JP6074572B1 - クリーニングブレード - Google Patents
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Abstract
Description
図1に示すように、クリーニングブレード1は、ブレード本体(これ自体をクリーニングブレードともいう)10と支持部材20とを備えており、ブレード本体10と支持部材20とは図示されない接着剤を介して接合されている。ブレード本体10は、ゴム基材の成形体である弾性体11で構成される。弾性体11は、その表層部に表面処理層12が形成されている。表面処理層12は、弾性体11の表層部に表面処理液を含浸させ硬化することにより形成したものである。表面処理層12は、弾性体11のクリーニング対象と当接する部分に少なくとも形成すればよいが、本実施形態では、弾性体11の表面全体の表層部に表面処理層12を形成してある。
(ゴム弾性体の作製)
ポリオールとしてエステル系ポリオール(分子量2000)100質量部と、イソシアネート化合物として4,4′−ジフェニルメタンジイソシアネート(MDI)58質量部とを115℃×20分間反応させた後、架橋剤として1,4−ブタンジオール11.6質量部およびトリメチロールプロパン2.9質量部を混合し、140℃に保った金型で40分間加熱硬化させた。遠心成形後、幅15.0mm、厚さ2.0mm、長さ350mmに切断加工しゴム弾性体とした。得られたゴム弾性体は、弾性率が28.9MPaであった。
MDI(日本ポリウレタン工業(株)製、分子量250.25)16.0質量部、TMP(日本ポリウレタン工業(株)製、分子量134.17)0.6質量部、1,3−プロパンジオール(デュポン(株)製、分子量76.09)3.4質量部、MEK80質量部の濃度20%の表面処理液を調製した。
表面処理液を23℃に保ったまま、ゴム弾性体を表面処理液に10秒間浸漬後、50℃で保持されたオーブンで1時間加熱した。その後、表面処理されたゴム弾性体を支持部材に接着してクリーニングブレードとした。これにより、弾性率49.8MPaで厚さ30μmの表面処理層を有し、表面処理層の弾性率とゴム弾性体の弾性率との差が20.9MPaのクリーニングブレードを得た。
MDI60質量部とした以外は実施例1と同様の手順でゴム弾性体を得た。得られたゴム弾性体は、弾性率が32.1MPaであった。そして、MDI12.0質量部、TMP0.6質量部、1,3−PD2.4質量部、MEK85.0質量部の濃度15.0%の表面処理液を用いた以外は実施例1と同様の手順でゴム弾性体の表面処理を行った。これにより、弾性率42.8MPaで厚さ30μmの表面処理層を有し、表面処理層の弾性率とゴム弾性体の弾性率との差が10.7MPaのクリーニングブレードを得た。
実施例2と同様の手順でゴム弾性体を得た。そして、MDI9.6質量部、TMP2.9質量部、MEK87.5質量部の濃度12.5%の表面処理液を用いた以外は実施例1と同様の手順でゴム弾性体の表面処理を行った。これにより、弾性率38.3MPaで厚さ30μmの表面処理層を有し、表面処理層の弾性率とゴム弾性体の弾性率との差が6.2MPaのクリーニングブレードを得た。
MDI55質量部とした以外は実施例1と同様の手順でゴム弾性体を得た。得られたゴム弾性体は、弾性率が20.4MPaであった。そして、MDI7.7質量部、TMP2.3質量部、MEK90質量部の濃度10%の処理液を用いた以外は実施例1と同様の手順でゴム弾性体の表面処理を行った。これにより、弾性率21.7MPaで厚さ30μmの表面処理層を有し、表面処理層の弾性率とゴム弾性体の弾性率との差が1.3MPaのクリーニングブレードを得た。
実施例2と同様の手順でゴム弾性体を得た。そして、表面処理を3回実施した以外は実施例2と同様の手順でゴム弾性体の表面処理を行った。これにより、弾性率62.0MPaで厚さ30μmの表面処理層を有し、表面処理層の弾性率とゴム弾性体の弾性率との差が29.9MPaのクリーニングブレードを得た。
実施例2と同様の手順でゴム弾性体を得た。また、表面処理は施さずにクリーニングブレードを得た。
<表面処理層及びゴム弾性体の弾性率、並びにこれらの弾性率の差の評価>
実施例1〜4及び比較例1〜2のクリーニングブレードを用いて、耐カケ性、フィルミング抑制性及びクリーニング性の評価を行った。なお、これらの評価は、A3サイズ カラーMFP 55枚/分 機を用いて行った。
10 ブレード本体
11 弾性体
12 表面処理層
20 支持部材
Claims (2)
- ゴム基材の成形体である弾性体を有し、前記弾性体の被接触体と当接する部位に少なくとも表面処理層を有するクリーニングブレードであって、
前記表面処理層は、イソシアネート化合物と有機溶剤とを含有する表面処理液を前記弾性体の表層部に含浸し硬化して形成され、
前記表面処理層の押し込み弾性率は21MPa以上56MPa以下であり、
前記弾性体の押し込み弾性率は20MPaより大きく35MPa以下であり、
前記表面処理層の押し込み弾性率と前記弾性体の押し込み弾性率との差は、1MPa以上21MPa以下であることを特徴とするクリーニングブレード。 - 請求項1に記載のクリーニングブレードにおいて、
前記表面処理層は、厚さが10μm以上50μm以下であることを特徴とするクリーニングブレード。
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