JP2014043598A - InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】長尺のターゲットを構成することができるInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の一実施形態に係るInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を少なくとも含む混合粉末から、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を作製し、上記造粒粉末を100MPa以上の圧力で成形し、上記造粒粉末の成形体を1250℃以上1550℃以下の温度で焼成する。
【選択図】図1
【解決手段】本発明の一実施形態に係るInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を少なくとも含む混合粉末から、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を作製し、上記造粒粉末を100MPa以上の圧力で成形し、上記造粒粉末の成形体を1250℃以上1550℃以下の温度で焼成する。
【選択図】図1
Description
本発明は、例えば、スパッタリングターゲットに用いられるInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法に関する。
InZnO系酸化物薄膜は、導電性と透明性を有する酸化物半導体であり、ディスプレイや薄膜太陽電池等への適用が進められている。InZnO系薄膜は、例えば、InZnO系焼結体で構成されたターゲット材をスパッタすることで成膜される。例えば下記特許文献1には、InGaZnO系スパッタリングターゲットの製造方法が提案されている。
一方、近年における基板サイズの大型化に伴い、成膜用のターゲットも大型基板への対応が迫られている。例えば下記特許文献2には、複数のターゲット部材をバッキングプレート上に接合することで構成された長尺型のターゲットが記載されている。
しかしながら特許文献1には直径100mm程度の比較的小型の焼結体の製造方法が記載されているのみで、例えば長辺2000mmを超える長尺ターゲット用の高密度な焼結体を製造することについては何も記載されていない。
一方、分割構造のターゲットは、各々のターゲット材間の継ぎ目に一定の隙間を有する。このためバッキングプレートへの接合時、あるいはスパッタリング時の温度上昇により、上記隙間へボンディング材が侵入することがある。その状態でターゲットをスパッタすると、ボンディング材もスパッタされることで、成膜される薄膜の中にボンディング材の構成元素が不純物として混入し、膜特性を著しく悪化させる原因となる。
以上のような事情に鑑み、本発明の目的は、長尺のターゲットを構成することができるInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法を提供することにある。
上記目的を達成するため、本発明の一形態に係るInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を少なくとも含む混合粉末から、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を作製することを含む。
上記造粒粉末は、100MPa以上の圧力で成形される。
上記造粒粉末の成形体は、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される。
上記造粒粉末は、100MPa以上の圧力で成形される。
上記造粒粉末の成形体は、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される。
本発明の一実施形態に係るInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を少なくとも含む混合粉末から、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を作製することを含む。
上記造粒粉末は、100MPa以上の圧力で成形される。
上記造粒粉末の成形体は、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される。
上記造粒粉末は、100MPa以上の圧力で成形される。
上記造粒粉末の成形体は、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される。
上記InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、原料粉末として酸化インジウム(In2O3)粉末および酸化亜鉛(ZnO)粉末を少なくとも含む。これに加えて、酸化ガリウム(Ga2O3)粉末、酸化アルミニウム(Al2O3)粉末、酸化チタン(TiO2)粉末、酸化マグネシウム(MgO)粉末、酸化ケイ素(SiO2)粉末等のうち一種類以上の粉末が混合されてもよい。すなわち上記InZnO系スパッタリングターゲットは、IZOだけでなく、IGZO、IZO−Al、IZO−Ti、IZO−Mg、IZO−Si等のスパッタリングターゲットが含まれる。
造粒粉末の平均粒子径は、500μm以下とされる。造粒粉末の平均粒子径が500μmを超えると、成形体のクラックや割れの発生が顕著となるとともに、焼成体の表面に粒状の点が多発する。このような焼成体をスパッタリング用ターゲットに使用すると、異常放電あるいはパーティクル発生の原因となるおそれがある。
造粒粉末のより好ましい平均粒子径は、20μm以上100μm以下である。これにより、CIP成形前後での体積の変化(圧縮率)が小さくなり、成形体へのクラック発生を抑制できるため、長尺の成形体を安定して作製することができる。なお平均粒子径が20μm未満の場合、粉末が舞い上がり易くなるため取り扱いが困難になる。
ここで、本明細書において「平均粒子径」とは、ふるい分け式粒度分布測定器で測定した粒度分布の積算%が50%の値を意味する。また、平均粒子径の値は、株式会社セイシン企業製「Robot Sifter RPS-105M」による測定値を用いた。
造粒粉末は、100MPa以上の圧力で成形される。これにより相対密度が99%以上の焼結体を得ることができる。成形圧力が100MPa未満の場合、成形体が壊れやすく、ハンドリングが困難であり、焼結体の相対密度も低下する傾向にある。成形方法は、典型的には、CIP(Cold Isostatic Press)法が採用される。
造粒粉末の成形体は、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される。焼成温度が1250℃未満の場合、導電性および相対密度がいずれも低くなり、ターゲット用途には向かなくなる。一方、焼成温度が1550℃を超えると、亜鉛の蒸発が激しくなり、焼成体の組成ずれが発生しやすくなる。また結晶粒の粗大化によって焼成体の強度の低下を招く場合がある。
成形体は、大気あるいは酸化性雰囲気で焼成される。これにより目的とする酸化物焼結体を安定に製造することができる。また、酸素は焼結助剤としての機能を有するため、相対密度の高い焼結体を得ることができる。
上記造粒粉末の作製には、一次粒子の平均粒子径がそれぞれ0.3μm以上1.5μm以下である酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を用いることができる。これにより混合・粉砕時間の短縮が可能となり、かつ、得られる造粒粉内の原料粉末の分散性が向上する。
上記造粒粉末の安息角は、32°以下であることが好ましい。これにより造粒粉末の流動性が高まり、成形性および焼結性を向上させることができる。
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係るInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法を説明する工程フローである。本実施形態のInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法は、秤量工程(ステップ101)と、粉砕・混合工程(ステップ102)と、造粒工程(ステップ103)と、成形工程(ステップ104)と、焼成工程(ステップ105)と、加工工程(ステップ106)とを有する。
(秤量、粉砕・混合工程)
原料粉末には、酸化インジウム(In2O3)粉末と、酸化亜鉛(ZnO)粉末と、酸化ガリウム(Ga2O3)粉末とが用いられる。これら各粉末を秤量し、ボールミル等により粉砕、混合して、スラリーを製造する(ステップ101,102)。
原料粉末には、酸化インジウム(In2O3)粉末と、酸化亜鉛(ZnO)粉末と、酸化ガリウム(Ga2O3)粉末とが用いられる。これら各粉末を秤量し、ボールミル等により粉砕、混合して、スラリーを製造する(ステップ101,102)。
原料粉末としては、例えば、一次粒子の平均粒子径が0.3μm以上1.5μm以下に調整されたものが使用される。これにより粉砕・混合工程を比較的短時間で行うことが可能となる。また、得られる造粒粉内の酸化インジウム、酸化亜鉛および酸化ガリウムの分散性が向上する。
それぞれの原料粉末の混合割合は、スパッタリングを実施する条件および成膜すべき膜の用途等によって適宜設定される。仕様によっては、上記各原料粉末のほか、酸化アルミニウム(Al2O3)粉末、酸化チタン(TiO2)粉末、酸化マグネシウム(MgO)粉末、酸化ケイ素(SiO2)粉末等の金属酸化物粉末の少なくとも一種以上がさらに混合されてもよい。また、原料粉末の混合には、バインダー、分散剤等が添加されてもよい。
原料粉末の粉砕・混合方法としては、ボールミル以外にも、例えばビーズミル、ロッドミル等の他の媒体攪拌ミルが使用可能であり、湿式に限られず、乾式でもよい。撹拌媒体となるボールやビーズの表面に樹脂コート等が施されてもよく、これにより粉体中への不純物の混入を効果的に抑制することができる。
(造粒工程)
次に、上記スラリーを乾燥し分級することによって、原料粉末を造粒する(ステップ103)。造粒は、配合成分の比率固定化、原料粉末のハンドリング性の向上等を目的として実施される。造粒することにより、粉末の嵩(かさ)密度・タップ密度および安息角の調整が可能となり、長尺ターゲットのCIP成形時において成形体のクラックの発生を抑制することができる。
次に、上記スラリーを乾燥し分級することによって、原料粉末を造粒する(ステップ103)。造粒は、配合成分の比率固定化、原料粉末のハンドリング性の向上等を目的として実施される。造粒することにより、粉末の嵩(かさ)密度・タップ密度および安息角の調整が可能となり、長尺ターゲットのCIP成形時において成形体のクラックの発生を抑制することができる。
造粒方法は特に限定されず、スプレードライヤ等を用いてスラリーを直接乾燥させて造粒することも可能である。またスラリーを用いない乾式の造粒方法も適用可能である。
造粒粉末の平均粒子径は500μm以下、特に本実施形態では20μm以上100μm以下の平均粒子径で造粒粉末が作製される。これにより比較的長尺の成形体を安定に作製することが可能となる。造粒粉末の平均粒子径が500μmを超えると、焼成体の表面に粒状の点が多発する。このような焼成体をスパッタリング用ターゲットに使用すると、異常放電あるいはパーティクル発生の原因となるおそれがある。
造粒粉末は、流動性が高い方が好ましく、例えばその安息角が32°以下となるように原料粉末が造粒される。これにより造粒粉末の流動性が高まり、成形性および焼成性を向上させることができる。すなわち、安息角が大きい場合、成形工程(CIP)において成形体にクラックが発生しやすくなり、焼成工程において焼成体に色むらが発生しやすくなるという傾向がある。
造粒粉末の安息角は、以下のようにして制御することができる。例えば、造粒方法としてスラリーを乾燥してロールミルで粉砕、分級する場合は、当該ロールミルによる粉末の処理時間、処理回数で安息角を制御することができる。一方、造粒方法としてスプレードライヤ等を用いて直接乾燥させる場合は、スラリー濃度、粘度、スプレードライヤの条件等で安息角を制御することができる。
(成形工程)
成形工程では、造粒粉末が所定形状に成形される(ステップ104)。典型的には、目的とする長尺のターゲットが得られる矩形または円形の板形状に成形される。成形方法は、典型的には、CIP(Cold Isostatic Press)法が採用されるが、これ以外にも、金型プレス法等が採用されてもよい。
成形工程では、造粒粉末が所定形状に成形される(ステップ104)。典型的には、目的とする長尺のターゲットが得られる矩形または円形の板形状に成形される。成形方法は、典型的には、CIP(Cold Isostatic Press)法が採用されるが、これ以外にも、金型プレス法等が採用されてもよい。
成形圧力は、100MPa以上とされる。成形圧力が100MPa未満の場合、成形体が壊れやすく、ハンドリングが困難であり、焼結体の相対密度も低下する傾向にある。一方、成形圧力を100MPa以上とすることにより、相対密度が99%以上の焼結体を得ることができる。
(焼成工程)
焼成工程では、造粒粉末の成形体が、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される(ステップ105)。焼成温度が1250℃未満の場合、導電性および相対密度がいずれも低くなり、ターゲット用途には向かなくなる。一方、焼成温度が1550℃を超えると、亜鉛の蒸発が激しくなり、焼成体の組成ずれが発生しやすくなる。また結晶粒の粗大化によって焼成体の強度の低下を招く場合がある。焼成温度を1300℃以上1550℃以下にすることで、高密度(相対密度95%以上)の焼成体を安定して作製することができる。
焼成工程では、造粒粉末の成形体が、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成される(ステップ105)。焼成温度が1250℃未満の場合、導電性および相対密度がいずれも低くなり、ターゲット用途には向かなくなる。一方、焼成温度が1550℃を超えると、亜鉛の蒸発が激しくなり、焼成体の組成ずれが発生しやすくなる。また結晶粒の粗大化によって焼成体の強度の低下を招く場合がある。焼成温度を1300℃以上1550℃以下にすることで、高密度(相対密度95%以上)の焼成体を安定して作製することができる。
焼成時間(焼成温度での保持時間)は特に限定されず、例えば、2時間以上20時間以下とされる。これにより、相対密度が6.25g/cm3(98.5%)以上であるアモルファス半導体用酸化物スパッタリングターゲット用焼成体を得ることができる。
焼成時の炉内の雰囲気は、大気あるいは酸化性雰囲気とされる。これにより目的とする酸化物焼結体を安定に製造することができる。また、酸素は焼結助剤としての機能を有するため、相対密度の高い焼結体を得ることができる。焼成時の圧力は、例えば常圧とされる。成形体を常圧で焼成すると、通常、15〜20mΩ・cmの比抵抗を有する焼成体を得ることができる。なお焼成体の比抵抗は焼成温度が高温であるほど低下する傾向にあるため、比較的高い導電性を確保する場合には、焼成温度は高い方が好ましい。
なお、焼成炉内が還元性雰囲気の場合、焼成体に酸素欠損が生じて酸化物というよりメタルに近い特性となる傾向にある。また、窒素やアルゴン雰囲気で焼成すると、相対密度が上がらないことが懸念される。
(加工工程)
以上のようにして作製された焼成体は、所望の形状、大きさ、厚みの板形状に機械加工されることで、InGaZnO系焼結体からなるスパッタリングターゲットが作製される(ステップ106)。当該スパッタリングターゲットは、バッキングプレートへロウ接により一体化される。
以上のようにして作製された焼成体は、所望の形状、大きさ、厚みの板形状に機械加工されることで、InGaZnO系焼結体からなるスパッタリングターゲットが作製される(ステップ106)。当該スパッタリングターゲットは、バッキングプレートへロウ接により一体化される。
本実施形態によれば、相対密度が高く、表面性状に優れたInGaZnO系スパッタリングターゲットを製造することができる。
特に本実施形態によれば、長手方向の長さが1mを越す長尺のスパッタリングターゲットを作製することができる。これにより分割構造でない大型のスパッタリングターゲットを作製できるため、分割部の隙間(継ぎ目)に侵入したボンディング材(ロウ材)がスパッタされることで発生し得る膜特性の劣化を防止し、安定した成膜が可能となる。また、上記隙間へ堆積したスパッタ粒子の再付着(リデポ)を原因とするパーティクル発生の問題が生じることもない。
以下、本発明者らが行った実験例について説明する。
(実験例1)
原料粉末として、一次粒子の平均粒子径が1.1μmである酸化インジウム粉末と、一次粒子の平均粒子径が0.5μmである酸化亜鉛粉末と、一次粒子の平均粒子径が1.3μmである酸化ガリウム粉末とを、酸化物のモル比で1:1:2となるようにそれぞれ秤量した。次に、これらの原料粉末を湿式ボールミルにて粉砕、混合した。媒体に用いたボールには、直径10mmのジルコニアボールを使用した。そして、粉砕混合したスラリーをスプレードライヤで乾燥造粒し、平均粒子径60μm、安息角26°の造粒粉末を得た。
原料粉末として、一次粒子の平均粒子径が1.1μmである酸化インジウム粉末と、一次粒子の平均粒子径が0.5μmである酸化亜鉛粉末と、一次粒子の平均粒子径が1.3μmである酸化ガリウム粉末とを、酸化物のモル比で1:1:2となるようにそれぞれ秤量した。次に、これらの原料粉末を湿式ボールミルにて粉砕、混合した。媒体に用いたボールには、直径10mmのジルコニアボールを使用した。そして、粉砕混合したスラリーをスプレードライヤで乾燥造粒し、平均粒子径60μm、安息角26°の造粒粉末を得た。
続いて、上記造粒粉末を幅260mm、長さ3400mmの型に充填し、冷間静水圧プレス機にて加圧成形を行った。成形圧力は140MPaとした。その結果、表面に欠陥(クラック、粒状の点欠陥等)のない成形体が得られた。次いで、成形体を大気炉にて、1430℃で10時間焼成した。焼成体の相対密度は、99%以上であった。その後、焼成体を外形加工することで、幅200mm、長さ2650mm、厚み8mmのIGZOターゲットが得られた。
(実験例2)
造粒粉末の平均粒子径を250μm、安息角を32°、成形圧力を180MPa、焼成温度を1480℃、焼成雰囲気を酸素雰囲気とした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度99%以上の焼成体が得られた。
造粒粉末の平均粒子径を250μm、安息角を32°、成形圧力を180MPa、焼成温度を1480℃、焼成雰囲気を酸素雰囲気とした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度99%以上の焼成体が得られた。
(実験例3)
造粒粉末の平均粒子径が150μm、成形圧力を60MPaとした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、成形体が壊れやすく、欠け等が発生した。成形性が悪かったため、焼成は行わなかった。
造粒粉末の平均粒子径が150μm、成形圧力を60MPaとした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、成形体が壊れやすく、欠け等が発生した。成形性が悪かったため、焼成は行わなかった。
(実験例4)
焼成温度を1250℃とした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度92%の焼成体が得られた。
焼成温度を1250℃とした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度92%の焼成体が得られた。
(実験例5)
原料粉末の平均粒子径を各々1.5μmとした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度95%の焼成体が得られた。
原料粉末の平均粒子径を各々1.5μmとした以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、表面欠陥のない、相対密度95%の焼成体が得られた。
(実験例6)
安息角35°の造粒粉を使用した以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、成形体にクラックが発生していた。成形性が悪かったため、焼成は行わなかった。
安息角35°の造粒粉を使用した以外は、実験例1と同一の条件でIGZO焼成体を作製した。その結果、成形体にクラックが発生していた。成形性が悪かったため、焼成は行わなかった。
実験例1〜5の条件および評価結果を表1に示す。
以上のように、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を100MPa以上の圧力で成形した後、1250℃以上1550℃以下の温度で焼成した焼成体のサンプル(実験例1,2,4,5)によれば、良好な成形性を確保できるとともに、90%以上の相対密度を有する焼成体を安定に製造することができる。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は上述の実施形態にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。
例えば以上の実施形態では、IGZO(InGaZnO)系スパッタリングターゲットの製造方法を例に挙げて説明したが、これ以外にも、IZO(InZnO)系スパッタリングターゲットの製造にも、本発明は適用可能である。
ST101…秤量工程
ST102…粉砕・混合工程
ST103…造粒工程
ST104…成形工程
ST105…焼成工程
ST106…加工工程
ST102…粉砕・混合工程
ST103…造粒工程
ST104…成形工程
ST105…焼成工程
ST106…加工工程
Claims (3)
- 酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を少なくとも含む混合粉末から、平均粒子径が500μm以下の造粒粉末を作製し、
前記造粒粉末を100MPa以上の圧力で成形し、
前記造粒粉末の成形体を1250℃以上1550℃以下の温度で焼成する
InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項1に記載のInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法であって、
前記造粒粉末を作製する工程は、一次粒子の平均粒子径がそれぞれ0.3μm以上1.5μm以下である酸化インジウム粉末および酸化亜鉛粉末を用いる
InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法。 - 請求項1又は2に記載のInZnO系スパッタリングターゲットの製造方法であって、
前記造粒粉末を作製する工程は、安息角が32°以下となるように前記造粒粉末を作製する
InZnO系スパッタリングターゲットの製造方法。
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