圧配管10はケーシング7aの加圧空間7cに接続され、外気を吸引するようになっている。加圧配管10にはその途中にコンプレッサ17が設置されている。この場合、コンプレッサ17を設けず、加圧配管10を工場高圧配管に接続してもよい。
なお、この場合も必要に応じて減圧配管11にフィルター(図示せず)が設置される。
次に、本印刷装置の作用について説明する。本印刷装置の工程は以下の手順で行われる。
(1)基板15への印刷
(2)印刷液が付着しているアニロックスロール1の洗浄液による洗浄
(3)塗工部(スクレーパ)4がアニロックスロール1から離脱
(4)洗浄液が付着しているアニロックスロール1の純水による洗浄
(5)アニロックスロール1上の純水の除去と乾燥
(1)基板15への印刷
印刷時には液体供給部6から液溜まり5に印刷液が滴下貯留されると共にアニロックスロール1が回転作動し、その表面に印刷液が均一に塗布される。そして、印刷版3が装着された版胴2がアニロックスロール1と同期回転し、アニロックスロール1の表面の印刷液が印刷版3の所定領域に塗布(一次転写)される。
同時に基板15を所定位置に設置した定盤14が同期して所定高さ迄上昇して待機しており、その上を版胴2が転動する。これにより基板15に印刷版3を接触させて回転移動させ、基板15の微細回路パターンに応じた印刷液パターンが印刷(二次転写)されて一回の印刷が完了する。この操作を繰り返し所定枚数の印刷が終了するとアニロックスロール1の表面に残留している印刷液を洗い落す洗浄工程に移る。
(2)アニロックスロール1の洗浄液による洗浄
アニロックスロール1の洗浄はまず、液体供給部6からの滴下供給液滴が印刷液から洗浄液に切り替わり、洗浄液が液溜まり5に供給される。液溜まり5に供給された洗浄液はアニロックスロール1の回転によってアニロックスロール1の表面に塗布される。初期の時点では洗浄液と印刷液とが混ざり合った状態となるが、洗浄液の供給とアニロックスロール1の回転により印刷液が混入した洗浄液が流出し、流出分だけ新しい洗浄液が供給されて印刷液が次第に薄まり、最終的には印刷液が洗い落とされて洗浄液だけとなる。これら印刷液混じりの洗浄液や洗浄完了時の洗浄液はアニロックスロール1の下方に設置されたトレー19に受け取られる。
なお、上記液体供給部6は、印刷液と洗浄液とを切り替えて供給する例を示したが、勿論、これに限られず別々の処から個別に供給することも可能である。
(3)塗工部(スクレーパ)4がアニロックスロール1から離脱
印刷液の除去が終了すると、洗浄液の供給は不要となり、アニロックスロール1との接触部位にて液溜まり5を構成する塗工部(スクレーパ)4がアニロックスロール1から離脱する。
(4)洗浄液が付着しているアニロックスロール1の純水による洗浄
この時点では、アニロックスロール1の表面に付着している液体は洗浄液だけである。洗浄液は極性溶媒であるので、純水との相溶性が高く、アニロックスロール1を回転させながらその表面に均等に純水を滴下すれば次第に洗い流されて洗浄液の除去がなされ、純水だけがアニロックスロール1の表面に残る。
これら洗浄液混じりの純水や洗浄完了時の純水は前述同様アニロックスロール1の下方に設置されたトレー19に受け取られる。
(5)アニロックスロール1上の純水の除去と乾燥
この時点ではアニロックスロール1の表面には上記のように純水だけが付着している状態となる。この状態となった時点で、アニロックスロール1の直上に設けられた乾燥部7によってアニロックスロール1の純水除去と乾燥が行われる。
乾燥部7を構成するケーシング7aでは上流側又はその中央の噴出口7bから高圧の圧縮空気が噴き出し、ケーシング7aの対向面に来たアニロックスロール1の表面に高圧の圧縮空気を噴き付けるようになっている。
上記高圧の圧縮空気は、噴出口7bの狭窄した高周波発生部13において、突条7eを振動させ、これによって空気抵抗の強弱が高周波で発生する。噴射口7bから噴射された噴出空気にはこの高周波の振動が重畳しており、アニロックスロール1の表面だけでなく無数の微小穴1aの底までこの高周波噴出空気が届き、アニロックスロール1の表面及び微小穴1aに入り込んでいる純水を吹き飛ばす。この高圧の高周波圧縮空気の作用の模式的状況を図4の拡大図に示す。
吹き飛ばされた純水は、僅かな隙間16において微細な液滴となって周囲に飛び散るが、噴出口7bの近傍にはこれを両側から挟むように(或いは下流側に)、そして噴出口7bの方に向って開口した吸引口7kが設けられているので、前記微細液滴はそのまま吸引口7kに吸い込まれることになる。
この場合、噴出口7bからの空気量よりも吸引口7kの吸引空気量が大きく設定されているので、吸引口7kの周囲は外部より負圧になっている。それ故、僅かな隙間16から微細液滴が飛び出すようなことはない。
減圧空間に吸い込まれ微細液滴は、減圧配管11を通って気液分離装置12に送り込まれ、微細液滴は落下して気液分離装置12の底に溜まり、空気は分離され、フィルター12fで濾過された後、コンプレッサ17の吸引により加圧配管10に圧入される。
そして、再度、乾燥部7のケーシング7aの加圧空間7cに送り込まれ、噴出口7bから噴き出される。
このような操作を繰り返し、アニロックスロール1の表面は勿論、微小穴1a内の純水を吹き飛ばし、アニロックスロール1の乾燥が終了する。
なお、上記の場合は気液分離装置12を利用して微細液滴混じりの空気を分離して、分離した空気を循環再利用しているが、図2(b)に示すように、気液分離装置12を用いることなくブロア18を介して工場排気管にそのまま放出してもよい。
1:アニロックスロール、1a:微小穴、2:版胴、3:印刷版、4:塗工部、5:液溜まり、6:液体供給部、7:乾燥部、7a:ケーシング、7b:噴出口、7c:加圧空間、7d:隔壁、7e:突条、7k:吸引口、7m:減圧空間、8:純水供給部、9:吸引用空間、10:加圧配管、11:減圧配管、12:気液分離装置、12a:入口、12b:出口、12f:フィルター、13:高周波振動発生部、14:定盤、15:基板、16:隙間、17:コンプレッサ、18:液受け皿、19:ブロア。

Claims (8)

  1. 印刷版が設置され、前記印刷版を介して前記印刷版に塗布された印刷液を定盤に設置された基板に転着させる版胴と、
    版胴と同期して回転し、印刷版に印刷液を塗布するアニロックスロールと、
    印刷時にアニロックスロールへの印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロールに摺接してアニロックスロールとの間に液溜まりを形成し、アニロックスロールの洗浄後、アニロックスロールから離間する塗工部と、
    印刷時に液溜まりに印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロールの洗浄時に液溜まりに洗浄液を供給する液体供給部と、
    アニロックスロールの洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロールの表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部と、
    アニロックスロールに近接して配置され、アニロックスロールに対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口と、前記噴出口7bに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口が設けられたケーシングを具備する乾燥部とで構成されていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
  2. 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
    気液分離装置と、
    吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と前記気液分離装置の入口とを繋ぐ減圧配管と、
    噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と前記気液分離装置の排気口とを接続する加圧配管と、
    加圧配管に設置され、加圧空間に高圧空気を供給するコンプレッサとが更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
  3. 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
    吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と工場排気管とを繋ぐ減圧配管と、
    減圧配管或いは工場排気管に設置された排気用のブロアと、
    噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサが設置され、高圧空気を加圧空間に供給する加圧配管が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
  4. 請求項1〜3のいずれかに記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
    ケーシングの噴出口に高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。
  5. 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
    アニロックスロールとアニロックスロールに臨む位置に設けられた塗工部との間に設けられている液溜まりの印刷液を、版胴に設置された印刷版に塗布し、
    前記版胴を、基板の上を転動させて印刷版を基板に接触させて印刷を行い、
    基板への印刷終了後に液溜まりに洗浄液を供給しつつアニロックスロールを回転させてアニロックスロール上の印刷液を洗浄し、
    洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部をアニロックスロールから離脱させ、然る後、アニロックスロールに純水を供給してアニロックスロール上の洗浄液を洗い落し、
    純水による洗浄液の除去後、乾燥部のケーシングをアニロックスロールに近接させ、ケーシングの噴出口から高圧空気を噴出させてアニロックスロール上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口に隣接して設けられた吸引口にて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする自動洗浄方法。
  6. 請求項2に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
    ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
    分離した空気をコンプレッサにて高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。
  7. 請求項3に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
    ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロアにて工場排気管に送り込み、
    コンプレッサにて外気を高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。
  8. 請求項4に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
    ケーシングの噴出口に設けた高周波振動発生部にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする自動洗浄方法。
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