JP6049991B2 - 複合荷電粒子ビーム装置 - Google Patents
複合荷電粒子ビーム装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP6049991B2 JP6049991B2 JP2011204507A JP2011204507A JP6049991B2 JP 6049991 B2 JP6049991 B2 JP 6049991B2 JP 2011204507 A JP2011204507 A JP 2011204507A JP 2011204507 A JP2011204507 A JP 2011204507A JP 6049991 B2 JP6049991 B2 JP 6049991B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- focused ion
- ion beam
- electron beam
- sample
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 title claims description 36
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims description 71
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 claims description 70
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 26
- 238000000879 optical micrograph Methods 0.000 claims description 18
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 claims description 8
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 8
- 239000011163 secondary particle Substances 0.000 claims description 5
- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 5
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 description 3
- 238000001887 electron backscatter diffraction Methods 0.000 description 2
- 238000004141 dimensional analysis Methods 0.000 description 1
- 239000010408 film Substances 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 230000007257 malfunction Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 238000012544 monitoring process Methods 0.000 description 1
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/261—Details
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/2206—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement
- G01N23/2208—Combination of two or more measurements, at least one measurement being that of secondary emission, e.g. combination of secondary electron [SE] measurement and back-scattered electron [BSE] measurement all measurements being of a secondary emission, e.g. combination of SE measurement and characteristic X-ray measurement
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N1/00—Sampling; Preparing specimens for investigation
- G01N1/28—Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
- G01N1/32—Polishing; Etching
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N23/00—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
- G01N23/22—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
- G01N23/225—Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material using electron or ion
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/26—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes
- H01J37/28—Electron or ion microscopes; Electron or ion diffraction tubes with scanning beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/30—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
- H01J37/317—Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/07—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission
- G01N2223/081—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission incident ion beam, e.g. proton
- G01N2223/0816—Investigating materials by wave or particle radiation secondary emission incident ion beam, e.g. proton incident ion beam and measuring secondary ion beam [SIMS]
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/102—Different kinds of radiation or particles beta or electrons
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N2223/00—Investigating materials by wave or particle radiation
- G01N2223/10—Different kinds of radiation or particles
- G01N2223/105—Different kinds of radiation or particles molecular or atomic beams
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/20—Positioning, supporting, modifying or maintaining the physical state of objects being observed or treated
- H01J2237/202—Movement
- H01J2237/20278—Motorised movement
- H01J2237/20285—Motorised movement computer-controlled
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/3174—Etching microareas
- H01J2237/31745—Etching microareas for preparing specimen to be viewed in microscopes or analyzed in microanalysers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2237/00—Discharge tubes exposing object to beam, e.g. for analysis treatment, etching, imaging
- H01J2237/30—Electron or ion beam tubes for processing objects
- H01J2237/317—Processing objects on a microscale
- H01J2237/31749—Focused ion beam
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
Description
本発明に係る複合荷電粒子ビーム装置は、集束イオンビーム鏡筒と、前記集束イオンビーム鏡筒に対し略直角に配置された電子ビーム鏡筒と、試料を移動させる試料ステージと、前記試料から発生する二次粒子を検出する検出器と、前記検出器の検出信号から集束イオンビーム像及び電子ビーム像を形成する観察像形成部と、前記試料を観察する光学顕微鏡と、前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに光学顕微鏡像のうち複数の観察画像を表示可能であり、かつ所望の観察画像を選択可能な表示部と、前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに前記光学顕微鏡像の複数の観察画像のうち前記表示部で選択した一の観察画像の縦横の方向に合わせて前記試料ステージの移動方向の座標系を変更するステージ制御部と、を有する。
これにより、異なる種類の観察像の座標系で指定した試料ステージの移動方向に対し、一つの試料ステージをそれぞれの座標系に対応した方向に移動させることが可能である。
さらに本発明に係る複合荷電粒子ビーム装置は、集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒と、電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射軸が前記集束イオンビームの照射軸に対し略垂直に配置された電子ビーム鏡筒と、試料を移動させ、前記電子ビームの照射軸と前記集束イオンビームの照射軸と、これらの照射軸に直交する軸に平行な駆動軸を少なくとも有する試料ステージと、前記試料から発生する二次粒子を検出する検出器と、前記検出器の検出信号から集束イオンビーム像及び電子ビーム像を形成する観察像形成部と、前記試料を観察する光学顕微鏡と、前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに光学顕微鏡像のうち複数の観察画像を表示可能であり、かつ所望の観察画像を選択可能な表示部と、前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに前記光学顕微鏡像の複数の観察画像のうち前記表示部で選択した一の観察画像の座標系に合わせて試料ステージの移動方向の座標系を変更させるステージ制御部と、を有する。
また、本発明に係る複合荷電粒子ビーム装置のステージ制御部は、集束イオンビーム像または電子ビーム像上で指定した位置が指定した集束イオンビーム像または電子ビーム像の中心に表示されるように試料ステージを移動させる。
また、本発明に係る複合荷電粒子ビーム装置のステージ制御部は、集束イオンビーム鏡筒と電子ビーム鏡筒のビーム照射軸を中心に試料ステージを回転させる。
図1に示すように、本実施形態の複合荷電粒子ビーム装置は、試料室1内で試料11を移動させる試料ステージ2を備える。また、試料11に電子ビームを照射する電子ビーム鏡筒5と、集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒4を備え、電子ビーム鏡筒5と集束イオンビーム鏡筒4は、ビーム照射軸が互いに略垂直に交差するように配置されている。
また、入力部15から装置操作の指示を入力すると、制御部13から集束イオンビーム鏡筒4、電子ビーム鏡筒5、試料ステージ2を制御するステージ制御部3、像形成部12に制御信号を送信し、複合荷電粒子ビーム装置を制御する。
第一の表示部9、第二の表示部10に表示する像は、ビーム照射方向に対して略垂直な面の横方向をX軸方向、縦方向をY軸方向、また、ビーム照射方向と平行な方向をZ軸方向として表示する。
上記の説明では電子ビーム像を用いたが、電子ビーム像の代わりに反射電子像、透過電子像、EDS像、またはEBSD像を用いることも可能である。
2…試料ステージ
3…ステージ制御部
4…集束イオンビーム鏡筒
5…電子ビーム鏡筒
6…検出器
9…第一の表示部
10…第二の表示部
11…試料
2X…試料ステージの横方向駆動軸(X軸)
2Y…試料ステージの縦方向駆動軸(Y軸)
2Z…試料ステージの高さ方向駆動軸(Z軸)
9X…集束イオンビーム像のX軸方向
9Y…集束イオンビーム像のY軸方向
10X…電子ビーム像のX軸方向
10Y…電子ビーム像のY軸方向
2R…試料ステージの集束イオンビーム照射方向に平行な回転方向駆動軸
9R…集束イオンビームに平行な回転軸を中心に時計回りの回転方向
10T…電子ビームに略垂直な回転軸を中心に時計回りの回転方向
Claims (5)
- 集束イオンビーム鏡筒と、
前記集束イオンビーム鏡筒に対し略直角に配置された電子ビーム鏡筒と、
試料を移動させる試料ステージと、
前記試料から発生する二次粒子を検出する検出器と、
前記検出器の検出信号から集束イオンビーム像及び電子ビーム像を形成する観察像形成部と、
前記試料を観察する光学顕微鏡と、
前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに光学顕微鏡像のうち複数の観察画像を表示可能であり、かつ所望の観察画像を選択可能な表示部と、
前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに前記光学顕微鏡像の複数の観察画像のうち前記表示部で選択した一の観察画像の縦横の方向に合わせて前記試料ステージの移動方向の座標系を変更するステージ制御部と、を有する複合荷電粒子ビーム装置。 - 集束イオンビームを照射する集束イオンビーム鏡筒と、
電子ビームを照射し、前記電子ビームの照射軸が前記集束イオンビームの照射軸に対し略垂直に配置された電子ビーム鏡筒と、
試料を移動させ、前記電子ビームの照射軸と前記集束イオンビームの照射軸と、これらの照射軸に直交する軸に平行な駆動軸を少なくとも有する試料ステージと、
前記試料から発生する二次粒子を検出する検出器と、
前記検出器の検出信号から集束イオンビーム像及び電子ビーム像を形成する観察像形成部と、
前記試料を観察する光学顕微鏡と、
前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに光学顕微鏡像のうち複数の観察画像を表示可能であり、かつ所望の観察画像を選択可能な表示部と、
前記集束イオンビーム像及び前記電子ビーム像並びに前記光学顕微鏡像の複数の観察画像のうち前記表示部で選択した一の観察画像の座標系に合わせて試料ステージの移動方向の座標系を変更させるステージ制御部と、
を有する複合荷電粒子ビーム装置。 - 前記表示部は、前記光学顕微鏡像に前記試料ステージの駆動軸の座標系を表示する請求項1または2に記載の複合荷電粒子ビーム装置。
- 前記ステージ制御部は、前記集束イオンビーム像または前記電子ビーム像上で指定した位置が指定した前記集束イオンビーム像または前記電子ビーム像の中心に表示されるように前記試料ステージを移動させる請求項1乃至3のいずれか一つに記載の複合荷電粒子ビーム装置。
- 前記ステージ制御部は、前記集束イオンビーム鏡筒と前記電子ビーム鏡筒のビーム照射軸を中心に前記試料ステージを回転させる請求項1乃至4のいずれか一つに記載の複合荷電粒子ビーム装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011204507A JP6049991B2 (ja) | 2011-09-20 | 2011-09-20 | 複合荷電粒子ビーム装置 |
US13/622,028 US9024280B2 (en) | 2011-09-20 | 2012-09-18 | Composite charged particle beam apparatus |
DE102012108823.3A DE102012108823B4 (de) | 2011-09-20 | 2012-09-19 | Zusammengesetzte Ladungsteilchenstrahlvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011204507A JP6049991B2 (ja) | 2011-09-20 | 2011-09-20 | 複合荷電粒子ビーム装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013065511A JP2013065511A (ja) | 2013-04-11 |
JP6049991B2 true JP6049991B2 (ja) | 2016-12-21 |
Family
ID=47751484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011204507A Active JP6049991B2 (ja) | 2011-09-20 | 2011-09-20 | 複合荷電粒子ビーム装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9024280B2 (ja) |
JP (1) | JP6049991B2 (ja) |
DE (1) | DE102012108823B4 (ja) |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6271189B2 (ja) * | 2013-09-02 | 2018-01-31 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム装置 |
US9679743B2 (en) * | 2015-02-23 | 2017-06-13 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Sample processing evaluation apparatus |
CN105651792A (zh) * | 2015-12-30 | 2016-06-08 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 扫描电镜中透射电子菊池衍射装置及分析方法 |
US10242842B2 (en) | 2016-03-25 | 2019-03-26 | Hitachi High-Tech Science Corporation | Method for cross-section processing and observation and apparatus therefor |
DE112016006875B4 (de) * | 2016-06-17 | 2022-05-12 | Hitachi High-Tech Corporation | Ladungsteilchenstrahlvorrichtung sowie verfahren zum betrachten einer probe |
JP7171010B2 (ja) * | 2018-03-07 | 2022-11-15 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 断面加工観察装置、断面加工観察方法及びプログラム |
JP7061192B2 (ja) * | 2018-08-02 | 2022-04-27 | 株式会社日立ハイテク | 荷電粒子線装置 |
KR102476186B1 (ko) * | 2018-12-06 | 2022-12-12 | 주식회사 히타치하이테크 | 하전 입자선 장치 |
CN109827976B (zh) * | 2019-03-14 | 2024-01-05 | 中国科学院上海应用物理研究所 | 一种在线观测和调节x射线光束和样品的光学系统 |
JP7360871B2 (ja) * | 2019-09-24 | 2023-10-13 | 株式会社日立ハイテクサイエンス | 荷電粒子ビーム照射装置、及び制御方法 |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6231720A (ja) | 1985-07-31 | 1987-02-10 | Copal Electron Co Ltd | 磁気軸受のダンパ装置 |
JPS63266745A (ja) * | 1987-04-24 | 1988-11-02 | Nikon Corp | 試料像の視野移動装置 |
JPH0613011A (ja) * | 1991-12-12 | 1994-01-21 | Denshi Kogaku Kenkyusho:Kk | 電子顕微鏡の試料位置制御装置 |
JP3119959B2 (ja) | 1993-02-05 | 2000-12-25 | セイコーインスツルメンツ株式会社 | 集束イオンビーム装置および加工観察装置 |
DE29507225U1 (de) * | 1995-04-29 | 1995-07-13 | Grünewald, Wolfgang, Dr.rer.nat., 09122 Chemnitz | Ionenstrahlpräparationsvorrichtung für die Elektronenmikroskopie |
JPH09306403A (ja) * | 1996-05-20 | 1997-11-28 | Hitachi Ltd | 試料処理装置 |
JP3436456B2 (ja) * | 1996-06-14 | 2003-08-11 | 三菱電機株式会社 | エミッション顕微鏡による半導体装置の故障解析方法及び半導体装置故障解析システム |
JP3897271B2 (ja) * | 1999-09-17 | 2007-03-22 | 株式会社日立製作所 | 加工観察装置及び試料加工方法 |
EP1209737B2 (en) * | 2000-11-06 | 2014-04-30 | Hitachi, Ltd. | Method for specimen fabrication |
JP2007018935A (ja) * | 2005-07-08 | 2007-01-25 | Hitachi High-Technologies Corp | プローブ付き顕微鏡及びプローブ接触方法 |
JP2008270072A (ja) * | 2007-04-24 | 2008-11-06 | Sii Nanotechnology Inc | 荷電粒子ビーム装置 |
US8440969B2 (en) * | 2010-08-02 | 2013-05-14 | Omniprobe, Inc. | Method and apparatus for acquiring simultaneous and overlapping optical and charged particle beam images |
-
2011
- 2011-09-20 JP JP2011204507A patent/JP6049991B2/ja active Active
-
2012
- 2012-09-18 US US13/622,028 patent/US9024280B2/en active Active
- 2012-09-19 DE DE102012108823.3A patent/DE102012108823B4/de active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US9024280B2 (en) | 2015-05-05 |
DE102012108823A1 (de) | 2013-03-21 |
DE102012108823B4 (de) | 2021-07-01 |
JP2013065511A (ja) | 2013-04-11 |
US20130075606A1 (en) | 2013-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6049991B2 (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
JP5612493B2 (ja) | 複合荷電粒子ビーム装置 | |
JP4851804B2 (ja) | 集束イオンビーム加工観察装置、集束イオンビーム加工観察システム及び加工観察方法 | |
KR102552236B1 (ko) | 복합 하전 입자 빔 장치 | |
JP5142240B2 (ja) | 荷電ビーム装置及び荷電ビーム加工方法 | |
KR20140029285A (ko) | 복합 하전 입자 빔 장치 및 박편 시료 가공 방법 | |
US10629412B2 (en) | Apparatus with two or more particle beams for processing a specimen | |
JP2015159108A (ja) | 荷電粒子ビーム装置および試料観察方法 | |
JP5981744B2 (ja) | 試料観察方法、試料作製方法及び荷電粒子ビーム装置 | |
CN105957789B (zh) | 用于通过离子铣处理试样的方法、设备、系统和软件 | |
US9214316B2 (en) | Composite charged particle beam apparatus | |
US8642980B2 (en) | Composite charged particle beam apparatus | |
JP5710887B2 (ja) | 複合荷電粒子加工観察装置 | |
JP2009109236A (ja) | アトムプローブ用針状試料の加工方法及び集束イオンビーム装置 | |
TWI813760B (zh) | 試料加工觀察方法 | |
KR101539738B1 (ko) | 주사전자 현미경 | |
JP6316453B2 (ja) | 荷電粒子線装置及び荷電粒子線装置による観察方法 | |
JP2013114881A (ja) | 試料解析装置 | |
JP7214262B2 (ja) | 荷電粒子ビーム装置、試料加工方法 | |
JP2022058268A (ja) | 断層撮影画像化装置を使用して標本を調査する方法 | |
JP5934521B2 (ja) | 試料解析装置 | |
JP2011233249A (ja) | イオンビーム照射位置決め装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20140616 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20150202 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20150526 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150727 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20151117 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160115 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20160607 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20160907 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20160914 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20161025 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20161124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 6049991 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |