JP6053481B2 - 炭化珪素焼結体およびその製造方法 - Google Patents
炭化珪素焼結体およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6053481B2 JP6053481B2 JP2012262802A JP2012262802A JP6053481B2 JP 6053481 B2 JP6053481 B2 JP 6053481B2 JP 2012262802 A JP2012262802 A JP 2012262802A JP 2012262802 A JP2012262802 A JP 2012262802A JP 6053481 B2 JP6053481 B2 JP 6053481B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon carbide
- sintered body
- slurry
- carbon
- carbide sintered
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 78
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 title claims description 73
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 48
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 47
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 claims description 38
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 claims description 37
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 claims description 36
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 claims description 36
- 239000002002 slurry Substances 0.000 claims description 33
- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 7
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 22
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 14
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 12
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- 238000000465 moulding Methods 0.000 description 8
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 7
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 6
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 5
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 description 5
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 4
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 4
- 239000012752 auxiliary agent Substances 0.000 description 4
- 238000000280 densification Methods 0.000 description 4
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 4
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 3
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 3
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 239000003245 coal Substances 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 239000002105 nanoparticle Substances 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 2
- 239000011271 tar pitch Substances 0.000 description 2
- 230000008719 thickening Effects 0.000 description 2
- 238000007088 Archimedes method Methods 0.000 description 1
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 238000001354 calcination Methods 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000003610 charcoal Substances 0.000 description 1
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 1
- 229910003460 diamond Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010432 diamond Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 235000013373 food additive Nutrition 0.000 description 1
- 239000002778 food additive Substances 0.000 description 1
- 239000008187 granular material Substances 0.000 description 1
- 229910052602 gypsum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010440 gypsum Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000003801 milling Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011505 plaster Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 1
Images
Description
炭化珪素焼結体は、炭化珪素の母材と助剤成分とで構成されており、焼結性が高く、その相対密度は、90%以上である。また、炭化珪素焼結体の研磨面1mm2当たりに存在する大きさ300μm以上のポアの数は、平均20個以下である。焼成工程で、残留炭素が作用する結果、表面では数百μmの大きさのポアの数が低減されている。その結果、炭化珪素焼結体は、パーティクル等の発生を防止し、半導体および液晶の製造装置用部材として好適に利用できる。
次に、上記のように構成された炭化珪素焼結体の製造方法を説明する。まず、炭化珪素セラミックスの粉末に所定の配合で、カーボン源としてカルボキシルメチルセルロースを添加し、炭化珪素セラミックスのスラリーを作製する。
実施例、比較例として炭化珪素焼結体を作製し、評価した。
原料については、スタルク製UF−10の炭化珪素を使用した。また、ホウ素源としてスタルク製1500FのB4Cを使用した。カーボン源には、カーボンブラックとして東海カーボン社製AquaBlack001を使用した。また、カルボキシルメチルセルロースとして、日本製紙ケミカル社製/MAC200HCを使用した。
このようにして得られた各実施例および比較例に対応するスラリーをそれぞれ顆粒化し、直径250mm、厚さ30mmの円板形状にCIP成形した。なお、成形方法は、CIP成形に限定されず、鋳込み成形や、排泥鋳込み成形、押し出し成形を用いても構わない。実施例1〜11および比較例1〜5は、スラリー粘度が15〜450mPa・sの範囲に含まれたが、比較例6〜7は、この範囲内から外れていた。
各成形体は、加熱して非酸化雰囲気炉において、2050℃×3.5時間で保持して焼成した。加熱により、残留炭素は、炭化珪素の表層の酸化層を除去し、反応活性化を促進させ、その後、残った残留炭素が助剤として作用する。以上の工程により、実施例1〜11および比較例1〜6は、焼結体を得られたが、比較例7、8では、焼結体を得られなかった。
上記の工程により得られた各実施例および比較例の炭化珪素焼結体について評価を行なった。相対密度は、アルキメデス法により算出した。研磨面上のポアは、1μmサイズのダイヤモンド砥粒で研磨した面をSEM観察し、研磨面1mm2当たりにおける大きさ300μm以上のポアの数量を測定した。測定対象箇所を所定数だけ選び、平均のポア数量を算出した。残炭量は、成形体を焼成する前に真空雰囲気炉において、800℃にて焼成し、焼成前後の重量変化量にて算出した。実施例1〜11については、相対密度が90%以上であり、研磨面1mm2当たりに存在する大きさ300μm以上のポアの数が平均20個以下であった。比較例1〜8についてはいずれも、相対密度またはポア数が基準を満たさなかった。
Claims (2)
- 炭化珪素セラミックスに、カーボン源としてカルボキシルメチルセルロースを添加してスラリーを作製する工程と、
前記スラリーを用いて成形体を生成する工程と、
前記成形体を非酸化雰囲気で焼成する工程とを含み、
800℃まで焼成した前記成形体において、炭化珪素100重量部に対して0.3重量部以上5.0重量部以下を占める残留炭素のうち、少なくともカルボキシルメチルセルロースによる残留炭素が3%以上含まれるように前記カーボン源としてカルボキシルメチルセルロースを添加することを特徴とする炭化珪素焼結体の製造方法。 - 前記スラリーの粘度を15mPa・s以上450mPa・s以下にすることを特徴とする請求項1記載の炭化珪素焼結体の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012262802A JP6053481B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 炭化珪素焼結体およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2012262802A JP6053481B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 炭化珪素焼結体およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2014108900A JP2014108900A (ja) | 2014-06-12 |
JP6053481B2 true JP6053481B2 (ja) | 2016-12-27 |
Family
ID=51029745
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2012262802A Active JP6053481B2 (ja) | 2012-11-30 | 2012-11-30 | 炭化珪素焼結体およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP6053481B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN116514554A (zh) * | 2023-05-11 | 2023-08-01 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种高抗压强度碳化硅陶瓷的制备方法 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5395807A (en) * | 1992-07-08 | 1995-03-07 | The Carborundum Company | Process for making silicon carbide with controlled porosity |
JP2920482B2 (ja) * | 1995-09-25 | 1999-07-19 | 科学技術庁無機材質研究所長 | 靱性に優れた炭化ケイ素焼結体及び製造方法 |
JP4047956B2 (ja) * | 1997-10-13 | 2008-02-13 | 株式会社ブリヂストン | 炭化ケイ素粉末の成形方法 |
JP2001130968A (ja) * | 1999-11-01 | 2001-05-15 | Bridgestone Corp | セラミックスラリー、及びその製造方法、並びにセラミック |
JP2001247367A (ja) * | 2000-03-03 | 2001-09-11 | Tokai Konetsu Kogyo Co Ltd | 炭化珪素質焼結体およびその製造方法 |
JP4766289B2 (ja) * | 2000-07-26 | 2011-09-07 | 日立化成工業株式会社 | 炭化珪素焼結体及びその製造法 |
JP2008156169A (ja) * | 2006-12-25 | 2008-07-10 | Bridgestone Corp | 炭化ケイ素顆粒、これを用いた炭化ケイ素焼結体の製造方法および炭化ケイ素焼結体 |
JPWO2011059041A1 (ja) * | 2009-11-12 | 2013-04-04 | 信越化学工業株式会社 | 炭化ケイ素粉末組成物及びそれを用いる炭化ケイ素成形体の製造方法 |
JP5926169B2 (ja) * | 2011-11-29 | 2016-05-25 | 京セラ株式会社 | セラミックス顆粒およびセラミック焼結体ならびに防護部材 |
-
2012
- 2012-11-30 JP JP2012262802A patent/JP6053481B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2014108900A (ja) | 2014-06-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5862765B2 (ja) | 窒化ケイ素粉末の製造方法及び窒化ケイ素粉末、ならびに窒化ケイ素焼結体の製造方法 | |
JP2013507526A (ja) | 酸化スズセラミックスパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP2016510363A (ja) | ZnO−Al2O3−MgOスパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
NO20172052A1 (en) | Sinterable powder for making a dense slip casted pressureless sintered sic based ceramic product | |
WO2020004304A1 (ja) | セラミックス製造用顆粒の製造方法 | |
JP6053481B2 (ja) | 炭化珪素焼結体およびその製造方法 | |
JP4889223B2 (ja) | 酸化アルミニウム質焼結体とこれを用いた半導体製造装置用部材並びに液晶製造装置用部材 | |
JP2012046365A (ja) | アルミナセラミックス | |
JP2009096697A5 (ja) | ||
CN105622102B (zh) | 类碳化硼相‑碳化硅或类碳化硼相‑碳化硅‑碳化硼复相陶瓷材料及其制备方法 | |
JP2010189203A (ja) | SiC系耐摩耗材料およびその製造方法 | |
JP2009096697A (ja) | ゼオライト膜用アルミナ質基体及びその製造方法 | |
JP2014125422A (ja) | 酸化物焼結体、酸化物焼結体スパッタリングターゲットおよびその製造方法 | |
JP5928694B2 (ja) | アルミナ質焼結体及びその製造方法 | |
JP2014009119A (ja) | アルミナ質焼結体及びその製造方法 | |
JP6520523B2 (ja) | 酸化物焼結体、その製造方法及びスパッタリングターゲット | |
EP2551251B1 (en) | Columnar aluminum titanate and method for producing same | |
JP2008074667A (ja) | 炭化ケイ素焼結体シート及びその製造方法 | |
CN105330265B (zh) | 一种适于量产β”-Al2O3隔膜的方法 | |
JP2014043598A (ja) | InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法 | |
JP5602820B2 (ja) | ZnO焼結体の製造方法 | |
JP2013159848A (ja) | スパッタリングターゲット及びその製造方法 | |
JP2010222176A (ja) | ZnO焼結体及びその製造方法 | |
JPH06191931A (ja) | アルミナ焼結体用組成物及びアルミナ焼結体 | |
JP6188027B2 (ja) | 不定形耐火物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20150327 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20151016 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20160415 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20160729 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20160906 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20161021 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161122 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161129 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6053481 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |