JP6086339B1 - アニロックスロールの自動洗浄装置とその洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
Description
洗浄液がN-メチル-2-ピロリドン液の場合、揮発性有機溶媒であるが、沸点が204℃であり、残渣がアニロックスロール上(特に、表面に無数に形成された微小穴)に残る。そのため、現状では、アニロックスロールを回転させつつ作業者がアルコールを含ませたワイパーを用いて洗浄液を手作業で拭き取っている。
この従来装置は、アニロックスロール表面に揮発性の有機溶媒である洗浄液を噴射する洗浄液噴射ノズルと、前記洗浄液が供給された後の前記アニロックスロールに加圧された気体を噴射する送風ユニットと、前記アニロックスロールの表面に供給された洗浄液を受ける洗浄液回収ユニットとで構成されたアニロックスロール洗浄装置を備えている。
洗い落とされた印刷液が吹き付けられ、その後、吹き飛ばされた洗浄液は洗浄液回収ユニットに回収される。これら洗浄液噴射ノズル、気体噴射ノズル及び洗浄液回収ユニットは、アニロックスロールに近接して設けられたケース内に収納され、印刷液や洗浄液が出来る限り周囲に飛び散らないように配慮している。
印刷版3が設置され、前記印刷版3を介して前記印刷版3に塗布された印刷液を定盤14に設置された基板15に転着させる版胴2と、
版胴2と同期して回転し、印刷版3に印刷液を塗布するアニロックスロール1と、
印刷時にアニロックスロール1への印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロール1に摺接してアニロックスロール1との間に液溜まり5を形成し、アニロックスロール1の洗浄後、アニロックスロール1から離間する塗工部4と、
印刷時に液溜まり5に印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロール1の洗浄時に液溜まり5に洗浄液を供給する液体供給部6と、
アニロックスロール1の洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロール1の表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部8と、
アニロックスロール1に近接して配置され、アニロックスロール1に対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口7bと、前記噴出口7bに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口7kが設けられたケーシング7aを具備する乾燥部7とで構成されていることを特徴とする。
気液分離装置12と、
吸引口7kが形成されているケーシング7aの減圧空間7mと前記気液分離装置12の入口12aとを繋ぐ減圧配管11と、
噴出口7bが設けられたケーシング7aの加圧空間7cと前記気液分離装置12の出口12bとを接続する加圧配管10と、
加圧配管10に設置され、加圧空間7cに高圧空気を供給するコンプレッサ17とが更に設けられていることを特徴とする。
請求項1に記載のアニロックスロール1の自動洗浄装置において、
吸引口7kが形成されているケーシング7aの減圧空間7mと工場排気管とを繋ぐ減圧配管11と、
減圧配管11或いは工場排気管に設置された排気用のブロア19と、
噴出口7bが設けられたケーシング7aの加圧空間7cと工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサ17が設置され、高圧空気を加圧空間7cに供給する加圧配管10が更に設けられていることを特徴とする。
ケーシング7aの噴出口7bに高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部13が更に設けられていることを特徴とする。
アニロックスロール1とアニロックスロール1に臨む位置に設けられた塗工部4との間に設けられている液溜まり5の印刷液を、版胴2に設置された印刷版3に塗布し、
前記版胴2を、基板15の上を転動させて印刷版3を基板15に接触させて印刷を行い、
基板15への印刷終了後に液溜まり5に洗浄液を供給しつつアニロックスロール1を回転させてアニロックスロール1上の印刷液を洗浄し、
洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部4をアニロックスロール1から離脱させ、然る後、アニロックスロール1に純水を供給してアニロックスロール1上の洗浄液を洗い落し、
純水による洗浄液の除去後、乾燥部7のケーシング7aをアニロックスロール1に近接させ、ケーシング7aの噴出口7bから高圧空気を噴出させてアニロックスロール1上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口7bに隣接して設けられた吸引口7kにて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする。
ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置12にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
分離した空気をコンプレッサ17にて高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給することを特徴とする。
ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロア19にて工場排気管に送り込み、
コンプレッサ17にて外気を高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給することを特徴とする。
ケーシング7aの噴出口7bに設けた高周波振動発生部13にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする。
そして、ケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置12にて空気と洗浄液又は純水を分離し、分離した空気をコンプレッサ17にて高圧空気としてケーシング7aの加圧空間7cに供給するようにしておけば、洗浄に使用される空気は閉回路内で循環することとなり、印刷液や洗浄液に有機溶媒を使用しても外部に漏れ出さず、作業環境を損なうことがない。別法としてブロア19にてケーシング7aの減圧空間7mから洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、そのまま工場排気管に送給することもできる。
上記NMP液について言うと、ラクタム構造を含む5員環の構造を持つ有機化合物であり、極性溶媒のひとつで、無色又は僅かに黄色がかった液体であり、水や酢酸エチル、クロロホルム、ベンゼン、低級アルコールや低級ケトンといった様々な溶媒と混ざり合うことができ、高い溶解性を持つ。そのため特に高分子化学の分野を中心に様々な物質に対する溶媒として用いられる。
印刷版3が装着された版胴2は、アニロックスロール1が設けられている本装置のホームポジションとアニロックスロール1の反対側の定盤14の端部との間を、図示しない版胴駆動用モータによって水平方向に回転しつつ往復移動する。
液溜まり5には、印刷時には印刷液がその上方に設置された液体供給部6(例えば、ディスペンサのようなもの)から滴下供給され、印刷液の洗浄時には切り替えて洗浄液が滴下供給される。ディスペンサは前記のように切り替えで使用してもよいが、別個のものを用意するようにしてもよい。
アニロックスロール1に対する塗工部4(スクレーパやドクターロール)の設置状態でアニロックスロール1に塗布される印刷液の量が制御される。
アニロックスロール1の下方にはアニロックスロール1、塗工部4及び液溜まり5の全体をカバーする液受け皿18が設置されている。
ケーシング7aの内部構造は、図1に示すように中空直方体状で、図3に示すように隔壁7dで内部を2分割した場合は、一方を加圧空間7c、他方を減圧空間7mとする。この場合、噴出口7b側を吸引口7kより下流側にし、噴出口7b側で飛散した飛沫をアニロックスロール1の回転と共に吸引口7kに移動させ、上流側の吸引口7kでこれらを吸引する。
図4の場合は、内部は2つの隔壁7dで三つの空間に分割され中央の空間が、圧縮空気が供給される加圧空間7cであり、両側の空間が減圧空間7mである。両側の減圧空間7mは独立しているように記載されているが、連通するようにしてもよい。
なお、突条7eは図のような実施例に限られず、2以上設けることができる。
そして、前記吸引口7kの吸引量を、前記噴出口7bからの噴出空気量より多くして、ケーシング7aの対向面とアニロックスロール1との間に形成された吸引用空間9内を外部に対して低圧に維持し、外部から空気が吸引用空間9内に流れ込むようにしている。
ケーシング7aの対向面がアニロックスロール1に接触してアニロックスロール1の表面に傷を付けることがあっては好ましくないので、僅かに離間させ、両者の間に隙間16を設けてセットする。
気液分離装置12は、中空の缶体で入口12aに減圧配管11が接続され、出口12bに加圧配管10が接続され、減圧配管11はケーシング7aの減圧空間7mに接続され、加圧配管10は加圧空間7cに接続されている。加圧配管10の途中にはコンプレッサ17が設置されている。なお、気液分離装置12内にはフィルター12fが設置され、分離された空気を濾過し、コンプレッサ17側に供給している。勿論、フィルター12fは気液分離装置12外に設置することも可能である。
一方、加圧配管10はケーシング7aの加圧空間7cに接続され、外気を吸引するようになっている。加圧配管10にはその途中にコンプレッサ17が設置されている。この場合、コンプレッサ17を設けず、加圧配管10を工場高圧配管に接続してもよい。
なお、この場合も必要に応じて減圧配管11にフィルター(図示せず)が設置される。
(1)基板15への印刷
(2)印刷液が付着しているアニロックスロール1の洗浄液による洗浄
(3)塗工部(スクレーパ)4がアニロックスロール1から離脱
(4)洗浄液が付着しているアニロックスロール1の純水による洗浄
(5)アニロックスロール1上の純水の除去と乾燥
印刷時には液体供給部6から液溜まり5に印刷液が滴下貯留されると共にアニロックスロール1が回転作動し、その表面に印刷液が均一に塗布される。そして、印刷版3が装着された版胴2がアニロックスロール1と同期回転し、アニロックスロール1の表面の印刷液が印刷版3の所定領域に塗布(一次転写)される。
同時に基板15を所定位置に設置した定盤14が同期して所定高さ迄上昇して待機しており、その上を版胴2が転動する。これにより基板15に印刷版3を接触させて回転移動させ、基板15の微細回路パターンに応じた印刷液パターンが印刷(二次転写)されて一回の印刷が完了する。この操作を繰り返し所定枚数の印刷が終了するとアニロックスロール1の表面に残留している印刷液を洗い落す洗浄工程に移る。
アニロックスロール1の洗浄はまず、液体供給部6からの滴下供給液滴が印刷液から洗浄液に切り替わり、洗浄液が液溜まり5に供給される。液溜まり5に供給された洗浄液はアニロックスロール1の回転によってアニロックスロール1の表面に塗布される。初期の時点では洗浄液と印刷液とが混ざり合った状態となるが、洗浄液の供給とアニロックスロール1の回転により印刷液が混入した洗浄液が流出し、流出分だけ新しい洗浄液が供給されて印刷液が次第に薄まり、最終的には印刷液が洗い落とされて洗浄液だけとなる。これら印刷液混じりの洗浄液や洗浄完了時の洗浄液はアニロックスロール1の下方に設置されたトレー19に受け取られる。
なお、上記液体供給部6は、印刷液と洗浄液とを切り替えて供給する例を示したが、勿論、これに限られず別々の処から個別に供給することも可能である。
印刷液の除去が終了すると、洗浄液の供給は不要となり、アニロックスロール1との接触部位にて液溜まり5を構成する塗工部(スクレーパ)4がアニロックスロール1から離脱する。
この時点では、アニロックスロール1の表面に付着している液体は洗浄液だけである。洗浄液は極性溶媒であるので、純水との相溶性が高く、アニロックスロール1を回転させながらその表面に均等に純水を滴下すれば次第に洗い流されて洗浄液の除去がなされ、純水だけがアニロックスロール1の表面に残る。
これら洗浄液混じりの純水や洗浄完了時の純水は前述同様アニロックスロール1の下方に設置されたトレー19に受け取られる。
この時点ではアニロックスロール1の表面には上記のように純水だけが付着している状態となる。この状態となった時点で、アニロックスロール1の直上に設けられた乾燥部7によってアニロックスロール1の純水除去と乾燥が行われる。
乾燥部7を構成するケーシング7aでは上流側又はその中央の噴出口7bから高圧の圧縮空気が噴き出し、ケーシング7aの対向面に来たアニロックスロール1の表面に高圧の圧縮空気を噴き付けるようになっている。
この場合、噴出口7bからの空気量よりも吸引口7kの吸引空気量が大きく設定されているので、吸引口7kの周囲は外部より負圧になっている。それ故、僅かな隙間16から微細液滴が飛び出すようなことはない。
そして、再度、乾燥部7のケーシング7aの加圧空間7cに送り込まれ、噴出口7bから噴き出される。
このような操作を繰り返し、アニロックスロール1の表面は勿論、微小穴1a内の純水を吹き飛ばし、アニロックスロール1の乾燥が終了する。
Claims (8)
- 印刷版が設置され、前記印刷版を介して前記印刷版に塗布された印刷液を定盤に設置された基板に転着させる版胴と、
版胴と同期して回転し、印刷版に印刷液を塗布するアニロックスロールと、
印刷時にアニロックスロールへの印刷液の塗布、及び印刷終了後に洗浄液による塗布された印刷液の洗浄時にアニロックスロールに摺接してアニロックスロールとの間に液溜まりを形成し、アニロックスロールの洗浄後、アニロックスロールから離間する塗工部と、
印刷時に液溜まりに印刷液を供給し、印刷後のアニロックスロールの洗浄時に液溜まりに洗浄液を供給する液体供給部と、
アニロックスロールの洗浄液による洗浄後、回転しているアニロックスロールの表面に純水を供給し、洗浄液を洗い落とす純水供給部と、
アニロックスロールに近接して配置され、アニロックスロールに対向する対向面に設けられた高圧空気の噴出口と、前記噴出口7bに隣接して設けられ、前記高圧空気と該高圧空気によって吹き飛ばされた純水とを吸引する吸引口が設けられたケーシングを具備する乾燥部とで構成されていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。 - 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
気液分離装置と、
吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と前記気液分離装置の入口とを繋ぐ減圧配管と、
噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と前記気液分離装置の排気口とを接続する加圧配管と、
加圧配管に設置され、加圧空間に高圧空気を供給するコンプレッサとが更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。 - 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
吸引口が形成されているケーシングの減圧空間と工場排気管とを繋ぐ減圧配管と、
減圧配管或いは工場排気管に設置された排気用のブロアと、
噴出口が設けられたケーシングの加圧空間と工場高圧配管とを接続する、又はコンプレッサが設置され、高圧空気を加圧空間に供給する加圧配管が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。 - 請求項1〜3のいずれかに記載のアニロックスロールの自動洗浄装置において、
ケーシングの噴出口に高圧噴出空気に高周波振動を与える高周波振動発生部が更に設けられていることを特徴とするアニロックスロールの自動洗浄装置。 - 請求項1に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
アニロックスロールとアニロックスロールに臨む位置に設けられた塗工部との間に設けられている液溜まりの印刷液を、版胴に設置された印刷版に塗布し、
前記版胴を、基板の上を転動させて印刷版を基板に接触させて印刷を行い、
基板への印刷終了後に液溜まりに洗浄液を供給しつつアニロックスロールを回転させてアニロックスロール上の印刷液を洗浄し、
洗浄液による印刷液の洗浄終了後、塗工部をアニロックスロールから離脱させ、然る後、アニロックスロールに純水を供給してアニロックスロール上の洗浄液を洗い落し、
純水による洗浄液の除去後、乾燥部のケーシングをアニロックスロールに近接させ、ケーシングの噴出口から高圧空気を噴出させてアニロックスロール上の付着純水を吹き飛ばすと共に、噴出口に隣接して設けられた吸引口にて前記高圧空気及び吹き飛ばされた純水を吸引することを特徴とする自動洗浄方法。 - 請求項2に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、気液分離装置にて空気と洗浄液又は純水を分離し、
分離した空気をコンプレッサにて高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。 - 請求項3に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの減圧空間から洗浄液又は純水を含む空気を吸引し、前記吸引空気をブロアにて工場排気管に送り込み、
コンプレッサにて外気を高圧空気としてケーシングの加圧空間に供給することを特徴とする自動洗浄方法。 - 請求項4に記載のアニロックスロールの自動洗浄装置を用いた自動洗浄方法で、
ケーシングの噴出口に設けた高周波振動発生部にて高圧噴出空気に高周波振動を与えることを特徴とする自動洗浄方法。
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